技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種用于阻擋層平坦化的化學(xué)機械拋光液，含有(a)研磨顆粒(b)腐蝕抑制劑(c)銅表面保護(hù)劑(d)絡(luò)合劑(e)聚乙烯吡咯烷酮(f)氧化劑(g)水。本發(fā)明的化學(xué)機械拋光液可以滿足阻擋層拋光過程中對各種材料的拋光速率和選擇比要求，對半導(dǎo)體器件表面的缺陷有很強的矯正能力，快速實現(xiàn)平坦化，且可防止金屬拋光過程中產(chǎn)生的局部和整體腐蝕，提高工作效率，降低生產(chǎn)成本。

技術(shù)研發(fā)人員：姚穎;荊建芬;蔡鑫元;邱騰飛;宋凱
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安集微電子科技（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.31
技術(shù)公布日：2017.07.07