技術總結(jié)
本實用新型公開了一種濕法面接觸柔性高效拋光機，包括機架，所述機架設有：磨拋模塊，其包括環(huán)流磨機構及加水機構，所述環(huán)流磨機構包括：磨頭支架；主軸；公轉(zhuǎn)盤；公轉(zhuǎn)電機；磨具模組，其包括磨具中軸、磨具基座、虛實結(jié)合彈性體和水磨碟；所述加水機構將外設的水源引至所述出水口往公轉(zhuǎn)盤下方注出；所述機架上還設有輸送模塊。通過合理配置磨拋生產(chǎn)線上的各個機構，從而實現(xiàn)陶瓷石材的濕法面接觸柔性高效拋光工序，使得磨塊與工件表面一直保持面接觸狀態(tài)，有效提高加工效率，避免形成波紋面，相應地，減少加工單位時間也起到了節(jié)約用水的效果。磨拋生產(chǎn)線上的輸送皮帶穩(wěn)定、不走偏，依托免修正耐磨底板能夠貼合工件表面，降低損件率。

技術研發(fā)人員：龍其瑞;黃軍;龍伍洋
受保護的技術使用者：廣東工科機電有限公司
文檔號碼：201720196475
技術研發(fā)日：2017.03.01
技術公布日：2017.10.20