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圓筒式成膜裝置的制作方法

文檔序號(hào):3759719閱讀:373來源:國知局
專利名稱:圓筒式成膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種成膜裝置,特別是一種圓筒式成膜裝置。
背景技術(shù)
以懸浮液為過渡材料制備薄膜的主要方法有旋涂法、提拉法、流涎法和溶劑蒸發(fā)沉積法膜。旋涂法是用勻膠機(jī)進(jìn)行涂覆,要求前期制備好合適的溶膠材料,根據(jù)制備薄膜需求設(shè)定勻膠機(jī)和時(shí)間進(jìn)行旋涂,可得到厚度較小的薄膜;旋涂法有本身的限制,做厚度大的均勻膜難度大,并且一般情況下只能在很小的面積襯底上成膜。提拉法可以鍍面積較大的薄膜,但薄膜的均勻性,在很大程度上由樣品的粘度、親水性決定,做厚度大的均勻膜難度也很大。流涎法將原料溶于溶劑中,成為粘稠溶液,流涎于平坦且均勻的旋轉(zhuǎn)光滑支撐體上,形成薄膜,薄膜均勻性高,表面干凈平整,性能好,普通要求的薄膜都用此法。以上方法制備薄膜都需要復(fù)雜的機(jī)器,·對(duì)操作經(jīng)驗(yàn)和制備工藝都有很高的要求,并且不易制備厚度大的薄膜。溶劑蒸發(fā)沉積法是先將原料容易溶劑中,倒入盛放的器皿中,溶劑蒸發(fā),即可成膜,該方面操作簡(jiǎn)單,制備流程少,成膜質(zhì)量與原料的粘度和親水性沒有很大關(guān)聯(lián),并且容易制備出厚度范圍較大的薄膜。溶劑蒸發(fā)沉積法的缺點(diǎn)是,薄膜表面的粗糙度對(duì)盛放器皿的表面平整度要求較高。目前較常用的盛放器皿是鐵氟龍培養(yǎng)皿、玻璃培養(yǎng)皿和聚乙烯類培養(yǎng)皿。鐵氟龍培養(yǎng)皿在成膜過程中容易與薄膜分離,導(dǎo)致薄膜出現(xiàn)褶皺。聚乙烯類培養(yǎng)皿質(zhì)量小,在溶劑蒸發(fā)過程中常偏離水平方向而導(dǎo)致薄膜厚度不均勻,此外,由于有機(jī)物對(duì)聚乙烯類有腐蝕性,因此聚乙烯類培養(yǎng)皿不可以用于沉積溶于有機(jī)溶劑中的材料。在玻璃培養(yǎng)皿上沉積薄膜,薄膜與培養(yǎng)皿之間的粘附力過大,機(jī)械分離薄膜破壞薄膜與培養(yǎng)皿,導(dǎo)致培養(yǎng)皿重復(fù)使用率不高,且常用的的玻璃培養(yǎng)皿底面凹凸不平,致使薄膜表面粗糙度較大,此外,玻璃培養(yǎng)皿的蓋是緊密的,無法控制溶劑蒸發(fā)速率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)上述所存在的問題提供一種圓筒式成膜裝置,該裝置的成膜面的粗糙度低于20nm/ (ImmX lmm),能控制溶劑蒸發(fā)的速率,使固化在培養(yǎng)皿上的薄膜容易分離,不損壞培養(yǎng)皿和薄膜。本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下:一種圓筒式成膜裝置,其特點(diǎn)在于包括一個(gè)敞口式的圓筒式腔體、一個(gè)圓形襯底、第一提拉勾、第二提拉勾和具有孔的圓盤形蓋,所述的圓筒式腔體的內(nèi)壁和內(nèi)底設(shè)有相對(duì)的第一凹槽和第二凹槽,所述的第一凹槽和第二凹槽分別用于安放第一提拉勾和第二提拉勾,所述的圓形襯底的表面粗糙度低于3nm/ (ImmX lmm),所述的圓形襯底外徑比圓筒式腔體的內(nèi)徑小0.05mm到lmm,所述的圓形襯底水平地置于所述的圓筒式腔體內(nèi)底和所述的第一提拉勾和第二提拉勾上,所述的圓盤形蓋蓋在所述的圓筒式腔體的口上。所述的圓筒式腔體為鋼、鐵、銅、鋁或鋁合金材料中的一種制成。
所述的圓形襯底為玻璃或石英制成。本發(fā)明的技術(shù)效果如下:采用本發(fā)明的圓筒式成膜裝置,使固化在培養(yǎng)皿上的薄膜容易分離,且保證不損壞培養(yǎng)皿和薄膜,使培養(yǎng)皿可以重復(fù)使用,制備所得薄膜的表面粗糙度低于20nm/(1mm X 1mm) 0


圖1是本發(fā)明圓筒式成膜裝置的剖視圖。圖2是本發(fā)明中圓筒式腔體的俯視圖。
具體實(shí)施例方式圖1是一種圓筒式成膜裝置的剖視圖,圖2是本發(fā)明中圓筒式腔體的俯視圖,由圖可見,本發(fā)明圓筒式成膜裝置包括一個(gè)敞口式的圓筒式腔體1、一個(gè)圓形襯底6、第一提拉勾2、第二提拉勾3和具有孔4的圓盤形蓋5,所述的圓筒式腔體I的內(nèi)壁和內(nèi)底設(shè)有相對(duì)的第一凹槽7和第二凹槽8,所述的第一凹槽7和第二凹槽8分別用于安放第一提拉勾2和第二提拉勾3,所述的圓形襯底6的表面粗糙度低于3nm/ (ImmX lmm),所述的圓形襯底6外徑比圓筒式腔體I的內(nèi)徑小0.5mm,所述的圓形襯底6水平地置于所述的圓筒式腔體I內(nèi)底和所述的第一提拉勾2和第二提拉勾3上,所述的圓盤形蓋5蓋在所述的圓筒式腔體I的口上。所述的圓筒式腔體可利用鋼、鐵、銅、鋁或鋁合金制成。所述的圓形襯底由玻璃或石英制 成。使用本發(fā)明圓筒式成膜裝置制備出來的聚乙烯醇薄膜,經(jīng)過光學(xué)輪廓儀檢測(cè)得至Li,所述聚乙烯醇薄薄膜的膜面粗糙度可達(dá)到19.23nm/ (ImmX lmm),使用本發(fā)明圓筒式成膜裝置制備出膜面粗糙度可達(dá)到17.67nm/ (lmmX lmm)的聚乙烯醇和石墨烯的復(fù)合薄膜.。以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些也應(yīng)該視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種圓筒式成膜裝置,其特征在于包括一個(gè)敞口式的圓筒式腔體(I)、一個(gè)圓形襯底(6)、第一提拉勾(2)、第二提拉勾(3)和具有孔(4)的圓盤形蓋(5),所述的圓筒式腔體(I)的內(nèi)壁和內(nèi)底設(shè)有相對(duì)的第一凹槽(7)和第二凹槽(8),所述的第一凹槽(7)和第二凹槽(8)分別用于安放第一提拉勾(2)和第二提拉勾(3),所述的圓形襯底(6)的表面粗糙度低于3nm/ (1mmX lmm),所述的圓形襯底(6)外徑比圓筒式腔體(I)的內(nèi)徑小0.05mm到Imm,所述的圓形襯底(6)水平地置于所述的圓筒式腔體(I)內(nèi)底和所述的第一提拉勾(2)和第二提拉勾(3 )上,所述的圓盤形蓋(5 )蓋在所述的圓筒式腔體(I)的口上。
2.如權(quán)利要求1所述的圓筒式成膜裝置,其特征在于所述的圓筒式腔體為鋼、鐵、銅、鋁或鋁合金材料中的一種制成。
3.如權(quán)利要求1所述的圓筒式成膜裝置,其特征在于所述的圓形襯底為玻璃或石英制成?!?br> 全文摘要
一種圓筒式成膜裝置,其特點(diǎn)在于包括一個(gè)敞口式的圓筒式腔體、一個(gè)圓形襯底、第一提拉勾、第二提拉勾和具有孔的圓盤形蓋,所述的圓筒式腔體的內(nèi)壁和內(nèi)底設(shè)有相對(duì)的第一凹槽和第二凹槽,所述的第一凹槽和第二凹槽分別用于安放第一提拉勾和第二提拉勾,所述的圓形襯底的表面粗糙度低于3nm/(1mm×1mm),所述的圓形襯底外徑比圓筒式腔體的內(nèi)徑小0.05mm到1mm,所述的圓形襯底水平地置于所述的圓筒式腔體內(nèi)底和所述的第一提拉勾和第二提拉勾上,所述的圓盤形蓋蓋在所述的圓筒式腔體的口上。本發(fā)明裝置的成膜面的粗糙度低于20nm/(1mm×1mm),能控制溶劑蒸發(fā)的速率,使固化在培養(yǎng)皿上的薄膜容易分離,不損壞培養(yǎng)皿和薄膜。
文檔編號(hào)B05C3/10GK103230858SQ20131016125
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月3日
發(fā)明者王俊, 王高中, 張賽鋒, 張曉燕, 董寧寧, 張龍 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
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