一種覆銅箔基板真空吸附移載的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，包括安裝在導(dǎo)軌上并能沿所述導(dǎo)軌滑行的機(jī)架，所述的機(jī)架下方設(shè)有用于吸附覆銅箔基板的吸盤，所述的機(jī)架上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述的吸盤上下升降的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述的吸盤包括吸盤本體，所述的吸盤本體的底部設(shè)有多個(gè)真空吸嘴，所述的真空吸嘴連接有抽真空裝置，所述的吸盤上還設(shè)有控制部分真空吸嘴開關(guān)的控制裝置。本實(shí)用新型可在覆銅箔基板尺寸切換時(shí)使部分真空吸嘴自動(dòng)關(guān)閉或打開，無需人工手動(dòng)控制真空吸嘴的開閉，生產(chǎn)效率提高，避免了人工操作會(huì)出現(xiàn)安全事故的隱患。
【專利說明】一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)
【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種覆銅箔基板生產(chǎn)裝置，更具體地說是一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)。
【【背景技術(shù)】】
[0002]覆銅箔基板是印刷電路板所用材料。在覆銅箔基板的生產(chǎn)工藝中，會(huì)用到鋼板作為治具，在每兩張覆銅箔基板之間放置一片鋼板將其分開。而在后續(xù)將覆銅箔基板與鋼板分離的工序中就用到了覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)將覆銅箔基板轉(zhuǎn)移至一個(gè)地方，而將鋼板轉(zhuǎn)移至另一個(gè)地方，實(shí)現(xiàn)覆銅箔基板與鋼板的分離。在傳統(tǒng)的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)對覆銅箔基板的吸附過程中，當(dāng)遇到不同大小規(guī)格的覆銅箔基板時(shí)，就需要人工對吸盤上的真空吸嘴進(jìn)行手動(dòng)打開或關(guān)閉，嚴(yán)重影響了生產(chǎn)效率，并會(huì)使覆銅箔基板受損等，當(dāng)工人對吸盤進(jìn)行操作時(shí)，甚至?xí)斐晒ぐ彩鹿省Ｒ虼巳藗兿Ｍ层~箔基板真空吸附移載機(jī)在吸附不同規(guī)格的覆銅箔基板時(shí)，能夠輕而易舉地進(jìn)行真空吸頭的關(guān)閉或打開。
[0003]因此，本實(shí)用新型應(yīng)運(yùn)而生。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種當(dāng)覆銅箔基板的尺寸規(guī)格切換時(shí)能自動(dòng)打開或關(guān)閉部分真空吸嘴的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)。
[0005]本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0006]一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:包括安裝在導(dǎo)軌上并能沿所述導(dǎo)軌滑行的機(jī)架，所述的機(jī)架下方設(shè)有用于吸附覆銅箔基板的吸盤，所述的機(jī)架上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述的吸盤上下升降的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述的吸盤包括吸盤本體，所述的吸盤本體的底部設(shè)有多個(gè)真空吸嘴，所述的真空吸嘴連接有抽真空裝置，所述的吸盤上還設(shè)有控制部分真空吸嘴開關(guān)的控制裝置。
[0007]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為設(shè)在所述的機(jī)架上的絲桿升降機(jī)。
[0008]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的控制裝置包括控制所述的真空吸嘴開關(guān)的開關(guān)閥，所述的開關(guān)閥連接有驅(qū)動(dòng)其完成開關(guān)動(dòng)作的控制系統(tǒng)。
[0009]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的抽真空裝置為葉片
式真空泵。
[0010]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:在所述的吸盤上還設(shè)有當(dāng)所述的吸盤升降時(shí)能在所述的機(jī)架內(nèi)上下滑行的導(dǎo)向桿。
[0011]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的導(dǎo)向桿為四根。
[0012]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的真空吸嘴形成2列設(shè)于所述的吸盤本體底部的兩側(cè)，并橫向排成7排，所述的控制裝置可對所述的真空吸嘴前兩排和后兩排中的任意一個(gè)真空吸嘴進(jìn)行開關(guān)控制。
[0013]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:在每列中相鄰的真空吸嘴的間距為80至100mm。
[0014]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的開關(guān)閥為電磁閥。
[0015]如上所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的電磁閥為兩個(gè)。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有如下優(yōu)點(diǎn):
[0017]1、本實(shí)用新型覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，可在覆銅箔基板尺寸切換時(shí)使部分真空吸嘴自動(dòng)關(guān)閉或打開，無需人工手動(dòng)控制真空吸嘴的開閉，生產(chǎn)效率提高。
[0018]2、本實(shí)用新型覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，避免因人工對真空吸嘴進(jìn)行手動(dòng)開關(guān)時(shí)因疏忽大意操作失誤而造成產(chǎn)品受損，同時(shí)杜絕了人工對覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)上的真空吸嘴進(jìn)行手動(dòng)操作時(shí)的安全隱患。
[0019]3、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，穩(wěn)定性高。
【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0020]圖1是本實(shí)用新型立體圖之一；
[0021]圖2是本實(shí)用新型立體圖之二 ；
[0022]圖3是本實(shí)用新型的工作示意圖之一；
[0023]圖4是本實(shí)用新型的工作示意圖之一。
【【具體實(shí)施方式】】`
[0024]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
[0025]如圖1至圖2所示，一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，包括安裝在導(dǎo)軌I上并能沿所述導(dǎo)軌I滑行的機(jī)架2，所述的機(jī)架2下方設(shè)有用于吸附覆銅箔基板的吸盤3，所述的機(jī)架2上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述的吸盤3上下升降的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4，所述的吸盤3包括吸盤本體301，所述的吸盤本體301的底部設(shè)有多個(gè)真空吸嘴302，所述的真空吸嘴302連接有抽真空裝置5，所述的吸盤3上還設(shè)有控制部分真空吸嘴302開關(guān)的控制裝置6。
[0026]所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4為設(shè)在所述的機(jī)架2上的絲桿升降機(jī)。絲桿升降機(jī)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)其內(nèi)的蝸桿旋轉(zhuǎn)，蝸桿驅(qū)動(dòng)與其嚙合的蝸輪旋轉(zhuǎn)，蝸輪上設(shè)有螺母，螺母內(nèi)穿設(shè)有與之配合的能上下升降的絲桿，絲桿一端與吸盤3固定連接。絲桿升降機(jī)具有結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、重量輕、噪音小、安裝方便、可靠性高、使用壽命長等優(yōu)點(diǎn)。
[0027]所述的控制裝置6包括控制所述的真空吸嘴302開關(guān)的開關(guān)閥601，所述的開關(guān)閥601連接有驅(qū)動(dòng)其完成開關(guān)動(dòng)作的控制系統(tǒng)602。
[0028]所述的抽真空裝置5為葉片式真空泵。
[0029]在所述的吸盤3上還設(shè)有當(dāng)所述的吸盤3升降時(shí)能在所述的機(jī)架2內(nèi)上下滑行的導(dǎo)向桿7。所述的導(dǎo)向桿7為四根。設(shè)置四根導(dǎo)向桿7，能夠使吸盤3在升降的過程中運(yùn)行更加平穩(wěn)。
[0030]所述的真空吸嘴302形成2列設(shè)于所述的吸盤本體3底部的兩側(cè)，并橫向排成7排，所述的控制裝置6可對所述的真空嘴302前兩排和后兩排中的任意一個(gè)真空嘴302進(jìn)行開關(guān)控制。[0031]在每列中相鄰的真空嘴302的間距為80至100mm。
[0032]所述的開關(guān)閥601為電磁閥。
[0033]所述的電磁閥為兩個(gè)。
[0034]工作原理:
[0035]如圖3所示，當(dāng)需要吸附的覆銅箔基板8的規(guī)格較大時(shí)，吸盤3上的真空嘴302全部打開并抽真空，以便將覆銅箔基板8吸起，然后在導(dǎo)軌I上滑行而將覆銅箔基板8轉(zhuǎn)移。當(dāng)覆銅箔基板的尺寸規(guī)格切換，即需要吸附的覆銅箔基板8的規(guī)格較小時(shí)(如圖4所示)，則給控制系統(tǒng)602輸入覆銅箔基板8的尺寸參數(shù)，控制系統(tǒng)602則對電磁閥601進(jìn)行控制，使每列真空嘴302兩端的真空嘴302關(guān)閉，剩下的真空嘴302即可將覆銅箔基板8吸起，然后在導(dǎo)軌I上滑行而將覆銅箔基板8轉(zhuǎn)移。
【權(quán)利要求】
1.一種覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:包括安裝在導(dǎo)軌(I)上并能沿所述導(dǎo)軌(I)滑行的機(jī)架(2)，所述的機(jī)架(2)下方設(shè)有用于吸附覆銅箔基板的吸盤(3)，所述的機(jī)架(2)上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述的吸盤(3)上下升降的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)，所述的吸盤(3)包括吸盤本體(301)，所述的吸盤本體(301)的底部設(shè)有多個(gè)真空吸嘴(302)，所述的真空吸嘴(302)連接有抽真空裝置(5)，所述的吸盤(3)上還設(shè)有控制部分真空吸嘴(302)開關(guān)的控制裝置(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(4 )為設(shè)在所述的機(jī)架(2 )上的絲桿升降機(jī)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的控制裝置(6)包括控制所述的真空吸嘴(302)開關(guān)的開關(guān)閥(601)，所述的開關(guān)閥(601)連接有驅(qū)動(dòng)其完成開關(guān)動(dòng)作的控制系統(tǒng)(602)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的抽真空裝置(5)為葉片式真空泵。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:在所述的吸盤(3)上還設(shè)有當(dāng)所述的吸盤(3)升降時(shí)能在所述的機(jī)架(2)內(nèi)上下滑行的導(dǎo)向桿(7)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的導(dǎo)向桿(7)為四根。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的真空吸嘴(302)形成2列設(shè)于所述的吸盤本體(3)底部的兩側(cè)，并橫向排成7排，所述的控制裝置(6)可對所述的真空吸嘴(302)前兩排和后兩排中的任意一個(gè)真空吸嘴(302)進(jìn)行開關(guān)控制。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:在每列中相鄰的真空吸嘴(302)的間距為80至100mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的開關(guān)閥(601)為電磁閥。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的覆銅箔基板真空吸附移載機(jī)，其特征在于:所述的電磁閥為兩個(gè)。
【文檔編號】B65H3/08GK203512839SQ201320582105
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月18日
【發(fā)明者】周歡, 賴紀(jì)生, 宋泉洪 申請人:中山臺(tái)光電子材料有限公司