專利名稱：含鐵顆粒的有機鹵素化合物的分解劑及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及含鐵顆粒的有機鹵素化合物的分解劑，更詳細而言，涉及包含具有特有的表面組成的由鐵和氧化鐵組成的鐵顆粒的有機鹵素化合物的分解劑及其制造方法。
背景技術(shù)：
以往，為了凈化被三氯乙烯等有機鹵素化合物污染的土壤、地下水，提出有使用提高了比表面積的鐵粉作為分解劑，能夠比較廉價且短時間地進行無害化處理的方法(專利文獻I)。另外，為了改善有機鹵素化合物的分解性能，公開并采用一種使用含有銅的鐵粉作為分解劑的技術(shù)(專利文獻2)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:日本特開平11-235577號公報專利文獻2:日本特開2000-5740號公報

發(fā)明內(nèi)容
_7] 發(fā)明要解決的問題然而，在專利文獻I的增大鐵粉的比表面積的技術(shù)中，未能得到充分的有機鹵素化合物的分解性能。另外，在專利文獻2的使用含銅的鐵粉的技術(shù)中，盡管改善有機鹵素化合物的分解特性，但由于含有銅，有時在工序中存在銅溶出的情況，從含銅的鐵粉的生產(chǎn)成本方面來看，也在尋求 不含有銅就能夠高效地分解有機鹵素化合物的分解劑?；谶@樣的背景，本發(fā)明人曾嘗試分解劑的扁平化作為增大比表面積的方法，然而分解能力的改善效果不充分。本發(fā)明是鑒于這樣的現(xiàn)有技術(shù)中存在的課題而進行的，其目的在于，提供一種無需含有銅的由鐵顆粒構(gòu)成且具有充分分解有機鹵素化合物能力的分解劑及其制造方法。用于解決問題的方案本發(fā)明人為了解決上述課題，經(jīng)過深入研究，考慮除了分解劑的比表面積以外的影響鐵粉的分解能力的因素，發(fā)現(xiàn)鐵粉的表面氧化的進行是分解能力下降的重要原因這一新見解，從而完成了本發(fā)明。第一本發(fā)明是一種有機鹵素化合物的分解劑，其為包含由鐵和氧化鐵組成的鐵顆粒的有機齒素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒具有在下述蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻時在鐵顆粒的最表面層中金屬鐵的含量為15質(zhì)量％以上的值，蝕刻條件為腔室內(nèi)的真空度:2.0X10_2Pa、離子槍的加速電壓:10kV、發(fā)射電流:10mA、蝕刻時間:14秒。第二本發(fā)明是一種有機鹵素化合物的分解劑的制造方法，其為上述有機鹵素化合物的分解劑的制造方法，其包括:在裝有液體介質(zhì)的球磨機的倉(pot)中對鐵粉進行濕式處理的工序；將濕式處理后的鐵粉用水性溶劑洗滌的工序；將洗滌后的鐵粉在30°C以下的溫度下干燥得到鐵顆粒的工序。發(fā)明的效果本發(fā)明的有機鹵素化合物的分解劑不含有銅等，具有改善有機鹵素化合物的分解特性這樣的效果。


圖1為表示有機鹵素化合物的分解劑的作為XRD分析結(jié)果而得到的光譜的一個例子的圖。
具體實施例方式本發(fā)明的有機鹵素化合物的分解劑包含由鐵和氧化鐵組成的鐵顆粒，該鐵顆粒具有在下述蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻時在鐵顆粒的最表面層中金屬鐵的含量為15 20質(zhì)量％的值，蝕刻條件為腔室內(nèi)的真空度:2.0X10_2Pa、離子槍的加速電壓:10kV、發(fā)射電流:10mA、蝕刻時間:14秒。

S卩，本發(fā)明的鐵顆粒:⑴作為構(gòu)成成分，由金屬鐵和氧化鐵組成；⑵在前述蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為15質(zhì)量％以上。((I)鐵顆粒的構(gòu)成成分)鐵顆粒實質(zhì)上由鐵(即金屬鐵)和氧化鐵組成。作為氧化鐵，包括氧化亞鐵(FeO)、三氧化二鐵(Fe2O3)和四氧化三鐵(Fe3O4)15鐵顆粒由較多量的金屬鐵、和較少量的氧化鐵組成。(鐵顆粒的BET比表面積)鐵顆粒優(yōu)選具有1.0m2/g以上的BET比表面積。更優(yōu)選為1.5m2/g以上。BET比表面積值的測定通過以下方法進行。在為了去除測定對象樣品(鐵顆粒)表面所吸附的氣體的影響而進行真空脫氣之后，在作為載氣的氮氣和氦氣的混合氣體的流通下，測定鐵顆粒的液態(tài)氮溫度(_196°C )條件下的氮氣吸附等溫線。將BET多層吸附式適用到所得到的吸附等溫線求出BET比表面積。BET多層吸附式如下表示。(x/v) (1-x) = (l/vmC) + {(C-l)/vmC}x式中，x:相對壓力=P/PQ、P:平衡壓力、P。:飽和蒸氣壓、V:平衡吸附量[ml -STP/g]、vm:單分子吸附量[ml STP/g]、C:常數(shù)=Exp { (E1-El) /RT}，E1:第I層中的吸附熱、
液化熱、R:氣體常數(shù)、T:絕對溫度。由于通過實測并對X/v(l-X)和X作圖可得vm，因此由下述式求得表面積。S=o m(vm/22400) (6.02 X IO23) (1(T2CI) [m2/g]其中0111為I個吸附分子所占的面積，使用16.2./\2。(出處):《微顆粒7、>F 7' 々》/神保元二等人/朝倉書店(第152頁)
在實際測定中，作為在這次測定中使用的裝置(Yuasa 1nics C0.，Ltd.制造，M0N0S0RB)內(nèi)進行到上述的計算為止的結(jié)果，可以計算出表面積數(shù)據(jù)。另外，關(guān)于因測定環(huán)境而產(chǎn)生的誤差，使用已知比表面積的氧化鋁標(biāo)準(zhǔn)粉末試樣的測定結(jié)果進行修正。((2)離子束蝕刻后在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量)通過下面的方法進行鐵顆粒表面的金屬鐵含量評價和離子束蝕刻評價。作為裝置，使用Kratos Analytical Ltd.制造的XPS (X射線光電子能譜，X-RayPhotoelectron Spectroscopy)裝置ESCA-3400。將使用碳帶固定到分析用的試樣臺上的分析用樣品，安裝于裝置的真空腔室內(nèi)，進行分析和在特定的蝕刻條件下進行離子束蝕刻。XPS是將由X射線源產(chǎn)生的X射線照射到試樣表面、測定從試樣表面產(chǎn)生的電子的能量分布的評價方法/裝置。對于這次使用的裝置，其構(gòu)造是，從與固定樣品的試樣臺平面呈20°的角度照射X射線，利用位于與試樣臺平面垂直方向的檢測器檢測光電子。產(chǎn)生的電子由于被X射線等光激發(fā)，因而被稱為光電子，因試樣表面的元素及其氧化狀態(tài)而具有固有的結(jié)合能，因此從它們的能量分布可知組成、氧化狀態(tài)。光電子的運動能小，深部產(chǎn)生的光電子在到達表面之前喪失能量，因此僅能得到從表面至與數(shù)nm左右的深度相比更淺的區(qū)域的信息。因此，可認(rèn)為是適合與有機鹵素化合物分解反應(yīng)相關(guān)的試樣最表面的分析的分析裝置。基于元素、化合物形態(tài)的固有的能量值，在例如參考文獻“Handbook of X-rayPhotoelectron Spectroscopy, N.1keo, Y.1ijima, N.Nimura, M.Sigematsu, T.Tazawa, S.Matsumoto, K.Kojima, and Y.Nagasawa, JEOL(1991) ” 等中有所記載，也可對從 XPS 裝置得到的能量分布數(shù)據(jù)，使用對其進行解析的解析軟件來進行解析。本發(fā)明中使用KratosESCA-3400的數(shù)據(jù)處理軟件“Vision2”從結(jié)合能_707eV的位置所表示的金屬鐵的2P3/2軌道的電子的峰強度、和作為其氧化物的結(jié)合能_711eV的位置所表示的峰強度，通過峰面積的積分值比進行了解析。其中，如本發(fā)明的實驗所示，作為原料鐵粉使用DOWA IP CREATIONC0.，Ltd.制造的DKP-100時，由于該原料為雜質(zhì)含量低的鐵粉，因此不考慮微量含有的成分，基于僅由鐵和氧構(gòu)成這樣 的假設(shè)來進行了解析。即，將鐵的含量設(shè)為C1、將氧化鐵含量設(shè)為 C2 時，C1 + C2 = I。就鐵顆粒而言，在特定的蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻后的表面層含有15質(zhì)量％以上的金屬鐵。剩余量(小于85質(zhì)量％)本質(zhì)上為氧化鐵。優(yōu)選含有15 20質(zhì)量％的金屬鐵。特定的蝕刻條件如下:腔室內(nèi)的真空度:2.0X 10_2Pa、離子槍的加速電壓:10kV、發(fā)射電流:10mA、蝕刻時間:14秒。該蝕刻條件為例如對二氧化硅在該條件下進行離子束蝕刻時能夠進行每次約64nm蝕刻的條件。離子束蝕刻如下進行。邊保持XPS裝置的真空腔室內(nèi)的真空度恒定，邊一點點地導(dǎo)入氬氣，同時使其連續(xù)電離，采用加速器加速使其撞擊試樣表面。通過真空度(氬氣濃度)和離子槍的加速電壓、發(fā)射電流來控制撞擊試樣表面的氬離子的量，可通過蝕刻特定的時間來控制試樣表面中被蝕刻的物質(zhì)量。本發(fā)明的鐵顆粒還可以為:進一步在前述蝕刻條件下進行四次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為20質(zhì)量％以上。進一步優(yōu)選為20 40質(zhì)量％，特別優(yōu)選為35 40質(zhì)量％。本發(fā)明的鐵顆粒還可以為:進一步在前述蝕刻條件下進行一次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為10質(zhì)量％以上。進一步優(yōu)選為10 15質(zhì)量％。本發(fā)明的鐵顆粒還可以為:進一步在前述蝕刻條件下進行三次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為25質(zhì)量％以上。進一步優(yōu)選為25 30質(zhì)量％。就本發(fā)明的鐵顆粒而言，優(yōu)選將粉末X射線衍射(以下稱為XRD)譜圖中的(110)面的峰強度設(shè)為I1和將(200)面的峰強度設(shè)為I2時的峰強度比(I2A1)為0.2以上的值。峰強度比(I2A1)更優(yōu)選為0.3以上，特別優(yōu)選為0.5以上。此處，關(guān)于兩個晶面峰強度比(I2A1)和有機鹵素化合物的分解效果之間的關(guān)系尚未能詳細地解釋，但可如下述這樣推測。即，可推定 與(110)面相比，具有有機鹵素化合物的分解效果的位點在(200)面內(nèi)更多，通過本發(fā)明所述的有機鹵素化合物分解劑的制法和條件，(200)面多存在于顆 粒表面?？烧J(rèn)為通過將峰強度比設(shè)為0.2以上而使得顆粒表面上存在合適的晶面(200)，并且與前面所述的氧化狀態(tài)組合，則無需添加銅等添加物就可得到有機鹵素化合物分解效果優(yōu)異的材料。峰強度比(I2A1)通過以下的方法測定。將本發(fā)明的有機鹵素化合物的分解劑的作為粉末XRD分析結(jié)果而得到的光譜的一個例子示于圖1中。圖1中，在2 0 =44.9°和65.2°處可確認(rèn)到特征性的大的峰?？赏ㄟ^將這些峰的2 0角度數(shù)據(jù)和XRD測定條件代入布拉格法則求出晶面間距，可知這些峰分別為(110)面、(200)面所特有的峰?？筛鶕?jù)(110)面、(200)面各自的峰強度求出峰強度比(I2A1)q本發(fā)明的鐵顆粒的堆密度優(yōu)選為2.0g/cm3以下。堆密度更優(yōu)選為1.0g/cm3以下。堆密度通過以下所示的方法測定。在置于堆密度測定裝置(作為一例可列舉出筒井理化學(xué)器械制造“MVD-86型”等)內(nèi)的料筒中，從固定在一定高度的漏斗狀容器中使初級顆粒通過篩，直至初級顆粒之間充分分散的狀態(tài)為止，并使測定對象粉末下落。將填充后的粉末沿著料筒上端面刮平，測定料筒內(nèi)填充的粉末質(zhì)量。用粉末質(zhì)量除以料筒內(nèi)容積求出堆密度。對本發(fā)明的鐵顆粒的形狀沒有特別的限定，可具有球狀、柱狀、橄欖球狀、扁平狀等形狀。從簡單地增加粉末的比表面積、能夠通過可以增加顆粒的單位體積的具有有機鹵素化合物分解機能的活性點的數(shù)的工藝(例如本發(fā)明的實施例中所述的濕式球磨機處理法等)而容易得到的觀點出發(fā)，鐵顆粒的形狀優(yōu)選為扁平狀。另外，關(guān)于前述其它的顆粒形狀，也能夠采用濕式合成法、霧化法、CVD法、PDV法、粉碎法等各種制造方法進行適宜的條件控制，由此制備。在鐵顆粒為扁平狀的情況下，板狀比優(yōu)選為2以上，進一步為3以上，特別為5以上。扁平狀顆粒的平均粒徑優(yōu)選為IOOiim以上，進一步優(yōu)選為120iim以上。扁平狀顆粒的平均粒徑和板狀比通過以下的式子求出。扁平狀顆粒的平均粒徑=(2 X平均平面直徑+平均厚度)/3扁平狀顆粒的板狀比=平均平面直徑/平均厚度需要說明的是，平均平面直徑是對50個顆粒測定扁平面方向的長徑和與之垂直的短徑并求出平面直徑=(長徑+短徑)/2再將其取平均而求出的。平均厚度是測定50個顆粒的厚度并將其取平均而求出的。本發(fā)明的分解劑為有機鹵素化合物的分解劑。作為有機鹵素化合物中的鹵素，是氯、氟、溴和碘，特別優(yōu)選氯和氟。作為有機鹵素化合物，可例示出二氯甲烷、四氯化碳、1，2_ 二氯乙烷、1，1-二氯乙烯、1，I, 1-三氯乙烷、1，1，2-三氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、1，3-二氯丙烯、三鹵甲烷、PCB、二噁英。本發(fā)明的分解劑對于被有機鹵素化合物污染的土壤、地下水、廢水、廢氣適用，能夠?qū)⑺鼈儍艋?。被污染的土壤、地下水等的凈化可通過在污染土壤中添加混合分解劑的方法、使污染地下水通過分解劑的層的方法等以往公知的方法而進行。本發(fā)明也涉及上述有機鹵素化合物的分解劑的制造方法。本發(fā)明的分解劑的制造方法包括:(I)在裝有液體介質(zhì)的球磨機的倉中對作為原料的鐵粉進行濕式處理的工序；
(2)將濕式處理后的鐵粉用水性溶劑洗滌的工序；和(3)將洗滌后的鐵粉在30°C以下的溫度下干燥得到鐵顆粒的工序。本發(fā)明的工序(I)為球磨機處理工序，其在裝有液體介質(zhì)和用于撞擊鐵粉的介質(zhì)(media)的倉中填充鐵粉，對倉施加旋轉(zhuǎn)、振動等驅(qū)動，由此對倉內(nèi)部的鐵粉進行混式處理。作為工序(I)中的液體介質(zhì)，可以使用水、醇和其它有機溶劑等。優(yōu)選的液體溶劑為水、甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)。液體介質(zhì)以倉中的鐵粉不與大氣接觸的量使用。工序⑴中的倉可以使用市售的倉，可列舉出例如鋼制、SUS制和磁性的倉。作為驅(qū)動方法，可列舉出NIDEC-SHMPO Corporation制造的Pot Mill PTA-01型等。工序⑴中的用于撞擊鐵粉的介質(zhì)(media)，可列舉出氧化鋯、氧化鋁、鐵、鋼、不銹鋼、瑪瑙、磁體制等滾珠。
`
作為工序⑴中的原料的鐵粉，可以使用市售的鐵粉。作為市售的鐵粉，可列舉出還原鐵粉(例如DOWA IP CREATION C0.，Ltd.制造的DKP-100)、電解鐵粉、霧化鐵粉、羰基鐵粉、鐵系材料的切削片等。工序⑴中的濕式處理是指將原料鐵粉在液體介質(zhì)的存在下(以防止過度的氧化為目的，不必使大氣連續(xù)地流通 接觸)利用倉中的滾珠的作用進行機械混合、變形的處理。通過濕式處理可改變原料鐵粉的形狀等。工序(I)的處理條件可以適宜地設(shè)定，例如為25°C的溫度下、20小時、120rpm的轉(zhuǎn)速(此次使用的倉的外徑為500mm,故以圓周速度表示時為60m/min的轉(zhuǎn)速)。本發(fā)明的工序(2)為將根據(jù)需要從液體介質(zhì)分離了的濕式處理后的鐵粉用水性溶劑洗滌的工序。工序(2)中的水性溶劑可以為水、水溶性的有機溶劑或者它們的混合物。作為水溶性的有機溶劑，可列舉出醇、苯、甲苯、乙苯、二甲苯、醚類。工序(2)是為了將液體介質(zhì)從鐵粉中充分地去除而進行的，對其方法沒有特別的限定，可采用壓濾機、布氏漏斗等具有過濾、壓榨機能的洗滌裝置來進行。工序(2)中水性溶劑的使用量為適量，相對于鐵粉一次或分為多次使用5 200質(zhì)量％。工序(2)的溫度根據(jù)使用的水性溶劑而改變，從制造成本方面看，優(yōu)選常溫附近的溫度。本發(fā)明的工序(3)為將洗滌后的鐵粉在30°C以下的溫度下干燥得到鐵顆粒的工序。通過該工序，可將鐵粉的表面組成等改性。干燥溫度超過30°C時，分解劑的活性下降。工序(3)的溫度優(yōu)選為20°C以下，更優(yōu)選為15°C以下。通過本發(fā)明的制造方法得到的鐵顆粒可以直接、或者與其它材料(例如以往的鐵粉等)混合作為分解劑。(有機鹵素化合物的分解試驗)有機鹵素化合物的分解性能通過以下的方法測定。向IOOmL小瓶(實際容量:124mL)中投入離子交換水50mL，向其中投入作為評價對象的分解劑試樣0.5g。使用巴斯德吸管從小瓶底部進行氮氣曝氣，使用涂覆有Teflon(注冊商標(biāo))的丁基橡膠隔膜和鋁蓋進行密封。使用微量注射器從隔膜部分注入作為有機鹵素化合物的三氯乙烯(TCE)、作為內(nèi)標(biāo)物的苯，然后攪拌振動，每隔一定時間抽樣小瓶的頂空部的氣體100 u L，將該氣體采用GC-MS (氣相色譜質(zhì)譜裝置)裝置進行定性、定量分析。因鐵粉產(chǎn)生的氣體等小瓶內(nèi)的壓力變化，然而作為內(nèi)標(biāo)物的苯不因鐵粉產(chǎn)生濃度變化，因此通過同時測定其濃度，可進行濃度修正。根據(jù)頂空部氣體中的有機鹵素化合物濃度相對于試驗時間(攪拌振動的處理時間)的衰減傾向來評價作為處理對象的有機鹵素化合物的分解速度。實施例以下，列舉實施例說明本發(fā)明，但本發(fā)明不限定于實施例。(實施例1)向容量2.3L的SUS制的倉中加入直徑IOmm的氧化鋯滾珠6580g。滾珠的加入量為倉的80體積％。向該球磨機中加入作為原料鐵粉的還原鐵粉(DKP-100、D0WA IP CREATIONC0., Ltd.制造)100g和純水 1L。使用 NIDEC-SHMPO Corporation 制造的 Pot Mill PTA-01型將加入了材料的倉在溫度:25°C、攪拌轉(zhuǎn)速120rpm(圓周速度60m/min)的條件下旋轉(zhuǎn)運轉(zhuǎn)20小時，進行濕式處理。將濕式處理后的鐵粉從水和氧化鋯滾珠中分離，使用乙醇IOOmL在溫度25°C下將其洗滌一次。將洗滌后的濕式處理鐵粉在10°C的溫度下干燥24小時得到本發(fā)明的鐵顆粒。(實施例2)除了使用水代替乙醇進行洗滌以外，與實施例1同樣地操作，得到鐵顆粒。(比較例I)不進行實施例1的濕式處理、洗滌、干燥全部的工序。即，將作為原料的還原鐵粉作為鐵顆粒。(比較例2)除了將干燥溫度設(shè)為105°C代替10°C以外，與實施例1同樣地操作，得到鐵顆粒。(比較例3)除了將干燥溫度設(shè)為105°C代替10°C以外，與實施例2同樣地操作，得到鐵顆粒。(比較例4)向?qū)嵤├?中使用 的填充有滾珠的球磨機中加入作為原料鐵粉的還原鐵粉(DKP-100) IOOg0 使用 NIDEC-SHMP0 Corporation 制造的 Pot Mill PTA-01 型將加入了材料的倉在溫度:25°C、攪拌轉(zhuǎn)速120rpm(圓周速度60m/min)的條件下旋轉(zhuǎn)運轉(zhuǎn)20小時,進行干式處理，得到鐵顆粒。(試驗例I)
關(guān)于由實施例1 2和比較例I 4的鐵顆粒構(gòu)成的分解劑，采用前述的方法測定有機鹵素化合物的分解性能。此處，將由于鐵粉而發(fā)生的有機鹵素化合物的分解反應(yīng)假設(shè)為一級反應(yīng)，可用以下的式I表示。C=C0Xe偵C0:有機鹵素化合物的初期濃度C:反應(yīng)時間t的有機鹵素化合物濃度廠:反應(yīng)時間[天]k:表觀的反應(yīng)速率常數(shù)[天―1]關(guān)于作為有機鹵素化合物的三氯乙烯(TC)，將使用分解劑的分解試驗的結(jié)果(上述式的反應(yīng)速率常數(shù)k)示于表I中。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種有機鹵素化合物的分解劑，其為包含由鐵和氧化鐵組成的鐵顆粒的有機鹵素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒具有在下述蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為15質(zhì)量％以上的值，蝕刻條件為 腔室內(nèi)的真空度:2.0X10_2Pa、 離子槍的加速電壓:10kV、 發(fā)射電流:10mA、 蝕刻時間:14秒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒具有將XRD譜圖中的(110)面的峰強度設(shè)為I1和將(200)面的峰強度設(shè)為I2時的峰強度比(I2A1)為0.2以上的值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，進一步在權(quán)利要求1所述的蝕刻條件下進行四次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為20質(zhì)量％以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，在所述蝕刻條件下進行四次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為35質(zhì)量％以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4任一項所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，進一步在權(quán)利要求I所述的蝕刻條件下進行一次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為10質(zhì)量％以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一項所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，進一步在權(quán)利要求I所述的蝕刻條件下進行三次離子蝕刻時在鐵顆粒的表面層中金屬鐵的含量為25質(zhì)量％以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6任一項所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒的堆密度為2.0g/cm3以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7任一項所述的有機鹵素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒是板狀比為2以上的扁平狀。
9.一種有機鹵素化合物的分解劑的制造方法，其為權(quán)利要求1 8任一項所述的有機鹵素化合物的分解劑的制造方法，其包括:在裝有液體介質(zhì)的球磨機的倉中對鐵粉進行濕式處理的工序；將濕式處理后的鐵粉用水性溶劑洗滌的工序；將洗滌后的鐵粉在30°C以下的溫度下干燥得到鐵顆粒的工序。
全文摘要
提供無需含有銅的由鐵顆粒構(gòu)成且具有充分分解有機鹵素化合物能力的分解劑及其制造方法。一種有機鹵素化合物的分解劑，其為包含由鐵和氧化鐵組成的鐵顆粒的有機鹵素化合物的分解劑，其中，鐵顆粒具有在下述蝕刻條件下進行兩次離子束蝕刻時在鐵顆粒的最表面層中金屬鐵的含量為15質(zhì)量%以上的值，蝕刻條件為腔室內(nèi)的真空度2.0×10-2Pa、離子槍的加速電壓10kV、發(fā)射電流10mA、蝕刻時間14秒。
文檔編號C09K3/00GK103119119SQ20118004578
公開日2013年5月22日 申請日期2011年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月24日
發(fā)明者上原大志 申請人:同和環(huán)保再生事業(yè)有限公司