專利名稱：掩模盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于例如光掩模、掩模以及晶圓等易碎裝置的存儲(chǔ)、運(yùn) 輸、運(yùn)送以及處理的容器；具體地，本發(fā)明涉及保護(hù)裝置、特別是顆?？?制裝置，該顆?？刂蒲b置包括用于定位并固定掩模的支撐結(jié)構(gòu)，并且具有 使得掩模的環(huán)境保持清潔的裝置。
背景技術(shù)：
在集成電路和其它半導(dǎo)體器件的制造中通常涉及到的其中一個(gè)處理 步驟是光刻。廣義地講，光刻包括將專門制備的晶圓表面選擇性地暴露于 輻射源，通過使用圖案模板來形成蝕刻的表面層。通常，圖案模板是掩模， 其是非常平坦的玻璃板，該玻璃板帶有將要再現(xiàn)到該晶圓上的圖案。例如， 晶圓表面可以通過如下步驟制備首先在其上沉積氮化硅，隨后涂上液態(tài) 光敏聚合物或光致抗蝕劑。接下來，透過掩?；蜓谀５谋砻嬲丈渥贤?UV) 光，或者從掩模或掩模的表面反射紫外(UV)光，以將所需圖案投射到覆 蓋有光致抗蝕劑的晶圓上。暴露于紫外光的那一部分光致抗蝕劑發(fā)生化學(xué) 變化，并且在隨后利用化學(xué)介質(zhì)對(duì)晶圓進(jìn)行處理以除去^露于紫外光的 光致抗蝕劑時(shí)，暴露于紫外光的該部分光致抗蝕劑保持不受影響，從而在 該晶圓上留下形狀與掩模上的圖案精確一致的、發(fā)生了化學(xué)變化的光致抗 蝕劑。該晶圓隨后接受蝕刻處理，去除暴露的那一部分氮化物層，從而在 該晶圓上留下與掩模的精確設(shè)計(jì)一致的氮化物圖案。該蝕刻層一一單獨(dú)的 一層或者與其它類似形成的層結(jié)合一一呈現(xiàn)在所述器件上，并且在所述器件之間提供互連，以體現(xiàn)特定集成電路或半導(dǎo)體芯片的"電路".
芯片產(chǎn)業(yè)的行業(yè)趨勢是生產(chǎn)的芯片越來越小以l或者在更大的晶圓 上需要甚至更小的線寬的更高邏輯密度。很顯然，^^模表面所形成圖案的 精細(xì)程度以及該圖案能夠以何種程度忠實(shí)地復(fù)制在晶圓表面上是影響最 終半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量的因素。圖案能夠再現(xiàn)于晶圓表面上的分辨率取決于
用于將圖案投射到涂覆光致抗蝕劑的晶圓的表面上的紫外光的波長。本領(lǐng)
域現(xiàn)有的光刻工具使用波長為193nm的深紫外光，這允許100nm量級(jí)的 最小特征尺寸。目前所使用的工具使用157nm的極紫外光(EUV)以允許 小于70nm的特征分辨率。
典型的掩^&底材料是光學(xué)意義上潔凈的石英。因?yàn)楝F(xiàn)代集成電路的 重要元件的尺寸微小，所以避免掩模的操作表面(即帶圖案的表面)上存 在污染物是非常關(guān)鍵的，污染物可能會(huì)損壞表面或者在處理期間使得投射 在光致抗蝕劑層上的圖傳"扭曲從而使得最終產(chǎn)品的質(zhì)量不可接受。通常， 在光刻法中使用EUV時(shí)，不帶圖案和帶圖案的表面的臨^粒尺寸分別 是0.1微米和0.03微米。
通常，掩模帶圖案的表面涂以薄的透光膜(通常由硝化纖維制成)， 該透光膜附連到支架并由該支架支撐，并附連到該掩模。其目的是隔開污 染物并減小可能由圖像平面中的這些污染物所造成的印刷缺陷。然而，使 用EUV時(shí)則與利用通過掩模的透射為特征的深紫外光光刻不同，其利用 的是從帶圖案表面的Jl射。此時(shí)，現(xiàn)有技術(shù)并不設(shè)置能透過EUV的薄膜 材料。因此，與傳統(tǒng)光刻中所使用的掩模相比，在EUV光刻中所采用的 反射式光掩模(掩模)更容易被污損并且損壞程度可能會(huì)更大。這種狀況 對(duì)于被設(shè)計(jì)用來存儲(chǔ)、運(yùn)輸和運(yùn)送EUV光刻用掩模的容器或盒提出了更 高的功能性需求。 一般地，掩模在SMIF容器或盒內(nèi)形成的微小無塵室環(huán) 境內(nèi)存儲(chǔ)和/或運(yùn)輸。這種容器通常包括門和與該門配合從而形成用于保持 掩模的密閉環(huán)境的蓋。門通常被設(shè)計(jì)并設(shè)置有專門的特征和機(jī)構(gòu)，以允許 與自動(dòng)或手動(dòng)地打開門的處理工具對(duì)接，并且允許隨后在不將掩模暴露于 周圍環(huán)境中的情況下將掩模傳送到該處理工具的環(huán)境。
考慮到顆粒對(duì)半導(dǎo)體制造的嚴(yán)重影響，并且由于掩模的帶圖案的表面 上的精細(xì)特征很容易由于滑動(dòng)摩擦和磨損而受損，所以非常不希望在制 造、處理、運(yùn)送、搬運(yùn)、運(yùn)輸或儲(chǔ)存期間掩模和其它表面之間發(fā)生不需要 以及無意中的接觸。其次，掩模表面上的任何顆粒污染物都能夠危害掩模，且危害程度足以嚴(yán)重影響在處理期間通過使用這種掩模而得到的任何終 端產(chǎn)品。顆?？赡軙?huì)在處理、運(yùn)輸和運(yùn)送期間在包含掩模的受控環(huán)境內(nèi)產(chǎn) 生。掩模和容器之間的摩擦以及因此而產(chǎn)生的磨損是污染物顆粒的其中一 個(gè)來源。當(dāng)試圖將掩模在容器內(nèi)定位或者由于掩模和容器在運(yùn)輸或運(yùn)送期 間相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，可能會(huì)出現(xiàn)這種情形。例如，在運(yùn)輸期間掩模能夠從其在 掩模容器內(nèi)的位置滑動(dòng)從而產(chǎn)生顆粒。容器壁的變形足以能夠?qū)е耝^模在
容器內(nèi)的位置發(fā)生變化。這種定位不當(dāng)?shù)难谀Ｔ诒粡娜萜髦凶詣?dòng)取出并定 位到處理裝備中時(shí)，將有可能不能對(duì)準(zhǔn)，從而導(dǎo)致最終產(chǎn)品質(zhì)量不可預(yù)知。 容器的沖擊和振動(dòng)可能傳遞到掩模和保持掩模的部件，造成相對(duì)運(yùn)動(dòng)并產(chǎn) 生相關(guān)的顆粒。在這種情況下，掩?；虮∧た赡軙?huì)被刮擦或裂開。當(dāng)然， 顆粒的來源可以是沉降在掩模上的空氣中的顆粒。通常，通過使用氣密式
的SMIF容器以形成并維持該掩模周圍的受控環(huán)境來減輕該問題。
這個(gè)討論同樣適用于被設(shè)計(jì)用來運(yùn)輸和/或存儲(chǔ)半導(dǎo)體晶圓襯底的容 器和被設(shè)計(jì)用來運(yùn)輸和/或存儲(chǔ)用于與EUV不相關(guān)的半導(dǎo)體制造的掩模的 容器。例如，F(xiàn)OUPS (前開式晶圓傳送盒的縮寫)和FOSBS (前開式晶 圓傳輸盒的縮寫)以及SMIF (標(biāo)準(zhǔn);Wfe接口的縮寫)。
認(rèn)識(shí)到對(duì)于晶圓周圍的受控環(huán)境的需求，特別是在存儲(chǔ)、處理和運(yùn)輸 期間對(duì)于晶圓周圍的受控環(huán)境的需求，現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)提出了在存儲(chǔ)、運(yùn) 送和運(yùn)輸掩模的操作期間將掩模牢靠地保持在掩模容器內(nèi)的固定位置的 方法。最普通的方法包括在盒的下表面或門上提供支撐件，所述支撐件接 觸掩模帶圖案的表面并相對(duì)于容器平面以大致平坦的構(gòu)造保持該掩模。保 持支撐件通常由一個(gè)或多個(gè)壓力構(gòu)件擴(kuò)張，壓力構(gòu)件從盒的蓋或殼延伸， 并在與帶圖案的表面相反的表面上與掩模相接觸。盡管此種設(shè)置可用于限 制掩模垂直于帶圖案的表面的運(yùn)動(dòng)，但是它在防止掩模在帶圖案的表面的 平面內(nèi)的平移運(yùn)動(dòng)方面起不到效果。在這點(diǎn)上，現(xiàn)有技術(shù)公開了沿著掩模 外周設(shè)置的限制結(jié)構(gòu)，其有效地限定了掩模的橫向移動(dòng)。試圖將掩模牢靠 地保持容器中的現(xiàn)有技術(shù)還擴(kuò)展到提供閂鎖以與所有上述結(jié)構(gòu)構(gòu)件相結(jié) 合。該閂鎖設(shè)計(jì)為穩(wěn)固地保持蓋壓緊門或基部，從而使得擠緊構(gòu)件穩(wěn)固地 支承掩模。擠緊構(gòu)件可以由彈性材料制成，或者安*4從蓋延伸的懸臂的 末端，從而當(dāng)蓋與門齡時(shí)，擠緊構(gòu)件能夠接觸并逐漸壓緊掩模表面。懸 臂裝置意在允許掩模支撐件向掩模施加柔和且受控的力。這種柔和且受控 的力據(jù)稱可將掩模穩(wěn)固地固定在容器內(nèi)，不會(huì)在掩模上有過大的力或者使得掩模變形，即使在容器略有變形的情況下也是如此。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人
員將會(huì)變得很明顯的是，這些結(jié)構(gòu)不能防止掩模和支撐構(gòu)件、限定結(jié)構(gòu)以 及擠壓結(jié)構(gòu)之間的相對(duì)滑動(dòng)。在容器可能會(huì)受到?jīng)_擊或振動(dòng)載荷時(shí)更加如 此?；瑒?dòng)造成^^^表面磨損，并產(chǎn)生顆粒。
認(rèn)識(shí)到這個(gè)問題后，已有的容器包括安裝到容器門的柱，用于支撐掩 模的四個(gè)相應(yīng)的拐角。每個(gè)拐角的柱包括傾斜的凹部，傾斜的凹部具有彼 此之間成直角的傾斜表面。當(dāng)掩模降低到掩模支撐件中時(shí)，*^模的邊緣將 在單個(gè)水平表面內(nèi)與傾斜的凹部的每個(gè)傾斜表面相接觸。由于掩模的重力
以及掩模邊緣和傾斜的凹部的表面之間的低摩擦，掩皿會(huì)快速、方便并 且可重復(fù)地定位在這個(gè)"唯一的"位置中。每個(gè)傾斜的凹部的傾斜表面與 掩模下邊緣附近的倒角相接合，使得^^模在其四個(gè)拐角處被穩(wěn)固地支撐， 其中掩模支撐件不會(huì)與掩模的上下表面或掩模的豎直邊緣接觸。擠緊構(gòu)件 可包括與掩模支撐件上的傾斜的凹部反對(duì)稱的傾斜的凹部，從而一旦掩模 定位在掩模支撐件中，則容器蓋與容器門的耦聯(lián)將會(huì)使得每個(gè)傾斜的凹部 的傾斜表面M掩模上邊緣附近的倒角，使得掩模在其四個(gè)拐角處被夾在 掩模支撐件和擠緊構(gòu)件之間，從而在容器運(yùn)輸期間和/或容器振動(dòng)時(shí)，掩模 被牢固地固定在其位置。
一些SMIF容器包括安裝到容器的門或基部上的柱，用于支撐掩模的 四個(gè)相應(yīng)的拐角。每個(gè)拐角的柱包括傾斜的凹部，傾斜的凹部具有彼此之 間成直角的傾斜表面。當(dāng)掩模降低到掩模支撐件中時(shí)，掩模的邊緣將在單 個(gè)水平表面內(nèi)與傾斜的凹部的每個(gè)傾斜表面相接觸。由于掩模的重力以及 掩模邊緣和傾斜的凹部的表面之間的低摩擦，掩 #會(huì)快速、方便并且可 重復(fù)地定位在這個(gè)"唯一的"位置中。每個(gè)傾斜的凹部的傾斜表面與掩模 下邊緣附近的倒角相掩^，使得掩模在其四個(gè)拐角處被穩(wěn)固地支撐，其中 掩模支撐件不與掩模的上下表面或掩模的豎直邊緣接觸。擠緊構(gòu)件可包括 與掩模支撐件上的傾斜的凹部反對(duì)稱的傾斜的凹部，從而一旦掩模定位在 該掩模支撐件中，則容器蓋與容器門的耦聯(lián)將會(huì)使得每個(gè)傾斜的凹部的傾 斜表面#^掩模上邊緣附近的倒角，使得掩模在其四個(gè)拐角處被夾在掩模 支撐件和擠緊構(gòu)件之間，從而在容器運(yùn)輸期間和/或容器振動(dòng)時(shí)，掩模被牢 固地固定在其位置。
已有的SMIF容器都沒有使得整體上與掩模的接觸最小。實(shí)際上，在 掩模^到容器中的位置之前，支撐裝置允許在4^模支撐結(jié)構(gòu)和掩模之間出現(xiàn)實(shí)質(zhì)性的滑動(dòng)接觸。所有這些接觸均可能產(chǎn)生顆粒和/或影響掩模中蝕 刻的圖案。此外，現(xiàn)有技術(shù)試圖將掩模穩(wěn)固地支撐在容器內(nèi)的固定位置，
itit成與掩模的過分接觸，這樣，當(dāng)掩模i^或從容器取出從而掩模與限 制件M或脫離時(shí)，這些接觸有可能給掩模帶來額外的刮擦或磨損。
當(dāng)使用容器來運(yùn)送掩模時(shí)，在微環(huán)境內(nèi)產(chǎn)生顆粒的問題將進(jìn)一步加 劇。這種容器將面臨多種多樣的操作狀況。其中一個(gè)^^作危險(xiǎn)是容器將承 受容易使掩模從其在容器內(nèi)的固定位置移動(dòng)的沖擊和振動(dòng)栽荷。容器還可
能在撞擊下變形，從而使得附連到4^模的內(nèi)部結(jié)構(gòu)移動(dòng)，從而使得掩模在 容器內(nèi)不再對(duì)準(zhǔn)。在這點(diǎn)上，與使4^模與容器隔開不同，使容器與振動(dòng)隔 離是一個(gè)重要的考慮。
顆粒沉降是另一個(gè)需要考慮的問題。希望所產(chǎn)生或者引入到受控環(huán)境 中的顆粒不容易沉降到掩模上。在這點(diǎn)上，優(yōu)選的是不僅其中放置掩模的 環(huán)境(其要進(jìn)行控制以避免顆粒污染物)具有最小的體積，而且還希望受 控環(huán)境內(nèi)的空氣保持相對(duì)靜止。突然的壓力變化或者較大的壓力變化都可 能使得空氣突然從受控環(huán)境內(nèi)排出或注入到受控環(huán)境中，從而發(fā)生擾動(dòng)。 容器的過濾表面或壁隨著大且突然的壓差而撓曲，可能在受控環(huán)境內(nèi)產(chǎn)生 壓力波，從而導(dǎo)致顆粒的移動(dòng)。
需要克服的另一挑戰(zhàn)是即使具有受控環(huán)境，由于受控環(huán)境內(nèi)的空氣 的壓力變化，或者由于容器的快速運(yùn)動(dòng)或擾動(dòng)所述空氣容積而造成空氣的 擾動(dòng)，受控環(huán)境內(nèi)仍可能出現(xiàn)顆粒的移動(dòng)。例如，薄壁SMIF盒可能由于 與海粉目關(guān)的壓力變化而發(fā)生的壁運(yùn)動(dòng)，從而促使受控環(huán)境內(nèi)的所述空氣 移動(dòng)。溫度變化可能在容器內(nèi)建立對(duì)流。容器及其部件的尺寸變化可能有 損支撐件和保持^J的功能，造成晶圓不重合或容器內(nèi)承載的襯底翹曲。 由于壓力波動(dòng)造成的容器壁的尺寸變化可能危及容器蓋和門之間的密封 從而可能導(dǎo)致顆粒1到容器內(nèi)。現(xiàn)有方法i殳計(jì)了位于外部環(huán)境和內(nèi)部受 控空氣環(huán)境之間的一種換氣裝置。該換氣裝置提供了空氣流動(dòng)的路徑。設(shè) 置該路徑中的過濾器用來對(duì)從外部環(huán)境進(jìn)入到容器受控環(huán)境中的顆粒提 供障礙。然而，如上所述，在EUV光刻法中用到的掩模具有非常精細(xì)和 精密的特征，于是對(duì)于掩模的不帶圖案的表面以及帶圖案的表面而言，臨 界顆粒尺寸分別僅為0.1微米和0.03微米的量級(jí)。在如此小的顆粒尺寸下， 過濾器將需要非常小的孔尺寸，造成流經(jīng)該過濾器的流體流動(dòng)阻力相當(dāng) 大，從而需要更大的過濾器表面面積。代替變大的過濾器表面面積的方法是減緩對(duì)于例如運(yùn)送容器時(shí)遇到的突然的壓力變化的響應(yīng)。這兩種方法都
不是優(yōu)選的可選方法，因?yàn)檠谀MIF盒設(shè)計(jì)的其中 一個(gè)目的是保持受控 環(huán)境最小，從而能夠有效地密封而防止顆粒進(jìn)入。使得其中設(shè)置有掩模的 受控環(huán)境最小和同時(shí)設(shè)置更大的過濾器面積以實(shí)現(xiàn)受控環(huán)境內(nèi)壓力平衡 是相矛盾的目標(biāo)。
已有的受控環(huán)境通常通過在門和蓋之間設(shè)置密封件而形成。然而，更 經(jīng)常的是密封件由彈性體材料制成，其自身就是顆?；蛭廴疚锏膩碓础６?且，現(xiàn)有技術(shù)試圖通過使用彈性密封件來制造密封件，這需要例如溝槽以 及升起的凸片等結(jié)構(gòu)，這可能會(huì)為顆粒iiX內(nèi)部受控環(huán)境提供通道。雖然 它們應(yīng)用廣泛，但是這種結(jié)構(gòu)具有間隙，在對(duì)盒進(jìn)行清潔時(shí)，這些間隙不 容易清洗，從而有可能存有化學(xué)物質(zhì)和顆粒。
現(xiàn)在需要的是一種掩模容納系統(tǒng)，其通過提供穩(wěn)定和可靠的支撐以及 受控環(huán)境從而最大程度地保護(hù)掩模免受顆粒和污染物影響。這種容納系統(tǒng) 應(yīng)該包括掩模壓力平衡系統(tǒng)，該掩模壓力平衡系統(tǒng)有效地平衡容器的內(nèi)部 受控環(huán)境與容器外部的空氣之間的壓力，而不會(huì)使空氣i^受控環(huán)境或從 受控環(huán)境排出，并且對(duì)于已經(jīng)存在于受控環(huán)境內(nèi)的空氣的擾動(dòng)最小。同樣 還需要的是一種不利用任意形式的產(chǎn)生顆粒的材料的密封系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容
這里公開一種掩模盒，其具有基部或門，基部或門與蓋配合從而形成 用于容納^^模的密封空間。所述盒具有4^^保護(hù)裝置，該掩模保護(hù)裝置包 括掩模定位和支撐裝置以及環(huán)境控制裝置。該掩模定位和支撐裝置形成該 環(huán)境控制裝置的一部分。
在一個(gè)實(shí)施方式中，所述掩模大體上是矩形的，可具有帶圖案的表面， 并且通過使用多個(gè)定位球形球而定位在安裝到該盒的基部或門上的支撐 結(jié)構(gòu)上，或限定掩模在基部或門上的位置。該掩模能夠由球形球或斜面定 位到安放位置，該球形球或斜面設(shè)置為靠近該盒基部或門的拐角并配置為 通過與靠近掩模拐角的掩模邊^(qū)目切地接觸而定位該掩模。以最小接觸面 積定位^^模減少了內(nèi)部顆粒的產(chǎn)生。本發(fā)明的實(shí)施方式還可包括安裝到該 蓋上的掩模保持器。該保持器可以是與掩模表面點(diǎn)接觸的球形球。在其它 實(shí)施方式中，拐角處的切點(diǎn)接觸可以通#形球以外的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，通過將掩模固定在兩組突出部之間而將掩模
設(shè)定并固定在SMIF掩模盒容器內(nèi)，這兩組突出部在掩模上提供球形的點(diǎn) 接觸。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述突出部可包括球形球。第一組球形球突出 部設(shè)置在基部上并接觸掩模的一個(gè)表面一一通常是帶圖案的表面。第二組 球形球突出部安裝到該盒的蓋上并且大體上接觸掩模的不帶圖案的表面 或夾緊表面。以此種方式支撐并保持掩模使得掩模和盒之間的接觸最少， 同時(shí)還允許接觸材料具有靈活性。安裝在門上并且掩模擱置在其上的球形 球的尺寸設(shè)計(jì)為在掩模帶圖案的表面和門的表面之間提供薄薄的間隙。球 體的優(yōu)選材料是聚酰胺—酰亞胺。這些部件的制造/厶差i殳定為防止掩模和 門的內(nèi)表面之間接觸，同時(shí)還提供足夠小以作為擴(kuò)散阻擋層的間隙，該擴(kuò) 散阻擋層防止顆粒進(jìn)入該間隙中并到達(dá)掩模的關(guān)鍵區(qū)域上。該盒形成為使 得內(nèi)部空間最小，以減小在壓力平衡期間需要傳送的空氣量。
在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中，雙重容放盒包括第一盒或內(nèi)部盒一一也 被稱為"盒"，其容納在第二盒或外部盒或包裝中也被稱為"掩模SMIF 盒"。內(nèi)部盒的基部和頂蓋可在配合的平坦表面處結(jié)合在一起以提供密封。 這種表面可以是拋光或超平的金屬表面?；靠芍饕蛉坑山饘傩纬?， 蓋具有附連在其中的環(huán)形金屬插入件以提供兩個(gè)密封表面。優(yōu)選地，基部 的拋光的金屬表面延伸到掩模安放位置的下方并與掩模隔開，以在掩模和 基部的拋光或超平的中央金屬表面之間提供0.003到0.007英寸、優(yōu)選地 0.004到0.005英寸的間隙。從而，基部的外部密封表面可與掩模和基部之 間的擴(kuò)散阻擋層同時(shí)形成，使得制造成本最低，同時(shí)還使得內(nèi)部盒的覆蓋 區(qū)域最小。外部盒可包括蓋部分和密封并閂鎖到該蓋部分的門。
擴(kuò)散過濾器僅使用一對(duì)相對(duì)的平坦表面一一例如板，這對(duì)平坦表面可 以設(shè)置在頂蓋上以在任一個(gè)盒上提供壓力平衡。這種過濾器可包括通it^目 對(duì)表面、具有千分之幾英寸的間隙的通道。該通道將從盒內(nèi)部蜿蜒曲折地 延伸到盒外部。該過濾器可以通過將蓋板激光焊接在基部件上而制成，其 具有形成于其中的千分之幾英寸厚的溝槽。這兩個(gè)部件設(shè)置為彼此接觸， 其中一個(gè)優(yōu)選地是透明的或者半透明的，另 一個(gè)不透明的或者足夠不透明 以吸收激光能量。激光束穿過透明部件傳遞到另一部件，在該處激光束被 吸^而在該點(diǎn)處加熱兩個(gè)部件的連接以將二者焊接到一起。這種過濾器 不么4吏用例如紡織材料、織物、以及燒結(jié)材料等過濾介質(zhì)，因而消除了與 這種介質(zhì)相關(guān)的產(chǎn)生顆粒的危險(xiǎn)。另 一實(shí)施方式還可包括一組閂鎖，這些閂鎖將盒的基部或門鎖到蓋 上，并繞盒的外周提供均勻的夾緊力。安M基部或門上并在其上擱置有 掩模的球形球的尺寸設(shè)計(jì)為允許掩模帶圖案的表面以及門的表面之間具 有特定的距離。這一層用作擴(kuò)散阻擋層，以防止顆粒l到掩模的關(guān)鍵區(qū) 域。本發(fā)明的另一構(gòu)造可包括分別靠近蓋和門的外周的連續(xù)且互補(bǔ)的"平 坦"表面。在蓋與門結(jié)合時(shí)，這兩個(gè)平坦的表面彼此抵靠以形成密封，防 止顆粒從盒外部的環(huán)境進(jìn)入到盒內(nèi)部去，從而消除對(duì)傳統(tǒng)的彈性體密封件 的需求。
在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中，第一盒或內(nèi)部盒一一也被稱為"盒"一 —容納在第二盒或外部盒或包裝中。外部盒可以是現(xiàn)有技術(shù)中已知的標(biāo)準(zhǔn)
;W^接口 (SMIF)盒。內(nèi)部盒具有頂蓋，該頂蓋與基部配合從而形成封閉 空間，用于保護(hù)性地容納掩?；?^模。內(nèi)部盒的頂蓋設(shè)置有至少一個(gè)適于 容納定位銷的孔，該定位銷一端上具有例如截錐形或圓錐形的錐形表面。 定位銷配置并定位成用于錐形表面以及設(shè)置在內(nèi)部盒的封閉空間內(nèi)的掩 模的邊緣之間形成可縮回的掩^。在一種構(gòu)造中，頂蓋安裝有多個(gè)這種定 位銷，外部包裝設(shè)計(jì)成在組裝外部包裝時(shí)與銷^。當(dāng)外部包裝與內(nèi)部盒 的蓋接合時(shí)，這些定位銷同時(shí)接合并且被推壓入到內(nèi)部盒中，使得銷的錐 形表面接觸掩模的上邊緣，將掩模壓入到封閉空間內(nèi)的合適的側(cè)向位置。 可以使用附連到外部盒的頂蓋部分的彈性體襯墊來與銷接合并向內(nèi)按壓 銷。其它彈性體襯墊可接觸內(nèi)部盒的頂蓋的上表面。
在另一實(shí)施方式中， 一對(duì)彈簧滾柱在盒的相對(duì)的拐角處安裝在門或基 部上。這些彈簧^提供磨損最少的掩模水平對(duì)齊部。
在另一實(shí)施方式中，在蓋上安裝彈簧夾，用于保持掩模與球形突出部 相接合。在示例性實(shí)施方式中，每個(gè)彈簧夾在第一端安裝到蓋上，并在相 對(duì)端設(shè)置有球形的保持突出部。在另一實(shí)施方式中，球形的保持突出部可 以是球形球，其中彈簧夾保持該球形球靠住掩模。彈簧的剛度選擇為使得 彈簧在水平方向一一即當(dāng)掩模被支撐在容器中時(shí)沿著掩模的表面方向一 —上變形最小。允許的變形主要在豎直方向上并且垂直于^^模的帶圖案的 表面，從而為掩微娜持力，以將掩模保持在球形突出部內(nèi)，且與帶圖 案的表面對(duì)面的掩模表面形成點(diǎn)接觸。在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明的特征 在于互補(bǔ)的"平坦"表面，每個(gè)平坦的表面分別位于門和蓋的外周上。在 蓋與門結(jié)合時(shí)，兩個(gè)表面彼此抵靠，形成密封以防止顆粒從盒外部的環(huán)境1到盒內(nèi)部去，從而消除對(duì)傳統(tǒng)的彈性體密封件的需求。
本發(fā)明某些實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)濕_提供最小的內(nèi)部空間，以減小在壓力平 衡過程中傳送的空氣的量.而且，某些實(shí)施方式提供了最小的內(nèi)部盒覆蓋 區(qū)域。
本發(fā)明某些實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)是使得該掩模在掩模底部上與球形球的
接觸面積以;M^掩模頂部上的邊緣接觸的接觸面積最小。
本發(fā)明某些實(shí)施方式的另 一優(yōu)點(diǎn)是提供一種將蓋和基板密封的表面， 消除了傳統(tǒng)的彈性體密封件并且消除了與此相伴的顆粒的產(chǎn)生。蓋中的過 濾器消除了對(duì)于傳統(tǒng)的過濾器介質(zhì)的需求。
本發(fā)明某些實(shí)施方式的另一優(yōu)點(diǎn)是形成保護(hù)或防止顆粒進(jìn)入到掩模 的關(guān)M面上的擴(kuò)散阻擋層。
本發(fā)明各實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)是限制了掩模在掩模的帶圖案的表面的平 面內(nèi)以及垂直于該平面的平面內(nèi)的運(yùn)動(dòng)，同時(shí)使得掩模和容器之間的接觸
本發(fā)明某些實(shí)施方式的另 一優(yōu)點(diǎn)是使得該掩模在掩模底部上的球形 接觸的接觸面積以及在掩模頂部上的邊緣或邊緣拐角上的線接觸的接觸 面積最小。
本發(fā)明還有另 一優(yōu)點(diǎn)是使得掩模在運(yùn)送期間在內(nèi)部盒內(nèi)的運(yùn)動(dòng)最小。 在此方面，本發(fā)明提供一種將掩模恰當(dāng)?shù)囟ㄎ辉谘谀；蜓谀Ｈ萜鲀?nèi)的裝 置，該裝置同時(shí)限制掩模和蓋之間在帶圖案的表面以及垂直于該表面的平 面內(nèi)的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，4吏得在運(yùn)輸和運(yùn)送期間由于掩模的運(yùn)動(dòng)引起的沖擊和振 動(dòng)對(duì)掩模造成的表面損害最小。而且，根據(jù)本發(fā)明，例如將掩模手動(dòng)定位 在掩模容器或掩模支撐件內(nèi)并不需要多么精確，因?yàn)檠谀Ｓ墒寡谀６ㄎ坏?結(jié)構(gòu)精確地對(duì)中。
下面的說明將解釋本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)和新特征中的一部分，而其余部 分對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言通過下面的解釋或者本發(fā)明的實(shí)踐將變得非
常清楚。本發(fā)明的目的和優(yōu)點(diǎn)能夠通過所附帶的權(quán)利要求中指出的設(shè)備及 其組合所實(shí)現(xiàn)或獲得。
本發(fā)明可以從幾個(gè)不同實(shí)施方式來描述如下。
一種用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器包括基部，其具有外周以及 面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多個(gè)向上延伸的接觸元件，所 述接觸元件具有球形的上表面以用于在所述掩模的下表面上與所述掩模 接合，所it^還具有多個(gè)柱，所述多個(gè)柱的位置設(shè)定成用于限制所述掩 模的外周，所述接觸元件的上表面和所述多個(gè)柱限定掩模安放位置，所述 面向上的水平上表面還具有在所述基部的外周處、或靠近所述基部的外周 繞著所U部延伸的密封表面；蓋，其用于沿著所^i^的外周與所U 板的上表面M從而限定用于保持所述掩模的內(nèi)部空間，所述蓋具有面向 下的水平的平坦密封表面，所述面向下的水平的平坦密封表面用于與所述 基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，從而當(dāng)相應(yīng)的所述密封表 面相接觸時(shí)在所述密封表面之間產(chǎn)生密封。
如上所述的容器，其中所*板至少大部分由金屬形成，且所述上表 面是連續(xù)平坦的并且從所述密封表面到位于所述掩模的掩模安放位置下 方的表面都是一體的。
如上所述的容器，其中所述面向下的水平的平坦密封表面由金屬形 成，從而在所M部和所述蓋之間的密封是金屬與金屬的密封。
如上所述的容器，其中所述柱由金屬形成并且具有頂部，所述頂部帶 有朝向所述掩模安放位置傾斜的傾斜部。
如上所述的容器，其中所述柱具有豎直部，且當(dāng)所述掩模安放在所述 掩模安放位置時(shí)，所述豎直部在橫向上與所述掩模的側(cè)面相鄰。
如上所述的容器，其中所述多個(gè)柱中的每一個(gè)柱的傾斜部限定所述掩 模安放位置，從而所述掩模安放在所述傾斜部上。
如上所述的容器，其中所述多個(gè)接觸元件中的每一個(gè)接觸元件均包括 球體。
如上所述的容器，其中所述球g向下壓入配合到從所述面向上的水 平上表面向下延伸的凹部或孔中。
如上所述的容器，其中所述底板具有從底板下側(cè)形成的多個(gè)孔，所述 孔用于容納所述球體，每個(gè)球體通過定位螺絲保持在所述孔內(nèi)。
如上所述的容器，還包括外蓋以及能夠容納在所述外蓋內(nèi)以限定內(nèi)部 空間的門，所述外蓋和外基部的尺寸設(shè)計(jì)為用于容納如上所述的容器。如上所述的容器，其中所述蓋包括以可滑動(dòng)的方式定位在所述蓋中的 多個(gè)能夠豎直移動(dòng)的掩模柱，所述掩模柱的位置設(shè)定為與所述掩模的頂邊 絲。
如上所述的容器，其中每個(gè)能夠移動(dòng)的掩模柱彈性地定位在所述蓋中。
如上所述的容器，其中每個(gè)能夠移動(dòng)的掩模柱具有傾斜部，所述傾斜 部用于與所述掩模的上邊M，以對(duì)掩模施壓并將掩模限定在所述4^模安 放位置。
如上所述的容器，其還包括多個(gè)附連到所述容器并能夠橫向移動(dòng)的構(gòu) 件，每個(gè)構(gòu)件被向內(nèi)偏壓以將所述掩模限制在其位置。
如上所述的容器，其還包括用于壓力平衡的過濾器，所述過濾器不具 有過濾介質(zhì)，而是具有成對(duì)的相對(duì)平坦表面，所述成對(duì)的相對(duì)平坦表面由 間隙隔開以提供擴(kuò)散阻擋層，所述過濾器提供從容器內(nèi)部到容器外部的通 道。
如上所述的容器，其中所述間隙為0.001到0.007英寸。
如上所述的容器，其中所述通道蜿蜒曲折，具有多個(gè)拐角以及通道段。
如上所述的容器，其中所述成對(duì)的相對(duì)表面相對(duì)于彼此固定并設(shè)定在 頂蓋的上表面上。
如上所述的容器，其中所述成對(duì)的相對(duì)表面中的其中 一個(gè)表面是所述 頂蓋的一部分，而另一個(gè)表面是所U部的一部分，并且所述過濾器M 所述頂蓋安放在所i^部上時(shí)才起作用。
如上所述的容器，其還包括另外的容器，所述另外的容器包括另外的 容器頂部和能夠容納在所述頂部中、并能夠鎖到所述頂部上的另外的容器 門，所述另外的容器的尺寸設(shè)計(jì)為用于容納如權(quán)利要求15所述的容器，從 而如權(quán)利要求15所述的容器成為內(nèi)部容器。
如上所述的容器，其中所述另外的容器頂部包括在所述頂部的內(nèi)表面 上向下5^f申的多個(gè)彈性構(gòu)件，并且所述彈性構(gòu)件與所述內(nèi)部容器的頂蓋接 合。
如上所述的容器，其中所述內(nèi)部容器的所述頂蓋包括多個(gè)能夠豎直移 動(dòng)的掩模柱，所述掩模柱以可滑動(dòng)的方式定位在所述蓋中，且所述柱定位成與所述^^模的頂邊M，并且所述彈性構(gòu)件與所述能夠豎直移動(dòng)的柱接 合。
本發(fā)明還提供了一種用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表
面、下表面、側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器包括基部， 其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多個(gè)設(shè)置在所 i^部中的球體，每個(gè)球體定位成大部分位于所述面向上的水平上表面之
下，所述接觸元件限定4^模安放位置，所述基部在所M部的外周處或靠 近所述基部的外周具有面向上的密封表面；蓋，其用于沿著所i^l^的外
周與所^J41的上表面^從而限定用于保持^^模的內(nèi)部空間，所述蓋具 有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于與所U部的面向上的 水平表面的密封表面相配合，從而當(dāng)相應(yīng)的所述密封表面相接觸時(shí)在所述 密封表面之間產(chǎn)生密封。
如上所述的容器，其中所i^部的所述密封表面和所述蓋的所述密封 表面都由金屬形成，其中當(dāng)相應(yīng)的密封表面接合時(shí)形成金屬與金屬的密 封。
如上所述的容器，其中所述頂蓋大部分由聚合體形成，并且所述頂蓋 的密封表面是固定到所述聚合體的金屬圏的一部分。
如上所述的容器，其中所i^部具有多個(gè)柱，所述柱固定到所U部 中并與所述掩模安放位置相鄰。
本發(fā)明還提供了一種用于保持掩模的容器與掩模的組合，所述掩模具 有外周、上表面、下表面、側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器 包括基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有 多個(gè)設(shè)置在所M部中的球體，每個(gè)球體定為成大部分位于所述面向上的 水平表面的下方并且延伸超過所述面向上的水平平面0.002到0.007英寸的 距離，所述接觸元件限定掩模安放位置，所述基部在所U部的外周處或 靠近所^部的外周具有面向上的密封表面；蓋，其用于沿著所ii^板的 外周與所述基敗的上表面掩^，從而限定用于保持掩模的內(nèi)部空間，所述 蓋具有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于與所述基部的面向 上的水平表面的密封表面相配合，從而當(dāng)相應(yīng)的所述密封表面相接觸時(shí)在 所述密封表面之間形成密封。
如上所述的組合，其中所M部的所述密封表面和所述蓋的所述密封表面都是非彈性的。
本發(fā)明還提供了一種用于掩模的雙重容放盒，包括內(nèi)部盒和外部盒， 所述內(nèi)部盒包括基部和與所述基部配合的蓋，所述內(nèi)部盒在其內(nèi)具有掩模 安放位置，所述外部盒包括容器部分和與所述容器部分配合的基部，所述 外部盒的尺寸設(shè)計(jì)為用于容納所述內(nèi)部盒。
如上所述的雙重容放盒，其還包括不具有過濾介質(zhì)的壓力平衡裝置。
如上所述的雙重容放盒，其中所述壓力平衡裝置包括帶有蜿蜒曲折通 道的擴(kuò)散過濾器。
如上所述的雙重容放盒，其中所述掩模定位成與所述內(nèi)部盒的基部的 上表面足夠靠近，以提供擴(kuò)散阻擋層，從而防止顆粒到達(dá)面向所述基部的 上表面的掩模表面。
如上所述的雙重容放盒，其中所述內(nèi)部盒的基部包括多個(gè)球體，所述
4^模安放于所述^^體上，每個(gè)珎^體大部分位于所i^部的上表面的下方。
如上所述的雙重容放盒，其中所述球體由聚酖胺-酰亞胺制成。
如上所述的雙重容放盒，其中所述球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式安裝在所i^ 部中。
如上所述的雙重容放盒，其中所述內(nèi)部盒的頂蓋包括多個(gè)能豎直移動(dòng) 的掩模柱，所述^^模柱以可滑動(dòng)的方式設(shè)置所述蓋中，且所i^定位成與 所述4^模的頂邊^(qū)。
如上所述的雙重容放盒，其中所述外部盒的頂部包括多個(gè)構(gòu)件，所述
所述門時(shí)，所述構(gòu)件與所述能夠豎直移動(dòng)的*^模柱#^。
如上所述的雙重容放盒，其中所述能夠豎直移動(dòng)的柱彈性地安裝到所 述頂蓋上，且當(dāng)所述柱從其通常位置移動(dòng)時(shí)，所述柱向掩模偏移。
本發(fā)明還提供了一種掩模容器，其包括基部和頂蓋，所U部具有用 于支撐所述*^模的多個(gè)4^#^構(gòu)件，所述掩#^構(gòu)件由聚酰胺-酰亞 胺構(gòu)成《
如上所述的掩模容器，其中每個(gè)掩 #^構(gòu)件構(gòu)造成球體，所述球體 定位在所述頂蓋中，且所i^體的一部分位于所i^部的上表面的下方。


圖l是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的設(shè)置有掩模支撐機(jī)構(gòu)的容器的分解
立體圖2是示出圖1的掩模定位球體和掩模保持球體的部分截面?zhèn)纫晥D3是示出一對(duì)圖1的掩模定位球體的部分俯視圖4是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的閂鎖和加載桿的部分側(cè)視
圖5是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的閂鎖和加栽桿^部分側(cè)視
圖6是本發(fā)明實(shí)施方式中球形突出部的示意圖7是本發(fā)明實(shí)施方式中一對(duì)相鄰的球形突出部的俯視圖8是一對(duì)相鄰的球形突出部形成為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的單體結(jié) 構(gòu)的俯視圖9是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的球形球嵌在基部中的前視 截面圖10是示出掩^^置在一對(duì)相鄰的球形突出部上的截面圖11是示出輔助的凸形突出部為自定位在球形突出部上的掩a供 抵靠表面的側(cè)面剖視圖12是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的輔助凸形突出部的俯視
圖13是示出掩模的邊緣和球形突出部之間相切地接觸的示意圖14是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的、掩模支撐在基部上的輔 助凸形突出部上并與門上的掩模保持球體相接觸的部分側(cè)面剖視圖15是本發(fā)明實(shí)施方式中容器的組件的立體圖15A以截面形式示出圖15的保持機(jī)構(gòu)的細(xì)節(jié)；
圖16是圖15的容器的分解立體圖17是圖15的容器的分解立體圖；圖18是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的掩模承載器的內(nèi)部盒的側(cè)視圖19是圖18的掩模承載器的內(nèi)部盒的分解立體圖20是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的定位銷的側(cè)面剖視圖21是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的內(nèi)部盒在外部盒中的剖視立體圖22是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的掩模承載器的內(nèi)部盒的蓋的立體圖23是圖18的內(nèi)部盒的門或基部的立體圖24是圖23的基部或門的立體圖，其中掩模設(shè)置到位；
圖25是圖24的基部的部分俯視圖26是沿圖25中26-26剖開的截面圖27是根據(jù)本發(fā)明的球形突出部的實(shí)施方式；
圖28是根據(jù)本發(fā)明的掩模定位銷的實(shí)施方式；
圖29是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式具有減小覆蓋區(qū)域的剛性密封團(tuán)的立體
圖30是引導(dǎo)柱與圖29的剛性密封圏相配合的截面圖31是圖29的定位銷的細(xì)節(jié)的截面圖32是根據(jù)本發(fā)明的雙重容放盒的分解立體圖33是圖32的雙重容放盒的分解立體圖，示出這些部件的下側(cè)；
圖34是根據(jù)本發(fā)明的掩模盒的頂蓋的分解圖35是形成根據(jù)本發(fā)明的擴(kuò)散過濾器的一部分的板的立體圖36是形成根據(jù)本發(fā)明的、其上帶有蜿蜒曲折路徑的擴(kuò)散過濾器的 一部分的板的立體圖37是頂蓋的俯視圖，示出根據(jù)本發(fā)明的擴(kuò)散過濾器；
圖38是本發(fā)明實(shí)施方式的立體圖39是根據(jù)本發(fā)明的掩模盒的其中一個(gè)密封表面上的蜿蜒曲折5M^ 擴(kuò)散過濾器的俯視圖40是沿圖39中的線40-40剖開的截面圖；圖41是適于本應(yīng)用并根據(jù)本發(fā)明的蜿蜓曲折路徑擴(kuò)散過濾器的示意圖。
具體實(shí)施例方式
所提及的相對(duì)術(shù)語例如上下、前后、左右等是為了說明方便，而不是 用來將本發(fā)明或者其部件P艮制于任何一個(gè)位置上的或特定的指向。"連接" 和"掩^"和"附連"以及這些詞語的不同形式在這里使用時(shí)不要求元件 和元件直接接觸，除非從上下文推斷出或要求直接接觸；可以使用中間連 接部件，并且這也落入這些詞語的本來含義中。附圖中所表示的所有尺寸 可以隨本發(fā)明的特定實(shí)施方式的可能的設(shè)計(jì)和期望應(yīng)用而變化，這均不偏 離本發(fā)明的范圍。
這里所公開的每個(gè)附圖和方法可以單獨(dú)使用，或者與其它特征和方法 結(jié)^^吏用，以提供改進(jìn)的容器和制造或使用該容器的方法。從而，從最廣 義上講，這里所公開的特征和方法的組合可能并非實(shí)施本發(fā)明所必須的， 公開這些只是用來具體描述本發(fā)明具有代表性的實(shí)施方式。
參照圖1，用于存儲(chǔ)和運(yùn)輸掩模IIO的容器100總體上包括基部120, 該基部120能夠與蓋130備^以形成適合容納掩模110的密閉的封閉空間 124(圖4)。圖1中示出的具體的^^模形狀大致為矩形，具有四個(gè)拐角(例 如拐角290 )。容器100還包括以可轉(zhuǎn)動(dòng)方式耦聯(lián)到門120的閂鎖140。閂 鎖140適于以可移開的方式保持門120和蓋130之間的掩^，以對(duì)抗在運(yùn) 送和運(yùn)輸期間容器100承受的外部載荷。掩模110由安裝到門120上的掩 模定位構(gòu)件180定位并且在每個(gè)拐角290附近支撐于所述掩模定位構(gòu)件 180上。從蓋130延伸的掩模保持器200在蓋130接合門120時(shí)與掩模110 接觸，如圖2所示。這樣，掩模110被固定在掩模定位構(gòu)件180和掩模保 持器200之間。
掩模110可具有第一帶圖案的表面210以及與該第一帶圖案的表面 210相對(duì)的第二夾緊表面220,兩表面由側(cè)面230隔開。第一帶圖案的表面 210與側(cè)面230分別在第一對(duì)平行下邊240和第二對(duì)平行下邊260處相交。 第二夾緊表面220與側(cè)面230分別在第一對(duì)平行上邊270和第二對(duì)平行上 邊280處相交。通常，第一對(duì)下邊240和第二對(duì)下邊260平行于相應(yīng)的第 一對(duì)上邊270和第二對(duì)上邊280，各表面的每對(duì)相應(yīng)的平行邊在拐角290 處與另一對(duì)相應(yīng)的平行邊匯合，拐角2卯可以倒圓。帶圖案的表面210可以蝕刻有電路圖案(未示出)。夾緊表面220可以在掩模的制造和處理期間 用作參考表面。例如，表面220可以保持在靜電吸附夾具中。盡管參照矩 形的掩模來描述本發(fā)明，M本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯見的是，所有形狀的 掩模都落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。^^?？梢允且灰坏幌抻谝灰欢噙呅位蚍叫?掩模。
參照圖2和3，同時(shí)在圖1中也有圖示，掩模定位構(gòu)件180在門120 的內(nèi)表面340上>^部120延伸。內(nèi)表面340形成封閉空間124的邊界， 該封閉空間124在蓋130與門120掩^時(shí)形成。在一個(gè)實(shí)施方式中，掩模 定位構(gòu)件180包括多個(gè)大致相同的突出部330 (例如多個(gè)球體或半球)，每 個(gè)突出部具有球面335，這些突出部在基部120的內(nèi)表面340上呈規(guī)則圖 案排列。突出部330定位為并且尺寸設(shè)計(jì)成在拐角290附近沿著第一對(duì)下 邊240和第二對(duì)下邊260的一部分支撐^^模110，使得第一對(duì)下邊240和 第二對(duì)下邊260與球面335相切并且點(diǎn)接觸。盡管容器100可以具有各種 形狀，但圖1所示的這一個(gè)實(shí)施方式中的容器100的形狀與掩模IIO的形 狀大體一致，其中該容器在蓋130上包括與掩模110的拐角2卯相應(yīng)的 拐角360。在此實(shí)施方式中，成對(duì)的球形突出部330靠i^部120的每個(gè) 拐角360定位，掩模110設(shè)置在封閉空間124內(nèi)以接觸球面335使得拐角 290設(shè)置為與蓋130上的拐角360大體上對(duì)齊，如圖l和3所示。
而且，如圖2、 3、 6-10和13中所示，每對(duì)球形突出部330定位成 并且/或者安裝為使得在容器100基部120上的兩條對(duì)角線332 (圖1中的 虛線)中任一條的兩側(cè)上的各球形突出部330彼此相鄰地定位，其中對(duì)角 線332在成對(duì)的拐角2卯之間延伸。這些突出部可以由嵌A^基部120中 的球形球330形成，例如如圖9所示，并且具有球面335;或者這些突出 部可以由圖6、 7、 8和10中示出的凸面336形成。這些凸面可以與容器形 成一體。在此構(gòu)造中，每對(duì)相鄰的球形球330形成互補(bǔ)的球面部分337， 該部分337總體上朝向封閉空間124內(nèi)部并且朝向內(nèi)表面340傾斜。
總之，互補(bǔ)部分337構(gòu)成掩模設(shè)置和定位結(jié)構(gòu)，其中掩模110定位在 球形突出部330上，且?guī)D案的表面210朝向內(nèi)表面340。通過將拐角2卯 與容器100的蓋130上的拐角360大致對(duì)齊，將掩模110放置到掩模定位 構(gòu)件180上使得掩模110自對(duì)準(zhǔn)并且被保持在這些掩模定位構(gòu)件180中。 從而，第一對(duì)下(上)邊240 (270)和第二對(duì)下(上)邊260 (280)大致 平坦地設(shè)置并且平行于內(nèi)表面340。在此構(gòu)造中，第一對(duì)下(上)邊240(270)和第二對(duì)下(上)邊260 (280)中的每一邊沿著互補(bǔ)的球面部分 337處的切線338呈點(diǎn)接觸設(shè)置，如圖13清楚示出的那樣。對(duì)球形球330 的半徑(R) 390進(jìn)行選擇，以將掩模110保持在內(nèi)表面340上方的預(yù)定高 度處，如圖2所示。從而，表面340和掩模110在掩模和門之間限定擴(kuò)散 阻擋層400。擴(kuò)散阻擋層400的尺寸設(shè)計(jì)成阻止顆粒擴(kuò)散流動(dòng)到擴(kuò)散阻擋 層400，或者說為顆粒向擴(kuò)散阻擋層400的擴(kuò)散流動(dòng)設(shè)置障礙，從而使得 顆粒沿著改變的路徑遠(yuǎn)離掩模的帶圖案的表面。
可以使用三維幾何形狀來代替球形突出部330以實(shí)現(xiàn)同樣的定位功能 并且同時(shí)僅與掩模110點(diǎn)接觸。例如，錐形或截錐形的幾何形狀將^成 對(duì)的下邊240和260，并且僅提供點(diǎn)接觸。其它幾何形狀對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù) 人員也是顯然的。
掩模保持器200安裝在蓋130上或者從蓋130延伸，如圖1和2所示。 如圖2中容器100的側(cè)面剖視圖可見，每個(gè)掩模保持器200包括帶有球形 支承面420的球形保持突出部410，該球形保持突出部可以是球體。在蓋 130掩^門120時(shí)，球形支承面420的一部分與夾緊表面220在夾緊表面 220上的點(diǎn)430處強(qiáng)制接觸，如圖14清楚示出的那樣。在一個(gè)實(shí)施方式中， 每個(gè)點(diǎn)430設(shè)定為使得由夾緊表面420在點(diǎn)430處施加的力的作用線穿過 容器100的其中一條對(duì)角線332，從而防止掩模承受不對(duì)稱的載荷，這種 不對(duì)稱的載荷可能會(huì)導(dǎo)致掩模從掩模定位構(gòu)件180向上傾斜。從而，當(dāng)蓋 130與門120齡時(shí)，掩模110被剛性地保持在掩模定位構(gòu)件180和掩模 保持器200之間。
球形突出部330和球形保持突出部410可以由不容易產(chǎn)生顆粒的材料 制成并且被壓入配合到門120和蓋130上的相應(yīng)位置。在本發(fā)明的示例性 實(shí)施方式中，球形突出部330和保持球140可以是例如球軸承的滾道中的 那種球形i^3朱。在另一實(shí)施方式中，球形突出部330和保持突出部410可 以構(gòu)造成繞著穿過球體中心的 一條或多條軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使得球體在與掩 模的任何部分接觸時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)。這種設(shè)置可減少由于4^模定位構(gòu)件180或^^模 保持構(gòu)件200與掩模110之間的滑動(dòng)摩擦引起磨損所產(chǎn)生的顆粒。在此設(shè) 置中，另外的下表面掩^突出部333 (圖12中的虛線)可以適當(dāng)?shù)豝^掩 模的邊緣而不;IJ^模的^^側(cè)表面。
圖1中示出本發(fā)明的另一方面。多個(gè)豎直柱440安裝到門120上或者 從門120上突出。蓋130與豎直柱440配合以將蓋130對(duì)準(zhǔn)到門120，使得球形支承面420和夾緊表面220之間在點(diǎn)430處能夠可重復(fù)地并且無滑 動(dòng)地接觸。
一旦蓋130與門120接合，則將閂鎖140致動(dòng)以維持門120和蓋130 之間的掩^。再次參見圖l、 4和5,示出了^f吏用兩個(gè)U型彈性加載桿460 的實(shí)施方式的立體圖和側(cè)視圖，這兩個(gè)加載桿以可轉(zhuǎn)動(dòng)方式耦聯(lián)到門120 并且彼此隔開。每個(gè)U型加載桿460上可設(shè)置滾柱470、 480和可手握的 凸片4卯。所述彈性加載桿460可以運(yùn)動(dòng)學(xué)意義上地耦聯(lián)(未示出)以允 許同步轉(zhuǎn)動(dòng)，由此加栽桿460可沿相反方向一同轉(zhuǎn)動(dòng)。
操作時(shí)，蓋130接合門120，并且通過使用凸片4卯， 一個(gè)或兩個(gè)加 栽桿460轉(zhuǎn)動(dòng)，直到滾柱470、 480定位在蓋130的上方并與其接觸，如圖 4所示。加載桿460和滾柱470、 480的形狀和尺寸i殳計(jì)為4吏^ 470、 480 定位為沿著穿過球形支承面420和夾緊表面220之間接觸點(diǎn)430的直線或 軸線431在蓋130上施加壓緊力。由此構(gòu)造，加栽桿460提供均勻的閉合 力并且使夾緊力位于球形保持球410的正上方。在其它實(shí)施方式中，其它 閂鎖機(jī)構(gòu)可以在所述蓋的、與掩模及保持突出部410的掩^區(qū)域相對(duì)應(yīng)的 區(qū)域提供夾緊力。
在圖ll、 12和14中示出的另一替換實(shí)施方式中，基部設(shè)置有至少一 個(gè)輔助突出部331,這些輔助突出部設(shè)置為靠近球形突出部330。凸形突出 部331具有末端334,在掩模110由掩模定位構(gòu)件180平衡后，該末端334 提供與帶圖案的表面210的抵靠，從而將掩模IIO限制在由這些凸形突出 部331的末端334所限定的平面341 (圖14)內(nèi)，該平面341大體上平行 于門120的內(nèi)表面340。
參見圖15、 15A、 16和17，示出了根據(jù)本發(fā)明的掩模保持器500的 另一實(shí)施方式。門或基部502與蓋504配合從而形成封閉空間506。多個(gè) 掩模定位構(gòu)件508安裝在門502的表面510上。掩模定位構(gòu)件508可包括 多個(gè)基^目同的球形球512，這些球形#表面510上以規(guī)則圖案(未示 出)排列，并且尺寸設(shè)計(jì)為通過在容器500的拐角516附近與表面510的 周向非功能性部分相接觸而將掩模514支撐為基本平行于表面510。
如圖15A所示，每個(gè)掩模保持器518包括球形保持球520，該球形保 持球通過彈簧夾或彈簧墊522附連到蓋504。在蓋504與門502 #時(shí)， 球形保持球520與夾緊表面524接觸，使得彈簧夾522沿著豎直方向變形。彈簧夾522配置成4吏得其在豎直方向上的變形比在水平方向上的變形多。 一旦蓋配合到門并且閂鎖M，則彈簧夾522防止表面之間相對(duì)滑動(dòng)一一 即使容器承受沖擊和振動(dòng)載荷時(shí)也是如此。掩模514從而牢靠地保持在掩 模定位構(gòu)件508和掩模保持器518之間，且在掩模514和掩模保持器518 之間只有點(diǎn)接觸。球形球512和球形保持球520可以由不容易產(chǎn)生顆粒的 材料制成并且被壓入配合到門502和蓋504上的相應(yīng)位置中。
在各個(gè)實(shí)施方式中示出的球形球和突出部(例如330、 331、 410、 512 和520)可以由不容易產(chǎn)生顆粒的材料制成。在示例性的實(shí)施方式中，不 容易產(chǎn)生顆粒的材料是聚酰胺-酰亞胺(PAI)—-偏苯三酸酐和芳香族 二胺的反應(yīng)產(chǎn)物。PAI被稱為"酰胺-酰亞胺"是因?yàn)槠渚跰包括與酰 亞胺鍵交替的酰胺鍵。
一種在售的PAI其商標(biāo)為TORLON,該商標(biāo)是Solvay Advanced Polymers的注冊商標(biāo)。TORLON是高性能的非晶體(非晶性的)工程熱 塑性塑料。芳基和酰亞胺鍵的化合物使得聚合物具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性。酰 胺基賦予柔性和拉伸性，這導(dǎo)致工程塑料具有優(yōu)異的韌性。TORLON是 熔融處理性能最佳的塑料。其超級(jí)耐高溫，能夠在高達(dá)500華氏度(260 攝氏度)的持續(xù)溫度以及危險(xiǎn)應(yīng)力的條件下操作。由TORLON原料制成 的零件能夠提供比大多數(shù)先進(jìn)工程塑料更大的耐壓強(qiáng)度和更高的抗沖擊
性能。其相對(duì)低的線性熱a系數(shù)以及相當(dāng)高的抗蠕變性能在廣泛的應(yīng)用 范圍內(nèi)提供尺寸穩(wěn)定性。
TORLON是具有玻璃轉(zhuǎn)化溫度(Tg) (537華氏度(280攝氏度))的 非晶體材料。由美國得克薩斯州的Boedeker Plastics Inc.4l:供的TORLON 4301 (軸承等級(jí))可以有利地用于本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中。由PAI擠 出形成的TORLON 4301主要用于磨損和摩擦零件。其具有非常低的^L 率、非常低的摩擦系數(shù)并且在使用時(shí)很少有或者沒有滑動(dòng)粘附現(xiàn)象。 TORLON4301的彎曲模量是l，000，000psi,高于許多先進(jìn)的工程塑料。這 種級(jí)別在使用磨損嚴(yán)重的應(yīng)用場合一一例如在無潤滑軸承、密封圏、軸承 革和往復(fù)式空氣壓縮M件中一一表現(xiàn)優(yōu)異。
可以使用結(jié)構(gòu)上與PAI類似的其它等級(jí)和成分的聚合物，這并不偏離 本發(fā)明的范圍。具體地，TORLON具有相對(duì)而言不容易產(chǎn)生顆粒的特性， 這確保了 EUV盒100內(nèi)的環(huán)境132保持基本上沒有顆粒。這種設(shè)置基本 上消除了由于掩模定位/保持構(gòu)件與掩模之間的滑動(dòng)摩擦引起的磨損所產(chǎn)生的幾乎所有顆粒。
TORLON能夠進(jìn)行注塑模制，不過其是絕緣的。在需要靜電消散的 實(shí)施方式中，可以有利地使用例如SEMITRON (例如SEMITRON ESd 520HR)的靜電消散增強(qiáng)聚酰胺-酰亞胺材料。SEMITRON是Quadrant Engineering Plastics Products的商標(biāo)。本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到也能夠 有利地使用結(jié)構(gòu)和/或特性與TROLON類似的其它工程聚合物。
在本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式中，球形球512和保持球520可由例 如不銹鋼的金屬制成。待選材料例如是適于用作球軸承組件的座圏的材 料，因?yàn)槠渚哂邢喈?dāng)高的抗磨能力。在另一實(shí)施方式中，球形球512和/ 或保持球520可安裝到門和/或蓋上，并能夠繞著經(jīng)過所述球體中心的一條 或多條軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使得球體在與掩模的任何部分接觸時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)。這種設(shè) 置減輕了掩模定位/保持構(gòu)件508、 518與掩模514之間的滑動(dòng)摩擦。
參照圖18-26，示出了解釋本發(fā)明其它方面的實(shí)施方式。以虛線示出 的容器1099是外部包裝或盒，其構(gòu)造成例如在美國專利號(hào)6,513,654、 6,216,873和6,824,916中示出的掩模SMIF盒容器。所述專利由本申請的 受讓人所有，并且其全文通過援引并入本文。該組件此時(shí)并非保持掩模而 是保持內(nèi)部盒或盒子1100，而該內(nèi)部盒或盒子1100適于存儲(chǔ)和運(yùn)送掩模 (或掩模)1110，例如EUV掩模，并且一般包括門1120 (也可被稱為盒 的基部)，該門能夠與蓋1130掩^以形成適于容納4^模1110的密閉的封閉 空間1132。在圖19 - 21中，蓋1130通過與基部1120的密封表面1135接 合的剛性密封圏1133密封到基部1120。剛性密封圏可通過例如帽螺釘?shù)?螺紋緊固件1136固定到蓋，這些帽螺釘與蓋1130的外邊緣1139相鄰地沿 周向設(shè)置。
圖18中的實(shí)施方式的分解圖在圖19中示出。掩模1110示出為形狀 大致為矩形，并且具有第一表面1210以及與第一表面1210相對(duì)的第二表 面1220,第一表面1210與第二表面1220由側(cè)面1230隔開。第一表面1210 與側(cè)面1230分別在第一對(duì)平行下邊1240和第二對(duì)平行下邊1260處相交。 第二表面1220與側(cè)面1230分別在第一對(duì)平行上邊1270和第二對(duì)平行上邊 1280處相交。在典型的矩形形狀的掩模中，第一對(duì)下邊1240和第二對(duì)下 邊1260平行于相應(yīng)的笫一對(duì)上邊1270和第二對(duì)上邊1280,各表面的每對(duì) 相應(yīng)的平行邊在倒圓的拐角12卯處與另一對(duì)相應(yīng)的平行邊匯合。在另一實(shí) 施方式中，第一表面1210可以蝕刻有所需的電路圖案(未示出)，第二表面1220在掩模的制造和處理期間可以用作參考表面。例如，表面1220可 以保持在靜電吸附夾具中。掩模1110可以在其每個(gè)拐角附近定位并支撐在 安裝到門1120上的掩模接觸構(gòu)件1350上。掩模接觸構(gòu)件1350可以以現(xiàn)有 技術(shù)中已知的方式安裝到門1120上。盡管參照矩形掩模來描述本發(fā)明，但 對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯見的是，例如矩形、多邊形或圓形*^模的其它 形狀的掩模都可使用，其均未偏離本發(fā)明的范圍。圖19示出的實(shí)施方式示 出了形收基本上與^^模1110的形狀一致的容器1100，其包括與掩模1110 的倒圓的拐角12卯相對(duì)應(yīng)的拐角1160。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該很容 易理解的是，容器1100可具有例如矩形、多邊形或圓形等其它形狀，其均 未偏離本發(fā)明的范圍。
在圖19和23中，示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的內(nèi)部盒的門或基部 1120?；?120的形狀基本上與掩模的形狀一致并包括基仗1300， Jjfcl 1300具有相對(duì)的第一和第二主平行表面1305和1306以及倒圓的拐角 1345。 *^模1110的帶圖案的表面1210可以設(shè)置為面向主表面1305。 1300在第一主表面1305的外周附近包括連續(xù)接觸密封表面1135。 一般地， 整個(gè)第一主表面1305可以設(shè)置有一致的表面拋光部分?？商娲?，密封表 面1135設(shè)置有第一表面拋光部分1320，而第一主表面1305的其余部分一 一當(dāng)蓋1130與基部1120備^時(shí)所述其余部分暴露于所形成的封閉空間 1132的內(nèi)部——具有第二表面拋光部分1325。
如圖19和24-26所示，掩模引導(dǎo)件1330在第一主表面1305上安裝 到內(nèi)部盒的門或基部1120上，掩模引導(dǎo)件1330包括多個(gè)基本上相同的柱 1310，這些柱在^ij仗1300上固定地附連到門1120，并且從第一主表面1305 向外延伸而在柱端部1335終止。在某些實(shí)施方式中，柱端部1335形成為 具有錐形表面1340，該錐形表面傾斜為具有基本上為截頭圃錐形的形狀， 且頂點(diǎn)靠近柱端部1335。帶有錐形表面1340的柱1310以規(guī)則圖案在表面 1305上排列，并且尺寸設(shè)計(jì)成靠近掩模1110的拐角12卯、沿著第一對(duì)下 邊1240和第二對(duì)下邊1260的一部分限制該掩模1110，使得第一對(duì)下邊 1240和第二對(duì)下邊1260可以設(shè)置為與錐形表面1340相切并且呈點(diǎn)接觸， 從而使得掩模1110的倒圓的拐角12卯設(shè)置為與基tl 1300的倒圓的拐角 1345基本上對(duì)齊，如圖19和23所示。
對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯見的是，可以使用其它構(gòu)造的具有錐形表 面1340的掩模引導(dǎo)件1330來替代柱1310。具體地，可以有利地使用例如帶有球面的球形球諸如球形^，該球面設(shè)置為以柱1310的錐形表面134。 的方式接觸掩模lllO，如圖1 - 4所示，這并不偏離本發(fā)明的范圍。柱1310 可以由例如鋼或鋁的金屬制成，或者可以由包括聚合體的其它剛性材料制 成。
如圖19和23所示，柱1310安裝為使得在容器1100的兩條對(duì)角線1302 和1304中任一條的兩側(cè)的各柱1310彼此相鄰接地設(shè)置，其中對(duì)角線1302 和1304在成對(duì)的拐角1360之間延伸。在此構(gòu)造中，每對(duì)相鄰的柱1310 形成互補(bǔ)的錐形表面部分，該互補(bǔ)的錐形表面部分大體上朝向封閉空間 1132內(nèi)部傾斜并且朝向1411300的表面1305傾斜。
總之，互補(bǔ)的錐形表面部分構(gòu)成掩模設(shè)置和定位結(jié)構(gòu)，如圖24-26 所示。掩模1110定位在柱1310上，其帶圖案的表面1210朝向表面1305， 倒圓的拐角1290基本上與容器1100的拐角1345對(duì)齊。掩模將自對(duì)準(zhǔn)，從 而被保持在這些柱1310之間，且第一對(duì)下(上)邊1240 (1270)和第二 對(duì)下(上)邊1260 (1280 )大致平坦地設(shè)置并且平行于表面l305。在此構(gòu) 造中，第一對(duì)下(上)邊1240 (1270)和第二對(duì)下(上)邊1260 (l280) 中的每一邊設(shè)置為與互補(bǔ)的錐形表面部分相切地接合并且與其形成點(diǎn)接 觸。
在圖18-26的實(shí)施方式中，多個(gè)掩模接觸件1350呈球形球或突出部 1355的形式，每對(duì)柱1310之間一個(gè)。圖19和23示出了突出部1355位于 對(duì)角線1302和1304上，且與掩模引導(dǎo)件1330等距。然而，突出部1355 的定位可以變化，以避免與帶圖案的表面1210的敏感部分接觸。
再次參照圖26，每個(gè)掩模接觸件1350的半徑13卯選定為將4^模1110 的帶圖案的表面1210懸置在基板1300的主表面1305上方預(yù)定高度1400 的位置處從而形成間隙1402。所有掩模接觸件1350可延伸到內(nèi)表面1305 上方的幾乎同樣的高度1400處，從而限定基本上平行于內(nèi)表面1305的平 面1341。間隙1402的尺寸可設(shè)計(jì)為限定掩模和門之間的擴(kuò)散層或擴(kuò)散阻 擋層。擴(kuò)散阻擋層阻止顆粒進(jìn)入間隙1402中，使得顆粒沿著改變的#遠(yuǎn) 離掩模的帶圖案的表面。間隙1402的代表性和非限制性的高度1400位于 0.001-0.010英寸的范圍。
在圖18-26的實(shí)施方式中，多個(gè)^^模接觸件1350呈球形球或突出部 1355的形式，每對(duì)柱1310之間一個(gè)。圖19和23示出了球形突出部1355位于對(duì)角線1302和1304上，且與掩模引導(dǎo)件1330等距。然而，球形突出 部1355的定位可以設(shè)置成避免與帶圖案的表面1210的敏感部分接觸。例 如，球形突出部1355可以"沒置為靠近成對(duì)的邊1240和1260的中點(diǎn)連線 (midspan)。也可采用三點(diǎn)接觸，以穩(wěn)固地安裝掩模1110并足以限定平 面1341。
參照圖27，示出了球形球和突出部1355從^41 1300的后側(cè)(表面 1306)安裝的實(shí)施方式。形成腔體1404，該腔體1404具有v^i411300的 后側(cè)1306的主通路，并且限定了穿透主表面1305的球形頂點(diǎn)部1408。對(duì) 這種"穿透"進(jìn)行控制，從而形成孔1410,孑L 1410具有小于球形球1355 的預(yù)定直徑。球形球1355就位于孔1410中，4吏得其一部分從主表面1305 突出從而形成間隙1402的高度1400。球形球1355由定位螺絲保持在其位 置，并且球體延伸到主表面上方的高度可以通過轉(zhuǎn)動(dòng)該定位螺絲而細(xì)微地 調(diào)節(jié)。
本發(fā)明的另一方面通過參照圖19-21清楚地描述。蓋1130包括與內(nèi) 表面1420相對(duì)的外表面1410，內(nèi)表面1420與外表面1410隔開一個(gè)厚度 1425。只要蓋1130與盒的門或基部1120相#^，則內(nèi)表面1420即與密閉 的封閉空間1132連通。蓋1130可以配置為具有一個(gè)或多個(gè)孔1430，每個(gè) 孔都穿過蓋1130的厚度1425。孑L 1430在蓋上設(shè)置為彼此以精確的位置 1440隔開，并且在螺紋緊固件1136的內(nèi)側(cè)，且遠(yuǎn)離蓋1130的外邊1139。
圖20和21的視圖示出了定位銷1450,該定位銷的尺寸設(shè)計(jì)為間隙配 合在孔1430內(nèi)，并且該定位銷沿著大致垂直于外表面1410的致動(dòng)軸線 1432延伸。定位銷1450包括具有第一端1460的軸桿部1452以及具有相 對(duì)的第二端1465的錐形部分1462。軸桿部分1452的特征在于在其長度方 向上具有基本上一致的截面，并且穿過孔1430而延伸，使得第一端1460 留在封閉空間1132的外部并且靠近外表面1410。錐形部分1462設(shè)置在密 閉的封閉空間1132內(nèi)，并且其特征在于傾斜表面1475,傾斜表面1475在 與掩*模1110相鄰的第二端1465處變細(xì)成為倒圓的頂點(diǎn)部1480。錐形部分 1462可采取多種三維形狀的其中一種，例如錐體、截錐體或金字塔形。而 且錐形部分不需要是軸對(duì)稱的，而是可^面向掩模1U0的表面上提鄉(xiāng) 度。
在一個(gè)實(shí)施方式中，錐形定位銷1450在第一端1460處附連到彈性構(gòu) 件1478,該彈性構(gòu)件1478保持在外表面1410上。彈性構(gòu)件1478配置為使得錐形定位銷1450在正?？s回的位置和伸展位置中偏移，在正?？s回的 位置，第二端1465在密閉的封閉空間中靠近內(nèi)表面1420定位；在伸屑_位 置，第二端1465在密閉的封閉空間中遠(yuǎn)離內(nèi)表面1420定位。在示例性實(shí) 施方式中，彈性構(gòu)件1478是碟形彈性體，其在錐形定位銷1450和孔1430 之間的間隙與外表面1410之間形成密封，以防止顆粒1到密閉的封閉空 間1132中。掩模柱1310、掩皿觸件1350以及定位銷1450的錐形部分1475可 由不容易產(chǎn)生顆粒的材料例如不銹鋼或TORLON (如上所述)制成。掩 模柱1310和掩模接觸件1350可以被壓入配合到^L 1300上其相應(yīng)的位置 中。圖21的實(shí)施方式進(jìn)一步示出了與蓋1130的外表面1410抵靠的外部 包裝1500。外部盒1500具有蓋1507和門或基部1509。這是"雙重盒"的 概念，其中內(nèi)部包裝保持掩模，而外部包裝保持并固定內(nèi)部包裝。外部包 裝用于運(yùn)送，而內(nèi)部盒將取出并在用于掩模的無塵室內(nèi)使用。外部包裝 1500設(shè)置有這樣的結(jié)構(gòu)該結(jié)構(gòu)包括在掩模安放位置的每一側(cè)居中定位的 多個(gè)村墊1503以及定位成與內(nèi)部盒的蓋1130的上表面接合的多個(gè)襯墊 1504。多個(gè)襯墊1504適于接觸彈性構(gòu)件1478，并在錐形定位銷1450的第 一端1460上施加向下的力，以4吏這些定位銷向下移動(dòng)，直到每個(gè)定位銷 1450的傾斜表面1475在接觸位置1525處與掩模1110的第一對(duì)上邊1270 和第二對(duì)上邊1280的至少其中一對(duì)相接觸。在每個(gè)接觸位置1525處(圖 21 )，錐形表面1475施加水平的偏壓力1580以及豎直的偏壓力1585，該 水平的偏壓力1580位于第二表面1220內(nèi)并指向掩模，該豎直的偏壓力 1585指向第一表面1210。定位銷1450的數(shù)目以及孔1430的位置優(yōu)選地選 擇為使得成對(duì)的錐形表面1475僅在正對(duì)的位置處接觸各對(duì)相應(yīng)的上邊 1270和1280，以提供準(zhǔn)確和牢靠的水平定位，如圖19中彈性構(gòu)件1478 的位置所清楚示出的那樣。操作時(shí)，定位銷1450的錐形部分1462的截面與上邊1270和1280(圖 19)的其中一對(duì)上i^目切地接觸，在掩模1110和定位銷1450之間提供最 小的接觸。所產(chǎn)生的豎直偏壓力1585用來限制掩模相對(duì)于門的運(yùn)動(dòng)。本領(lǐng) 域技術(shù)人員將很容易認(rèn)識(shí)到可以有利地采用例如方形、三角形或多邊形的 其它截面形狀并結(jié)合具有匹配截面的孔，這并不偏離本發(fā)明的范圍。圖28、 32和33的實(shí)施方式采用了定位銷1450和位于掩模1110的覆蓋區(qū)域外側(cè)并與外側(cè)緊挨的掩模柱1310.從功能上講，掩模柱1310僅用于將掩模1110引導(dǎo)到球形突出部1355 上。致動(dòng)定位銷1450將使得掩模1110在基板1300上對(duì)中。如果掩模1110 與一個(gè)或多個(gè)掩模柱1310接觸，則對(duì)中操作將使得掩模1110移動(dòng)而遠(yuǎn)離 掩模柱1310,在掩模1110和掩模柱1310之間留下間隙1312。在此構(gòu)造中， 錐形表面1340應(yīng)該設(shè)定為高于掩模1110的帶圖案的表面1210。再次參照圖18-21，蓋1130設(shè)置有密封團(tuán)1133，該密封團(tuán)設(shè)置在表 面1420上，并靠近蓋1130的外邊1605。密封團(tuán)1133具有密封接觸表面 1610，該密封接觸表面具有與密封表面1135的表面拋光部分大致相同的表 面拋光部分。而且，表面1420設(shè)定為當(dāng)蓋1130配合到門1120上時(shí)，密封 接觸表面1610接合剛性密封表面1135從而形成密封。兩個(gè)表面通過粘附 機(jī)制保持接觸，該粘附機(jī)制包括毛細(xì)管、靜電吸附和范德華吸力以及氬鍵 結(jié)合力的其中一種或多種。在本發(fā)明的一般實(shí)施方式中，整個(gè)第一主表面 1305可以設(shè)置有一致的表面拋光?？商娲?，密封表面1135設(shè)置有第一 表面拋光部分1320，而第一主表面1305的其余部分可以設(shè)置第二表面拋 光部分1325。密封接觸表面1610和密封表面1135可以是例如拋光的、電 鍍有少量鎳的鋁。 一般地，平均表面WIJL (RA)達(dá)到0.50微英寸的表 面拋光是可接受的，且優(yōu)選范圍為RA0.20-0.40。表面拋光可通過研磨或 拋光或本領(lǐng)域中公知的其它方法獲得。密封圏1133可以是鋼帶，其通過激 光焊接或者其他方式粘附或附連到蓋的內(nèi)表面。用于組裝門1120的方法包括將主表面1305研磨或拋光成前述平整度 和拋光恥格，隨后在主表面1305上形成柱腔，該柱腔的尺寸形成為與柱 1310形成過盈配合，并在基fel 1300的后側(cè)1306上形成用于容納4^模接觸 件1350的腔體。對(duì)于圖28的實(shí)施方式，使用球形球1355來用作掩模接觸 件1350。相應(yīng)地，用于容納掩模接觸件1350的腔體形成為穿透表面1305 并形成預(yù)定直徑的孔1410,該孔允許球形球1335只有一部分延伸到表面 1305上方并且延伸到預(yù)定的高度1400。此后，柱1310壓入配合到基板1300 中，球形球1355通過定位螺絲1412固定在其位置中。參照圖29-36，示出了本發(fā)明的、覆蓋區(qū)域減小的剛性密封圏1650 的實(shí)施方式。如前所述，剛性密封團(tuán)1650可安裝到蓋1652上。如前所述， 蓋1652可包括定位銷1450。剛性密封團(tuán)1650包括安裝面1654、密封面 1656、內(nèi)周面1658和多個(gè)安裝面凹部1660以及密封面凹部1662。安裝面凹部1660形成于安裝面1654以及內(nèi)周面1658上，并且尺寸設(shè):計(jì)為無接觸 地容納定位銷1450。密封面凹部1662形成于密封面1656以及內(nèi)周面1658 上，并且尺寸設(shè)計(jì)為無接觸地容納掩模柱1310。從功能上講，定位銷1450在安裝面凹部1660內(nèi)操作，并且當(dāng)蓋1652 放置在基部1664上時(shí)，掩模柱1310容納在凹部1662中。部件1450和1310 與凹部1660和1662的配^H"吏得剛性密封團(tuán)1650具有減小的尺寸1666， 同時(shí)保持剛性密封裝置的完整性。蓋1652以M部1664的整體平面尺寸 還可減小，使得整體設(shè)計(jì)更為緊湊。參照圖34、 35、 36和37,示出了具體實(shí)施方式
的另一特征。蓋1130 的外表面2410可配置有蛇形肋，并M 1705激光焊接在外表面2410上以 形成溝槽或微通道1700,如圖37中示意性地示出。微通道1700通過連通 到盒內(nèi)部的入口 1725和出口 1730將外部環(huán)境與容器內(nèi)的內(nèi)部封閉空間 1132連通。溝槽優(yōu)選地約0.002到0.004英寸深，圖案重復(fù)的溝槽段1710、 1715、 1717和1718互相連接且對(duì)于經(jīng)過溝槽的顆粒擴(kuò)散流而言形成急彎。 每個(gè)通道一般約0.25到0.75英寸寬、幾英寸長。微通道提供了擴(kuò)散阻擋層 以防止顆粒從外部環(huán)境進(jìn)入內(nèi)部封閉空間中，但是允許容器內(nèi)部和外部之 間的壓力平衡。微通道1700還可通it^板1705上形成合適尺寸的通道并 將該板附連到頂蓋1130的上殼部分1131的上表面而形成，從而其形成微 通道1700以形成擴(kuò)散過濾器或小間隙過濾器。這種過濾機(jī)制是基于如下的 概念，即顆粒在i^容器之前將被吸附到通道壁，因而將不會(huì)ii^內(nèi)部 封閉空間。該通ifiE在EUV盒或容器100的內(nèi)部和外部環(huán)境之間提供壓 力平衡?？梢岳每諝馔ㄟ^例如符合ASTM D737標(biāo)準(zhǔn)的阻擋過濾器的 Frazier透氣率(或Frazier數(shù))(cfm/ft2@0.5in. H20 delta-P)來測量該過 濾器的效率。容器IOO (即EUV盒)大部分時(shí)間將停留在真空環(huán)境中。然 而，如果掩模需要清潔或替換，則該容器可以移動(dòng)到存在空氣的無塵室環(huán) 境中。在此情形下期望緩慢作用的過濾器一一即具有較低Frazier數(shù)的過 濾器，使得通過其的空氣速度非常低。通常，F(xiàn)razier數(shù)小于或等于0.28 立方英尺每分鐘@0.5英寸H20每平方英尺的過濾介質(zhì)。參照圖38-41，示出了蜿蜓曲折的擴(kuò)散過濾器的替代實(shí)施方式。掩模 容器1800具有基部或門1802和蓋1804， 二者配合以形成封閉空間1806。 在門1802的上表面上并靠近門1802的外周i殳置有大體上平坦并且連續(xù)的 凸緣或外周部分1808。蓋1804同樣具有平坦和連續(xù)的凸緣或外周部分1810。相應(yīng)的外周部分1808和1810的尺寸設(shè)計(jì)為當(dāng)蓋1804與門1802配 合并且接合門閂鎖1812時(shí)，外周部分1808密封地抵靠外周部分1810。蜿蜒曲折的通道1816可形成于任一外周部分1808或1810的表面上。 蜿蜒曲折路徑1816可具有狹窄的、蛇形通道的形式；當(dāng)門和蓋接合時(shí)，該 蜿蜒曲折路徑將容器的外部環(huán)境與容器內(nèi)部連通。在圖39的實(shí)施方式中， 蜿蜒曲折通道1816包括圖案重復(fù)的段1818、 1820、 1822和1824，這些段 依次連接。每個(gè)段的深度可以是深入外周部分1808或1810的表面下方約 0.002 - 0.004英寸，并且最短的段(即段1820)可具有約0.25英寸的長度。 段的總數(shù)可設(shè)置為使得在1826處進(jìn)入通道的顆粒在1容器之前(于1828 處)必須穿越至少6英寸的路徑。前^X寸僅作為例子，而不應(yīng)該理解為 限制的目的。i^X蜿蜒曲折通道1816中的顆粒容易撞擊到蜿蜓曲折通道1816的壁 并且聚集在通道內(nèi)部，而不是穿itit道擴(kuò)散到封閉空間1806中。因此，蜿 蜒曲折通道1816表現(xiàn)為擴(kuò)散阻擋層或擴(kuò)散過濾器，防止顆粒i^、，同時(shí)提 供一種使得封閉空間1806內(nèi)部的壓力與封閉空間外部的壓力平衡的裝置。參照圖41，示出了蜿蜒曲折路徑概念的另一實(shí)施方式。蜿蜒曲折通路 1830的特征在于圖案重復(fù)的主要長度段1832和1834由次要長度段1836 和1838連接，并且彼此基本上呈直角互連，從而對(duì)于流經(jīng)的顆粒擴(kuò)散流而 言表現(xiàn)為急彎。每個(gè)段1832、 1834、 1836和1838延/f申越過與相應(yīng)的下游 段的連接部，從而形成多個(gè)顆粒捕獲段1840。每個(gè)顆粒捕獲段1840均是"死胡同"，使得流進(jìn)去的任何顆粒都從顆 粒擴(kuò)散流中分離出來并掉入段1840中，而不是通過該彎折部i^A^目鄰的 段。本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)容易認(rèn)識(shí)到，可以使用其它材料、表面處理和接 觸表面來獲得表面貼附效果，從而在不使用產(chǎn)生顆粒的彈性體密封件的情 況下提供密封。例如，通過使聚合體、玻璃、陶瓷和金屬配合而形成>^發(fā) 明的密封圏，也能獲得相似的密封。還應(yīng)該理解的是，這里具體示出的掩 模盒的特征還有利于且可用于晶圓容器和其它襯底容器。例如，擴(kuò)散過濾 器將適用于晶圓容器，聚酰胺-酰亞胺將非常適用于晶圓的接觸區(qū)域以及例 如FOUPS和FOSBS (分別是前開式晶圓傳送盒和前開式晶圓運(yùn)送盒的縮 寫)等晶圓容器的機(jī)器接口。這里所述的容器實(shí)施方式或其部分可以由能消散靜電的材料制成，從 而防止損壞其中存儲(chǔ)和運(yùn)輸?shù)难谀！Ｒ驗(yàn)楸绢I(lǐng)域技術(shù)人員可以在不偏離本發(fā)明的精神的情況下做出本發(fā) 明的各種修改形式、替代形式和變化形式，所以本發(fā)明不限制于這里所解 釋和所描述的實(shí)施方式。恰恰相反，本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求及其 等同形式所確定。
權(quán)利要求
1、一種用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器包括基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多個(gè)向上延伸的接觸元件，所述接觸元件具有球形的上表面以用于接合所述掩模的下表面，所述基板還具有多個(gè)柱，所述多個(gè)柱定位成用于限制所述掩模的外周，所述接觸元件的上表面和所述多個(gè)柱限定掩模安放位置，所述面向上的水平上表面還具有在所述基部的外周處、或靠近所述基部的外周繞著所述基部延伸的密封表面；蓋，其用于沿著所述基板的外周與所述基板的上表面接合從而限定用于保持所述掩模的內(nèi)部空間，所述蓋具有面向下的水平的平坦密封表面，所述面向下的水平的平坦密封表面用于與所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，從而當(dāng)相應(yīng)的所述密封表面相接觸時(shí)在所述密封表面之間形成密封。
2、 如權(quán)利要求l所述的容器，其中所i^板至少大部分由金屬形成， 且所述上表面是連續(xù)平坦的并且從所述密封表面到位于所述掩模的掩模 安放位置下方的表面都是一體的。
3、 如權(quán)利要求2所述的容器，其中所述面向下的水平的平坦密封表面 由金屬形成，從而在所述基部和所述蓋之間的密封是金屬與金屬的密封。
4、如權(quán)利要求l所述的容器，其中所述柱由金屬形成并且具有頂部， 所述頂部帶有朝向所述掩模安放位置傾斜的傾斜部。
5、如權(quán)利要求l所述的容器，其中所述柱具有豎直部，且當(dāng)所述掩模 安放在所述掩模安放位置時(shí)，所述豎直部在橫向上與所述掩模的側(cè)面相 鄰。
6、如權(quán)利要求1所述的容器，其中所述多個(gè)柱中的每一個(gè)柱的傾， 限定所述掩模安放位置，從而所述掩模安放在所述傾斜部上。
7、 如權(quán)利要求l所述的容器，其中所述多個(gè)接觸元件中的每一個(gè)接觸 元件均包括球體。
8、 如權(quán)利要求7所述的容器，其中所述球體被向下壓入配合到從所述 面向上的水平上表面向下延伸的凹部或孔中。
9、 如權(quán)利要求7所述的容器，其中所述底板具有從底板下側(cè)形成的多 個(gè)孑L，所述孔用于容納所述球體，每個(gè)球體通過定位螺絲保持在所述孔內(nèi)。
10、 一種容器系統(tǒng)，包括如權(quán)利要求1所述的容器，還包括外蓋以及 能夠容納在所述外蓋內(nèi)以限定內(nèi)部空間的門，所述外蓋和外基部的尺寸設(shè) 計(jì)為用于容納如權(quán)利要求1所述的容器。
11、 如權(quán)利要求l所述的容器，其中所述蓋包括以可滑動(dòng)的方式定位 在所述蓋中的多個(gè)能夠豎直移動(dòng)的掩模柱，所述i^模柱的位置i殳定為與所 述掩模的頂邊"^。
12、如權(quán)利要求11所述的容器，其中每個(gè)能夠移動(dòng)的掩模柱彈性地定 位在所述蓋中。
13、如權(quán)利要求12所述的容器，其中每個(gè)能夠移動(dòng)的掩模柱具有傾斜 部，所述傾斜部用于與所述掩模的上邊掩^，以對(duì)掩^施壓并將^^模限定 在所述掩模安放位置'
14、如權(quán)利要求l所述的容器，其還包括多個(gè)附連到所述容器并能夠橫向移動(dòng)的構(gòu)件，每個(gè)構(gòu)件被向內(nèi)偏壓以將所述掩模限制在其位置。
15、如權(quán)利要求l所述的容器，其還包括用于壓力平衡的過濾器，所 述過濾器不具有過濾介質(zhì)，而是具有成對(duì)的相對(duì)平坦表面，所述成對(duì)的相 對(duì)平坦表面由間隙隔開以提供擴(kuò)散阻擋層，所述過濾器提供從容器內(nèi)部到 容器外部的通道。
16、 如權(quán)利要求15所述的容器，其中所述間隙為0.001到0.007英寸寬。
17、 如權(quán)利要求15所述的容器，其中所述通道蜿蜒曲折，具有多個(gè)拐 角以及通道段。
18、 如權(quán)利要求15所述的容器，其中所述成對(duì)的相對(duì)表面相對(duì)于彼此 固定并設(shè)定在頂蓋的上表面上。
19、 如權(quán)利要求15所述的容器，其中所述成對(duì)的相對(duì)表面中的其中一 個(gè)表面是所述頂蓋的一部分，而另一個(gè)表面是所述基部的一部分，并且所 述過濾器僅在所述頂蓋安放在所iL^部上時(shí)才起作用。
20、如權(quán)利要求15所述的容器，其還包括另外的容器，所述另外的容 器包括另外的容器頂部和能夠容納在所述頂部中、并能夠鎖到所述頂部上 的另外的容器門，所述另外的容器的尺寸設(shè)計(jì)為用于容納如權(quán)利要求15 所述的容器，從而如權(quán)利要求15所述的容器成為內(nèi)部容器。
21、如權(quán)利要求20所述的容器，其中所述另外的容器頂部包括在所述 頂部的內(nèi)表面上向下5^f申的多個(gè)彈性構(gòu)件，并且所述彈性構(gòu)件與所述內(nèi)部 容器的頂蓋#^。
22、如權(quán)利要求21所述的容器，其中所述內(nèi)部容器的所述頂蓋包括多 個(gè)能夠豎直移動(dòng)的掩^柱，所述掩^柱以可滑動(dòng)的方式定位在所述蓋中， 且所述柱定位成與所述掩模的頂邊M,并且所述彈性構(gòu)件與所述能夠豎 直移動(dòng)的柱M。
23、 一種用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、 側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器包括基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多 個(gè)設(shè)置在所i^部中的球體，每個(gè)球體定位成大部分位于所述面向上的水 平上表面之下，所述接觸元件限定掩模安放位置，所U部在所述基部的 外周處或靠近所U部的外周具有面向上的密封表面；蓋，其用于沿著所*敗的外周與所^^1的上表面#^從而限定用 于保持4^模的內(nèi)部空間，所述蓋具有面向下的密封表面，所述面向下的密 封表面用于與所U部的面向上的水平表面的密封表面相配合，從而當(dāng)相 應(yīng)的所述密封表面相接觸時(shí)在所述密封表面之間形成密封。
24、如權(quán)利要求23所述的容器，其中所U部的所述密封表面和所述 蓋的所述密封表面都由金屬形成，其中當(dāng)相應(yīng)的密封表面接合時(shí)形成金屬 與金屬的密封。
25、如權(quán)利要求24所述的容器，其中所述頂蓋大部分由聚合體形成, 并且所述頂蓋的密封表面是固定到所述聚合體的金屬團(tuán)的一部分。
26、 如權(quán)利要求23所述的容器，其中所述基部具有多個(gè)柱，所述柱固 定到所U部中并與所述4^模安放位置相鄰。
27、 一種用于保持掩模的容器與掩模的組合，所述掩模具有外周、上 表面、下表面、側(cè)面、四個(gè)周向拐角、頂邊和底邊，所述容器包括基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多個(gè)設(shè)置在所U部中的球體，每個(gè)球體定為成大部分位于所述面向上的水平表面的下方并且延伸超過所述面向上的水平平面0.002到0.007英寸的距 離，所述接觸元件限定掩模安放位置，所U部在所i^部的外周處或靠 近所述基部的外周具有面向上的密封表面；蓋，其用于沿著所*板的外周與所述基仗的上表面掩^，從而限定 用于保持4^模的內(nèi)部空間，所述蓋具有面向下的密封表面，所述面向下的 密封表面用于與所U部的面向上的水平表面的密封表面相配合，從而當(dāng) 相應(yīng)的所述密封表面相接觸時(shí)在所述密封表面之間形成密封。
28、如權(quán)利要求27所述的組合，其中所id^部的所述密封表面和所述 蓋的所述密封表面都是非彈性的。
29、 一種用于掩模的雙重容放盒，包括內(nèi)部盒和外部盒，所述內(nèi)部盒 包括基部和與所i^部配合的蓋，所述內(nèi)部盒在其內(nèi)具有掩模安放位置， 所述外部盒包括容器部分和與所述容器部分g己合的基部，所述外部盒的尺 寸設(shè)計(jì)為用于容納所述內(nèi)部盒。
30、如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其還包括不具有過濾介質(zhì)的壓 力平衡裝置。
31、如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其中所述壓力平衡裝置包括帶 有蜿蜒曲折通道的擴(kuò)散過濾器。
32、如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其中所述掩模定位成與所述內(nèi) 部盒的基部的上表面足夠靠近，以提供擴(kuò)散阻擋層，從而防止顆粒到達(dá)面 向所U部的上表面的掩^4面。
33、如權(quán)利要求32所述的雙重容放盒，其中所述內(nèi)部盒的基部包括多 個(gè)球體，所述掩模安放于所述球體上，每個(gè)球體大部分位于所述基部的上表面的下方。
34、 如權(quán)利要求32所述的雙重容放盒，其中所述球體由聚酰胺—酰亞 胺制成。
35、 如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其中所述球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式 安M所述基部中。
36、如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其中所述內(nèi)部盒的頂蓋包括多 個(gè)能豎直移動(dòng)的^^模柱，所述4^模柱以可滑動(dòng)的方式設(shè)置所述蓋中，且所 述柱定位成與所述i^模的頂邊癡^。
37、如權(quán)利要求35所述的雙重容放盒，其中所述外部盒的頂部包括多 個(gè)構(gòu)件，所述構(gòu)件定位成當(dāng)所述內(nèi)部盒安放在所述外部盒中且所述外部盒 的頂部M所述門時(shí)，與所述能夠豎直移動(dòng)的掩模柱^。
38、如權(quán)利要求29所述的雙重容放盒，其中所述能夠豎直移動(dòng)的柱彈 性地安裝到所述頂蓋上，且當(dāng)所述柱從其通常位置移動(dòng)時(shí)，所述柱向掩模 偏移。
39、 一種掩模容器，其包括基部和頂蓋，所i^部具有用于支撐所述 1^模的多個(gè)1^| ^構(gòu)件，所述*^#^構(gòu)件由聚酰胺—酰亞胺構(gòu)成。
40、 如權(quán)利要求39所述的掩模容器，其中每個(gè)掩 ^構(gòu)件構(gòu)造成球 體，所述球體定位在所述頂蓋中，且所述球體的一部分位于所U部的上 表面的下方。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種提供支撐結(jié)構(gòu)和環(huán)境控制裝置的容器，該容器例如與容納在其內(nèi)的晶圓或掩模的接觸最小，且與晶圓或掩模配合以提供防止顆粒沉降在晶圓或掩模表面上的擴(kuò)散阻擋層。該容器包括基部，基部具有帶突出部的平坦拋光表面，晶圓或掩模放置在突出部上。突出部具有例如球形的幾何形狀，使得與晶圓或掩模的接觸最小，并將晶圓或掩模支撐在該基部上方以在其間提供間隙。該間隙將晶圓或掩模與該基部的平坦拋光表面隔開，但是尺寸設(shè)計(jì)為防止顆粒進(jìn)入該間隙中，從而防止晶圓或掩模的敏感表面被污損。擴(kuò)散過濾器提供壓力平衡且沒有過濾介質(zhì)。頂蓋上的能夠移動(dòng)的掩模銷釘提供對(duì)掩模的限制。雙重容放盒實(shí)施方式提供進(jìn)一步的隔離和保護(hù)。
文檔編號(hào)B65D85/48GK101321674SQ200680044197
公開日2008年12月10日 申請日期2006年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月27日
發(fā)明者克里斯蒂安·安德森, 凱文·麥克馬倫, 史蒂文·P·科爾博, 大衛(wèi)·L·哈爾布邁爾, 安東尼·M·蒂耶本, 王華平, 約翰·呂斯塔德, 邁克爾·L·約翰遜, 邁克爾·奇塞夫斯基, 馬修·庫斯 申請人:誠實(shí)公司