技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種抗反射涂料組成物及抗反射膜，其中抗反射涂料組成物包括0.7重量份至2重量份的二氧化硅微粒子；0.1重量份至1.1重量份的硅酸鹽化合物；0.05重量份至20重量份的水；79重量份至99重量份的有機(jī)溶劑；以及陰離子，其中在抗反射涂料組成物中，陰離子的濃度范圍為大于85.1ppm至小于132.4ppm。本發(fā)明的抗反射涂料組成物可制造出具有良好折射率、良好機(jī)械強(qiáng)度、與載板間良好的附著力且制造成本低的抗反射膜。

技術(shù)研發(fā)人員：高怡惠;黃昱豪
受保護(hù)的技術(shù)使用者：奇美實(shí)業(yè)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.27
技術(shù)公布日：2017.07.07