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一種用于KDP晶體的油包酸性離子液體拋光液的制作方法

文檔序號(hào):12583412閱讀:400來(lái)源:國(guó)知局
本發(fā)明屬于超精密加工和功能化微乳液合成的交叉應(yīng)用領(lǐng)域,具體涉及一種用于KDP晶體的油包酸性離子液體拋光液。
背景技術(shù)
:磷酸二氫鉀(KDP)晶體是20世紀(jì)40年代發(fā)展起來(lái)的一種非常優(yōu)良的光學(xué)晶體,是目前唯一可用于ICF、強(qiáng)激光武器等光路系統(tǒng)的激光倍頻、電光調(diào)制和光電開(kāi)關(guān)器件的非線性光學(xué)材料。工程應(yīng)用中對(duì)KDP晶體的表面質(zhì)量要求極高,如超光滑、無(wú)表面缺陷、無(wú)應(yīng)力殘余和無(wú)雜質(zhì)殘留等,近乎材料加工的極限。然而,KDP晶體材料本身具有軟脆、易潮解、對(duì)溫度變化敏感以及各向異性等特點(diǎn),被公認(rèn)為最難加工的光學(xué)元件之一。對(duì)于KDP晶體這類(lèi)軟脆材料,獲得超光滑表面非常困難。目前國(guó)內(nèi)外工程應(yīng)用中比較成熟的超精密加工方法主要是單點(diǎn)金剛石飛切(SPDT)技術(shù)和磁流變拋光技術(shù)(MRF),美國(guó)LLNL實(shí)驗(yàn)室和我國(guó)哈爾濱工業(yè)大學(xué)等單位在該領(lǐng)域已取得一些成果。但是,采用SPDT技術(shù)加工KDP晶體,會(huì)在晶體表面產(chǎn)生周期性小尺度波紋(飛切刀紋)和亞表面損傷,在高功率激光作用下容易產(chǎn)生損傷和破壞。MRF雖然能夠消減SPDT技術(shù)產(chǎn)生的小尺度波紋,但是會(huì)在晶體表面產(chǎn)生鐵粉等微納顆粒的嵌入現(xiàn)象,另外,晶體表面磁流變殘夜的清洗也是目前的一大難題。發(fā)展針對(duì)KDP等軟脆易潮解晶體的新型超光滑、低損傷、低缺陷的“軟拋光”技術(shù)勢(shì)在必行?;瘜W(xué)機(jī)械拋光是一種在半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)非常成熟的表面拋光技術(shù),它能夠?qū)崿F(xiàn)工件全尺寸范圍內(nèi)的平坦化,在制備超光滑表面方面存在技術(shù)優(yōu)勢(shì)。在化學(xué)機(jī)械拋光中,拋光液是整個(gè)技術(shù)工藝的核心之一,其物理化學(xué)性質(zhì)決定著化學(xué)機(jī)械拋光的精密水平,如果選用傳統(tǒng)的拋光液,會(huì)造成KDP晶體表面霧化或損傷。目前針對(duì)KDP等軟脆易潮解晶體的化學(xué)機(jī)械拋光,主要采用基于油包水(W/O)微乳液的潮解拋光原理和基于有機(jī)酸/堿的化學(xué)腐蝕拋光。中國(guó)專(zhuān)利文獻(xiàn)庫(kù)公開(kāi)的名稱(chēng)為“一種用于軟脆易潮解晶體的非水基無(wú)磨料拋光液”的專(zhuān)利,專(zhuān)利號(hào)為CN00910010268.2,該專(zhuān)利選用醇或酯作為油相,高碳脂肪醇聚氧乙烯醚等非離子表面活性劑作為表面活性物質(zhì),制備了油包水的微乳液。該微乳液將潮解作用縮小到納米級(jí)別,用于KDP晶體的拋光,可以實(shí)現(xiàn)晶體表面的選擇性均勻去除。但是由于水對(duì)KDP晶體的潮解作用強(qiáng)度很大,拋光時(shí)晶體表面潮解微區(qū)的去除率是不可控的,很容易在表面產(chǎn)生小的腐蝕坑,拋光去除精細(xì)程度低?;谖⑷橐旱某苯鈷伖庠淼姆椒ㄈ毕?,主要?dú)w因?yàn)椋海?)W/O微乳液中水核尺寸雖為納米級(jí)別,但是每個(gè)水核對(duì)KDP晶體的潮解作用強(qiáng)度是不可控的,而且在CMP過(guò)程中,由于機(jī)械作用的參與,會(huì)進(jìn)一步擴(kuò)大微區(qū)內(nèi)的潮解作用強(qiáng)度,最終會(huì)導(dǎo)致化學(xué)機(jī)械去除精度難以控制,去除率只能控制在百納米級(jí)別,KDP晶體表面容易產(chǎn)生腐蝕坑,精密加工難以實(shí)現(xiàn)。(2)潮解作用在KDP晶體晶體表面形成KDP水溶液,由于KDP水溶液在有機(jī)溶劑(油相)中的溶解度很低,不可避免的會(huì)在KDP晶體表面產(chǎn)生殘留并再結(jié)晶,導(dǎo)致表面殘留KDP微晶,影響表面質(zhì)量。中國(guó)專(zhuān)利文獻(xiàn)庫(kù)公開(kāi)的名稱(chēng)為“軟脆易潮解晶體化學(xué)機(jī)械拋光用無(wú)水無(wú)磨料拋光液”的專(zhuān)利,專(zhuān)利號(hào)為CN102660198A,該專(zhuān)利制備了一種由有機(jī)腐蝕劑、有機(jī)腐蝕抑制劑、表面活性劑、有機(jī)pH值調(diào)節(jié)劑以及有機(jī)溶劑組成的無(wú)水無(wú)顆粒型拋光液,避免了潮解拋光的晶體表面開(kāi)裂等問(wèn)題。但是采用組合物方式的拋光液,存在靜態(tài)腐蝕作用,且拋光時(shí)對(duì)表面位點(diǎn)的選擇性差,直接影響了最終的拋光質(zhì)量。對(duì)于基于有機(jī)酸/堿的化學(xué)腐蝕拋光,必須進(jìn)一步降低拋光液對(duì)KDP晶體的靜態(tài)腐蝕以及提高拋光液的高選擇性。從以上分析可知,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)在理論上有望實(shí)現(xiàn)KDP晶體的超光滑、超潔凈表面加工目標(biāo),但是目前基于微乳液的潮解拋光理論和有機(jī)酸/堿的化學(xué)腐蝕拋光理論均存在著難以克服的問(wèn)題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于KDP晶體的油包酸性離子液體拋光液。本發(fā)明的用于KDP晶體的油包酸性離子液體拋光液,其特點(diǎn)是:所述的拋光液各組分的質(zhì)量百分比為:油相:25%~60%;分散相溶劑:10%~15%;酸性離子液體:5%~15%;表面活性劑:15%~45%;助表面活性劑:5%~15%。所述的油相為非極性有機(jī)溶劑,環(huán)己烷、正己烷、單油酸甘油酯、三油酸甘油酯或三辛酸甘油酯中的一種。所述的分散相溶劑為乙醇、異丙醇或1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸鹽([Hmim]PF6)中的一種。所述的酸性離子液體為雙三氟甲磺酰亞胺(TFSI)、己內(nèi)酰胺磷酸鹽([NHCH]H2PO4)、N,N′-二甲基甲酰胺磷酸鹽([DMFH]H2PO4)、1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氫鹽([Bmim]HSO4)或吡啶硫酸氫鹽([Py]HSO4)中的一種。所述的表面活性劑為壬基酚聚氧乙烯醚、烷基聚氧乙烯醚或脂肪醇聚氧乙烯醚中的一種。所述的助表面活性劑為正丁醇、正戊醇、正己醇、或正辛醇中的一種。所述的拋光液的制備環(huán)境溫度為20℃~25℃,相對(duì)濕度為30%~50%,氣壓為常壓。本發(fā)明的拋光液為油包酸性離子液體微乳液,綜合考慮了KDP晶體的反應(yīng)特性和化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的特點(diǎn),克服了當(dāng)前KDP晶體潮解拋光用油包水微乳液和有機(jī)酸/堿化學(xué)腐蝕拋光液的缺陷和不足,同時(shí)兼具了微乳液潮解拋光的高選擇性和有機(jī)酸/堿腐蝕拋光的完全無(wú)水特點(diǎn),是一種更先進(jìn)的拋光液。本發(fā)明通過(guò)對(duì)活性成分酸性離子液體進(jìn)行包覆,并結(jié)合化學(xué)機(jī)械拋光的多場(chǎng)耦合機(jī)制,以界面上化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)控制為基本出發(fā)點(diǎn),對(duì)酸性離子液體的釋放、界面作用形式和化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)進(jìn)行界面調(diào)控,使微區(qū)內(nèi)的去除反應(yīng)更加精確可控,拋光后KDP晶體表面殘留的有機(jī)溶液,通過(guò)相匹配的有機(jī)溶劑即可實(shí)現(xiàn)KDP晶體表面清潔,不會(huì)對(duì)KDP晶體表面造成二次損傷,最終實(shí)現(xiàn)了KDP晶體的逐點(diǎn)可控去除。具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。本發(fā)明的用于KDP晶體的油包酸性離子液體拋光液,各組分的質(zhì)量百分比為:油相:25%~60%;分散相溶劑:10%~15%;酸性離子液體:5%~15%;表面活性劑:15%~45%;助表面活性劑:5%~15%。所述的油相為非極性有機(jī)溶劑,環(huán)己烷、正己烷、單油酸甘油酯、三油酸甘油酯或三辛酸甘油酯中的一種。所述的分散相溶劑為乙醇、異丙醇或1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸鹽([Hmim]PF6)中的一種。所述的酸性離子液體為雙三氟甲磺酰亞胺(TFSI)、己內(nèi)酰胺磷酸鹽([NHCH]H2PO4)、N,N′-二甲基甲酰胺磷酸鹽([DMFH]H2PO4)、1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氫鹽([Bmim]HSO4)、)或吡啶硫酸氫鹽([Py]HSO4)中的一種。所述的表面活性劑為壬基酚聚氧乙烯醚、烷基聚氧乙烯醚或脂肪醇聚氧乙烯醚中的一種。所述的助表面活性劑為正丁醇、正戊醇、正己醇或正辛醇的一種。所述的拋光液的制備環(huán)境溫度為20℃~25℃,相對(duì)濕度為30%~50%,氣壓為常壓。本發(fā)明的拋光液為油包酸性離子液體微乳液,以油相、酸性離子液體、表面活性劑和助表面活性劑的準(zhǔn)三元相圖為技術(shù)手段,通過(guò)相圖繪制,獲得油包酸性離子液體的單相微乳液區(qū)域。在單相微乳液區(qū)篩選不同配比的拋光液,利用化學(xué)機(jī)械拋機(jī)光實(shí)現(xiàn)拋光液對(duì)KDP晶體的拋光加工。實(shí)施例1本實(shí)施例按照以下步驟實(shí)施:(1)初始表面的獲得:以單點(diǎn)金剛石飛切的35mm×35mm的KDP晶體為待拋光晶體;(2)油包酸性離子液體微乳液的制備:油相為環(huán)己烷,分散相溶劑為異丙醇,酸性離子液體為雙三氟甲磺酰亞胺(TFSI),表面活性劑為聚乙二醇辛基苯基醚(TritonX-100),助表面活性劑為正辛醇;制備時(shí),將TFSI與異丙醇混合均勻,逐滴加入到正己烷、TritonX-100和正辛醇的混合溶液中,其中各組分的質(zhì)量百分比為45:10:5:32:8,該微乳液標(biāo)記為A拋光液;(3)化學(xué)機(jī)械拋光實(shí)驗(yàn):采用化學(xué)機(jī)械拋光機(jī),進(jìn)行KDP晶體的拋光實(shí)驗(yàn),其中A拋光液的滴加速度為10ml/min,拋光壓力為2.5KPa,主盤(pán)轉(zhuǎn)速60rpm,持物環(huán)轉(zhuǎn)速為60rpm,拋光時(shí)間10min。(4)拋光后清洗:依次采用異丙醇、正己烷作為清洗液,輔助兆聲波進(jìn)行拋光后的清洗,然后用潔凈干燥氣體吹干。在該拋光條件下,拋光并完成清洗后,樣品的表面粗糙度為1.96nm。實(shí)施例2本實(shí)施例按照以下步驟實(shí)施:(1)初始表面的獲得:以單點(diǎn)金剛石飛切的35mm×35mm的KDP晶體為待拋光晶體;(2)油包酸性離子液體微乳液的制備:油相為環(huán)己烷,分散相溶劑為[Hmim]PF6,酸性離子液體為己內(nèi)酰胺磷酸鹽([NHCH]H2PO4),表面活性劑為聚乙二醇辛基苯基醚(TritonX-100),助表面活性劑為正己醇;制備時(shí),將己內(nèi)酰胺磷酸鹽與乙醇混合均勻,逐滴加入到環(huán)己烷、聚乙二醇辛基苯基醚和正己醇的混合溶液中,其中各組份的質(zhì)量百分比為50:10:5:30:5,該微乳液標(biāo)記為B拋光液;(3)化學(xué)機(jī)械拋光實(shí)驗(yàn):采用化學(xué)機(jī)械拋光機(jī),進(jìn)行KDP晶體的拋光實(shí)驗(yàn),其中B拋光液的滴加速度為10ml/min,拋光壓力為2.5KPa,主盤(pán)轉(zhuǎn)速60rpm,持物環(huán)轉(zhuǎn)速為60rpm,拋光時(shí)間10min。(4)拋光后清洗:依次采用異丙醇、正己烷作為清洗液,輔助兆聲波進(jìn)行拋光后的清洗,然后用潔凈干燥氣體吹干。在該拋光條件下,拋光并完成清洗后,樣品的表面粗糙度為2.18nm。其余實(shí)施例與實(shí)施例1和實(shí)施例2的實(shí)施方式基本相同,主要區(qū)別在于微乳液的配方不同;在拋光過(guò)程中,拋光液滴加速度、拋光壓力、主盤(pán)轉(zhuǎn)速、持物環(huán)轉(zhuǎn)速保持不變。具體的實(shí)施例實(shí)驗(yàn)結(jié)果匯總在表1中。表1.IL/O拋光液組成及拋光實(shí)驗(yàn)結(jié)果實(shí)施例實(shí)施例油相分散相溶劑AIL表面活性劑助表面活性劑各組分質(zhì)量百分比拋光后粗糙度3環(huán)己烷異丙醇TFSITritonX-100正辛醇45:10:5:30:102.064環(huán)己烷異丙醇TFSITritonX-100正辛醇45:15:5:30:51.735環(huán)己烷異丙醇TFSITritonX-100正辛醇40:10:5:30:151.856正己烷乙醇[NHCH]H2PO4TritonX-114正己醇50:15:5:24:62.187正己烷乙醇[NHCH]H2PO4TritonX-114正己醇45:20:5:24:62.238正己烷乙醇[NHCH]H2PO4TritonX-114正己醇35:30:5:24:62.479單油酸甘油酯[Hmim]PF6[DMFH]H2PO4TritonX-114正丁醇30:15:15:32:82.0410單油酸甘油酯[Hmim]PF6[DMFH]H2PO4TritonX-114正丁醇30:20:10:32:81.8211單油酸甘油酯[Hmim]PF6[DMFH]H2PO4TritonX-114正丁醇30:25:5:32:81.9612三油酸甘油酯異丙醇[Bmim]HSO4TritonX-100正辛醇30:10:5:45:102.2913三油酸甘油酯異丙醇[Bmim]HSO4TritonX-100正辛醇30:10:5:40:152.5814三油酸甘油酯異丙醇[Bmim]HSO4TritonX-100正辛醇30:10:5:35:202.8715三辛酸甘油酯乙醇[Py]HSO4TritonX-100正戊醇60:5:5:24:63.1516三辛酸甘油酯乙醇[Py]HSO4TritonX-100正戊醇40:15:5:32:82.7217三辛酸甘油酯乙醇[Py]HSO4TritonX-100正戊醇35:20:5:32:82.31以上施例的描述較為具體、詳細(xì),但不能因此理解為對(duì)本專(zhuān)利范圍的限制,應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 
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