專利名稱：一種雙r地軌的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及了一種雙R地軌，屬于潔凈室技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在醫(yī)藥、電子等領(lǐng)域，要求潔凈室能實(shí)現(xiàn)無塵化。而地軌是潔凈室中常用的一種裝修器材，現(xiàn)有的地軌都是普通的直角形狀，容易在地軌兩側(cè)與地面之間的連接處積灰塵，而且不易打掃，無法滿足潔凈室的潔凈等級(jí)要求，影響生產(chǎn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種雙R地軌，通過在地軌上設(shè)置弧形面，使地軌與底面之間存在一個(gè)弧形坡度，避免在連接處積灰塵，且便于清潔。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種雙R地軌,包括底面和兩個(gè)與所述底面垂直連接的豎直面,所述兩個(gè)豎直面上均連接有一向下延伸的弧形面。前述的一種雙R地軌，其特征在于:所述豎直面與弧形面上端部的切面相重合，所述底面與弧形面下端部的切面相重合。前述的一種雙R地軌，其特征在于:所述弧形面的高度為所述豎直面高度的1/4-1/3。
本實(shí)用新型的有益效果是:通過在地軌上設(shè)置弧形面，使地軌與地面之間存在一個(gè)弧形坡度，且弧形面的兩個(gè)切面分別于地軌的豎直面和底面相重合，避免在連接處積灰塵，且便于清潔。

圖1是本實(shí)用新型一種雙R地軌的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合說明書附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。如圖1所示,一種雙R地軌,包括底面2和兩個(gè)與所述底面2垂直連接的豎直面1，所述兩個(gè)豎直面I上均連接有一向下延伸的弧形面3，通過弧形面3起到導(dǎo)向的作用，使地軌兩側(cè)的灰塵不易堆積，且便于清潔。所述豎直面I與弧形面3上端部的切面相重合，所述底面2與弧形面3下端部的切面相重合，所述弧形面3的高度為所述豎直面I高度的1/4-1/3，保證了弧形面3與豎直面1、地面之間的平滑連接，能有效避免積灰。綜上所述，本實(shí)用新型提供的一種雙R地軌，通過在地軌上設(shè)置弧形面，使地軌與底面之間存在一個(gè)弧形坡度，避免在連接處積灰塵，且便于清潔。以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征及優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要 求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界。
權(quán)利要求1.一種雙R地軌，包括底面(2)和兩個(gè)與所述底面(2)垂直連接的豎直面(I),其特征在于:所述兩個(gè)豎直面(I)上均連接有一向下延伸的弧形面(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙R地軌，其特征在于:所述豎直面(I)與弧形面(3)上端部的切面相重合，所述底面(2)與弧形面(3)下端部的切面相重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種雙R地軌，其特征在于:所述弧形面(3)的高度為所述豎直面(I)高度的1 /4-1/3。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種雙R地軌，包括底面和兩個(gè)與所述底面垂直連接的豎直面，所述兩個(gè)豎直面上均連接有一向下延伸的弧形面，所述豎直面與弧形面上端部的切面相重合，所述底面與弧形面下端部的切面相重合。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中地軌兩側(cè)易積灰的問題，通過在地軌上設(shè)置弧形面，使地軌與底面之間的存在一個(gè)弧形坡度，且弧形面的兩個(gè)切面分別于地軌的豎直面和底面相重合，避免在連接處積灰塵，且便于清潔。
文檔編號(hào)E01B5/00GK203113160SQ20132002979
公開日2013年8月7日 申請日期2013年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月21日
發(fā)明者黃清龍 申請人:龍隆無塵設(shè)備(昆山)有限公司