專利名稱：涂敷裝置和涂敷方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶面板等平面板的制造，特別涉及向基板上實施密封材料等的涂 敷、液晶滴下涂敷的涂敷裝置和涂敷方法。
背景技術(shù)：
制造液晶面板等的已往技術(shù)，作為其一個例子提出了制造液晶面板的裝置(例如 見專利文獻(xiàn)1)，該裝置備有在真空狀態(tài)下實施處理的多個真空處理室、和在大氣壓狀態(tài)下 實施處理的多個大氣處理室，在這些真空處理室之間、大氣壓處理室之間、真空處理室與大 氣壓處理室之間，分別設(shè)有用于運(yùn)送玻璃基板的與外部隔絕的機(jī)械手室，在這些處理室間 運(yùn)送玻璃基板時，機(jī)械手室的機(jī)械手把玻璃基板從一個處理室自動地運(yùn)送到另一個處理 室。根據(jù)該已往的技術(shù)，直到玻璃基板成為液晶面板的處理都不介入人手，全部自動 地處理，所以，幾乎沒有顆粒污染、分子污染。另外，作為另一個例子提出了如下技術(shù)在真空腔室內(nèi)設(shè)有定位裝置，把基板設(shè)置 于該定位裝置，將密封材料涂敷在基板上，把這樣涂敷了密封材料的基板與另一基板這兩 個基板貼合，使密封材料硬化，最后注入液晶，在用該順序制造面板時，在基板上形成密封 材料的涂敷作業(yè)是在低于大氣壓的壓力下進(jìn)行的，另外，將兩個基板貼合的作業(yè)是在大氣 壓以下的壓力下進(jìn)行的(例如見專利文獻(xiàn)2)。根據(jù)該已往的技術(shù)，在低于大氣壓的壓力下進(jìn)行密封材料的涂敷、兩塊基板的貼 合，所以，可以減少混入密封材料內(nèi)的氣泡，從而可減少由該氣泡導(dǎo)致的切割不良、間隙不 良、或液晶注入不良等問題，減少在基板周圍揚(yáng)起的灰塵等異物，也減少因異物引起的面板 不良。[專利文獻(xiàn)1]日本特開平6-324297號公報[專利文獻(xiàn)2]日本特開平2001-13507號公報

發(fā)明內(nèi)容
在LCD(液晶面板)等的平面板領(lǐng)域中，玻璃基板的尺寸的大型化急速地逐年推 進(jìn)，隨之，其制造裝置也大型化。另外，為了降低制造成本，要求減少在制造裝置內(nèi)部、周邊 揚(yáng)起的灰塵，提高成品率，同時，要求抑制每一塊面板的制造時間。在上述專利文獻(xiàn)1記載的已往技術(shù)中，從玻璃基板制造面板時，在將玻璃基板從 大氣壓處理室運(yùn)送到真空處理室時，從大氣壓狀態(tài)到真空狀態(tài)的真空形成時間是損失的時 間，因此，存在總的制造時間增加的問題。在上述專利文獻(xiàn)2記載的已往技術(shù)中，在真空腔室內(nèi)進(jìn)行涂敷作業(yè)、基板的貼合 作業(yè)時，往真空腔室內(nèi)的組入、取出是由人手、機(jī)械手等進(jìn)行的，由于被人手、機(jī)械手等保持 著的基板上下動作等，周圍的空氣產(chǎn)生大的流動，灰塵隨著該空氣揚(yáng)起。另外，不采用同一 真空腔室而將具有不同功能的多臺裝置并排來制造面板時，在移交作為對象工件的玻璃基板時，也同樣地，如果使用機(jī)械手等，則由于被機(jī)械手等保持著的玻璃基板的動作而引起周 圍空氣的大流動，隨著周圍的空氣流動，灰塵揚(yáng)起。如果產(chǎn)生這樣的灰塵揚(yáng)起，則灰塵附著 在面板上，提高了成為次品的概率。另外，在上述專利文獻(xiàn)2記載的技術(shù)中，作為第1例，在真空環(huán)境下進(jìn)行涂敷作業(yè) 時，在真空中涂敷了密封材料后暫時向大氣開放，散布間隔件，對進(jìn)行了點附接的紫外線硬 化樹脂照射紫外線而臨時定位，并將兩塊基板貼合。然后，從定位裝置中取出臨時固定著的 基板，放入另外準(zhǔn)備的尼龍袋內(nèi)，將袋內(nèi)減壓，即，再度成為真空，這樣，對兩塊基板加壓。然 后加熱，使涂敷的密封材料硬化，將兩塊基板粘接。最后，從袋中取出，即再次開放為大氣壓 狀態(tài)，在大氣壓中，封入液晶材料，制造液晶面板。因此，從密封材料的涂敷到液晶面板完 成，采用經(jīng)過兩次真空狀態(tài)、開放為兩次大氣壓狀態(tài)的制造順序。另外，作為第2例，在真空環(huán)境中進(jìn)行貼合作業(yè)時，在大氣壓中涂敷了密封材料 后，散布間隔件，對進(jìn)行了點附接的紫外線硬化樹脂照射紫外線而臨時固定，并在真空中將 兩塊基板貼合。然后，朝大氣壓狀態(tài)開放，從定位裝置中取出基板，用真空包裝法、即再次成 為真空狀態(tài)，由此對兩塊基板加壓。接著，在該真空包裝狀態(tài)下加熱，使先前涂敷的密封材 料硬化，將兩塊基板粘接。最后，從袋中取出，即再次開放為大氣壓狀態(tài)，在大氣壓中封入液 晶材料，制造成液晶面板。該例中也與上述同樣地，從密封材料的涂敷到液晶面板的完成， 采用經(jīng)過兩次真空狀態(tài)、開放為兩次大氣壓狀態(tài)的制造順序。結(jié)果，無論第1例還是第2例，為了抑制氣泡混入密封材料中，從密封材料涂敷到 貼合的工序的涂敷作業(yè)、或貼合作業(yè)的任一方，都是在真空中進(jìn)行的。但是，實際上，液晶注 入前，在用熱硬化樹脂一邊加壓一邊壓接時再次成為真空狀態(tài)，需要用于形成真空環(huán)境的 時間。這里，也有在用熱硬化樹脂使密封材料硬化、將兩塊基板壓接時不在真空狀態(tài)下 加壓的制造方法。但是，通常的液晶注入方式，多采用這樣的制造方法在下一階段的液晶 注入階段，為了將液晶面板內(nèi)部形成真空，在腔室內(nèi)使液晶面板暫時處于真空狀態(tài)，把液晶 注入口浸入液晶后，向大氣開放，在大氣壓中把液晶壓入充填到液晶面板內(nèi)部。本發(fā)明的目的是解決上述問題，提供減少揚(yáng)起的灰塵并可縮短制造時間的涂敷裝 置和涂敷方法。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的涂敷裝置，在一臺或多臺架臺上設(shè)置門形架，在該門 形架上能移動地設(shè)有一個或多個涂敷頭，該涂敷頭備有充填了涂敷材料的材料收容筒和噴 出來自涂敷材料收容筒的涂敷材料的噴嘴噴出口 ；門形架相對于設(shè)置在架臺上的基板載置 臺所搭載的基板移動，涂敷頭相對于門形架移動，從而涂敷頭相對于基板移動，從噴嘴噴出 口向基板上噴出涂敷材料；其中，從外部向基板載置臺運(yùn)入基板是在從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入 的高度保持為與基板載置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的，并且，從基板載置 臺向外部運(yùn)出基板是在從基板載置臺運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的高度保持為與基板載置臺上 的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的；該涂敷裝置備有第1移動機(jī)構(gòu)和第2移動機(jī)構(gòu)； 上述第1移動機(jī)構(gòu)，使基板載置臺在載置著基板的狀態(tài)下、從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的基板載 置的位置移動到將基板運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的位置；上述第2移動機(jī)構(gòu)使載置在基板載置 臺上的基板轉(zhuǎn)動。另外，本發(fā)明的涂敷裝置，在架臺上設(shè)有多臺門形架；設(shè)在上述多臺門形架之中的任意門形架上的涂敷頭，向基板上噴出不同于設(shè)在其它的門形架上的涂敷頭的種類的涂敷 材料。另外，本發(fā)明的涂敷裝置，設(shè)在同一個門形架上的、多個涂敷頭之中的任意涂敷頭 與其它的涂敷頭，向基板上噴出不同種類的涂敷材料。另外，本發(fā)明的涂敷裝置，基板載置臺備有基板移動機(jī)構(gòu)和基板位置固定機(jī)構(gòu)；上 述基板移動機(jī)構(gòu)利用使基板在基板載置臺上朝一個方向移動的滾子；上述基板位置固定機(jī) 構(gòu)在基板載置臺上吸附基板，將基板位置固定在基板載置臺上。另外，本發(fā)明的涂敷裝置，基板載置臺備有基板移動機(jī)構(gòu)和基板位置固定機(jī)構(gòu)；上 述基板移動機(jī)構(gòu)在基板載置臺上向基板噴射空氣，使基板朝一個方向移動；上述基板位置 固定機(jī)構(gòu)在基板載置臺上吸附基板，將基板位置固定在基板載置臺上。另外，本發(fā)明的涂敷裝置，用耐壓罩覆蓋架臺上的基板載置臺的移動范圍，用空氣 吸引機(jī)構(gòu)把被耐壓罩覆蓋著的內(nèi)部設(shè)定為低于大氣壓的氣壓，在低氣壓的環(huán)境內(nèi)，用門形 架的涂敷頭對載置在基板載置臺上的基板進(jìn)行涂敷動作。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的涂敷方法，在一臺或多臺架臺上設(shè)置門形架，在該門 形架上能移動地設(shè)有一個或多個涂敷頭，該涂敷頭備有充填了涂敷材料的涂敷材料收容筒 和噴出來自涂敷材料收容筒的涂敷材料的噴嘴噴出口 ；門形架相對于設(shè)置在架臺上的基板 載置臺所搭載的基板移動，涂敷頭相對于門形架移動，從而涂敷頭相對于基板移動，從噴嘴 噴出口向基板上噴出涂敷材料；其中，從外部向基板載置臺運(yùn)入基板是在從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶 運(yùn)入的高度保持為與基板載置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的，并且，從基板 載置臺向外部運(yùn)出該基板是在從基板載置臺運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的高度保持為與基板載 置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的；基板載置臺在載置著基板的狀態(tài)下、從運(yùn) 入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的基板載置的位置移動到將基板運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的位置；使載置在基 板載置臺上的基板轉(zhuǎn)動，修正θ軸偏差。另外，本發(fā)明的涂敷方法，在架臺上設(shè)有多臺門形架；設(shè)在多臺門形架之中的任 意門形架上的涂敷頭，向基板上噴出不同于設(shè)在其它的門形架上的涂敷頭的種類的涂敷材 料。另外，本發(fā)明的涂敷方法，設(shè)在同一個門形架上的多個涂敷頭之中的任意涂敷頭 與其它的涂敷頭，向基板上噴出不同種類的涂敷材料。另外，本發(fā)明的涂敷方法，通過利用滾子的基板移動機(jī)構(gòu)，使基板在基板載置臺上 朝一個方向移動，進(jìn)行基板在基板載置臺上的定位；吸附定位后的基板，將基板位置固定在 基板載置臺上。另外，本發(fā)明的涂敷方法，在基板載置臺上，向基板噴射空氣，使基板朝一個方向 移動，進(jìn)行基板在基板載置臺上的定位；吸附定位后的基板，將基板位置固定在基板載置臺 上。另外，本發(fā)明的涂敷方法，用耐壓罩覆蓋架臺上的基板載置臺的移動范圍，把被耐 壓罩覆蓋著的內(nèi)部設(shè)定為低于大氣壓的氣壓，在低氣壓的環(huán)境內(nèi)，用門形架的涂敷頭對載 置在基板載置臺上的基板進(jìn)行涂敷動作。根據(jù)本發(fā)明，可用共同的工件臺(基板載置臺)進(jìn)行三種材料的涂敷作業(yè)，例如密 封材料涂敷、導(dǎo)通用打點涂敷和液晶滴下涂敷的各種涂敷作業(yè)，另外，該涂敷作業(yè)前后的基板的移交由運(yùn)入、運(yùn)出運(yùn)送帶進(jìn)行，這樣，可在灰塵揚(yáng)起為最小的狀態(tài)下把三個功能集約在 一個裝置內(nèi)。這樣，與把具有多個功能的多臺裝置并排、用共同的一臺機(jī)械手、]設(shè)置在裝置間 的多臺機(jī)械手進(jìn)行作為對象工件的基板移交的已往的機(jī)械手運(yùn)送方式相比，可以縮短基板 的動線(移動線)，第1，可減少基板運(yùn)送時的顆粒污染，提高液晶面板的成品率，第2，可縮 小設(shè)置面積，有效利用潔凈室。


圖1是表示本發(fā)明的涂敷裝置和涂敷方法的第1實施方式之要部的外觀立體圖。圖2是表示本發(fā)明的涂敷裝置和涂敷方法的第1實施方式之整體構(gòu)造的概略構(gòu)造 圖。圖3是表示圖1和圖2中的工件臺6的一具體例的外觀立體圖。圖4是表示圖1和圖2中的工件臺6的另一具體例的外觀立體圖。圖5是表示圖4中的空氣噴出/吸附孔28的構(gòu)造的一具體例的圖。圖6是將圖1中的涂敷頭8的一具體例的要部放大表示的立體圖。圖7是表示圖1、圖2所示實施方式中的、主控制部的構(gòu)造及其控制的一具體例的 框圖。圖8是表示圖7中的副控制部34b的一具體例的框圖。圖9是表示圖1、圖2所示第1實施方式的整體動作的一具體例的流程圖。圖10是概略地表示本發(fā)明的涂敷裝置和涂敷方法的第2實施方式的整體構(gòu)造的 構(gòu)造圖。附圖標(biāo)記的說明1...架臺，2a 2c...門形架，3...橫梁，4a、4b. . . X軸方向移動機(jī)構(gòu)，5a、 5b...線性導(dǎo)軌，6...工件臺，7...線性導(dǎo)軌，8...涂敷頭，9...罩，10...基板運(yùn)入口， 11...基板運(yùn)出口，13. ..Z軸移動臺，14...噴嘴，15、15a 15e. ·.基板吸附板，16、16a 16d. · ·滾子，17. · ·玻璃基板，18a. · ·運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶，18b. · ·運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶，19. · ·基板載置 部件，20a 20d. · ·連接部件，21. · ·空氣吸附孔，22a、22b. · ·基板定位銷，23. · ·交叉滾子 軸承，24a 24d. ..XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)，25...交叉滾子軸承，26...正交軸承，27...基 板吸附板，27a...基板載置面，27b...前側(cè)面，28...空氣噴出/吸附孔，29...空氣吸附 孔，30...空氣噴出孔，34af...門形架移動用X軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器，34ag...涂敷頭部移 動用Y軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器，34ah...工件臺旋轉(zhuǎn)用θ軸馬達(dá)用驅(qū)動器，34ai...工件臺 移動用T軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器，34b...副控制部，39... Z軸馬達(dá)用驅(qū)動器，40...耐壓罩， 41a...基板運(yùn)入閘門，41b...基板運(yùn)出閘門，42...吸引鼓風(fēng)機(jī)，43...配管
具體實施例方式玻璃基板逐年大型化，從與目前的大型化對應(yīng)的傾向來看，裝置內(nèi)的定位機(jī)構(gòu)大 型化，重量日趨增加。隨之，作為驅(qū)動源的馬達(dá)大型化、滾珠絲杠、導(dǎo)向件這樣的軸承、動力 傳遞機(jī)構(gòu)也大型化，另外，不僅馬達(dá)驅(qū)動器大容量化、配線規(guī)模增大等機(jī)構(gòu)系統(tǒng)的大型化， 而且也導(dǎo)致控制系統(tǒng)中的基板驅(qū)動部的大規(guī)?；?。
另一方面，第2個問題是，在裝置內(nèi)外的玻璃基板的互換中，運(yùn)入/運(yùn)出該基板的 機(jī)構(gòu)也存在大型化、重量化的傾向。從制造程序看，已往是把往玻璃基板上涂敷密封材料的裝置、打點涂敷電極點的 裝置、和將液晶滴下涂敷的裝置這三種功能的裝置并排設(shè)置，將這些裝置與玻璃基板的貼 合裝置連接。在這三種裝置之間，由運(yùn)送機(jī)械手接近進(jìn)行大型玻璃基板的運(yùn)入、運(yùn)出。在該 運(yùn)入、運(yùn)出的動作中，不僅有水平移動，而且，在裝置間的移動中、把玻璃基板搭載到各裝置 的臺上時，在保持著基板的狀態(tài)下也反復(fù)上下動作，這樣，周圍的空氣上下流動，隨之灰塵 揚(yáng)起。為此，在本發(fā)明中，改變用機(jī)械手移交的方式，而采用備有一個或多個門形架(門 形框架部)的一個涂敷裝置或涂敷系統(tǒng)。上述門形架具有上述各裝置的涂敷功能(下面， 如無特別說明，也包含液晶的滴下涂敷功能)。為各門形架設(shè)置共同的工件臺，將玻璃基板 搭載在該工件臺上，把搭載著玻璃基板的該工件臺設(shè)置在按上述功能分配的位置，這樣，用 適當(dāng)?shù)拈T形架來進(jìn)行適當(dāng)?shù)耐糠髣幼?。利用載置著基板的同一個工件臺的移動來進(jìn)行基板 在不同功能的裝置間的移動，由此，可以不用機(jī)械手、人手進(jìn)行基板的運(yùn)送。另外，在本發(fā)明中，基板往工件臺的運(yùn)入、基板從工件臺的運(yùn)出是用運(yùn)入側(cè)運(yùn)送 帶、運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶進(jìn)行的，在這些運(yùn)送帶中，維持搭載于其上的玻璃基板的高度與載置在工 件臺上時的玻璃基板高度相同。由此可見，用各門形架進(jìn)行涂敷動作期間，玻璃基板載置在同一個工件臺上而相 對于工件臺不動，從而在對玻璃基板進(jìn)行的涂敷動作中，灰塵不揚(yáng)起。另外，在將玻璃基 板運(yùn)入、運(yùn)出工件臺時，從運(yùn)入運(yùn)送帶運(yùn)到工件臺上、從工件臺運(yùn)到運(yùn)出帶上，其高度不變 (即不抬起、不落下)地被運(yùn)送，這樣，灰塵不揚(yáng)起。因此，可提高所制造的板的成品率。另外，包含全部門形架、工件臺、它們的驅(qū)動機(jī)構(gòu)等在內(nèi)的整個空間用罩覆蓋著， 使該空間內(nèi)的壓力比大氣壓低，從而減少該空間內(nèi)的空氣量，這樣，可減小灰塵的揚(yáng)起力， 減少揚(yáng)起的灰塵量。下面，參照

本發(fā)明的實施方式。圖1是表示本發(fā)明的涂敷裝置和涂敷方法的第1實施方式的要部的外觀立體圖。 1是架臺，2a、2b、2c是門形架，3是橫梁，4a、4b是X軸方向移動機(jī)構(gòu)，5a、5b是線性導(dǎo)軌，6 是工件臺(基板載置臺)，7是線性導(dǎo)軌，8是涂敷頭。在圖1中，把架臺1的長度方向作為X軸方向，把寬度方向作為Y軸方向，在架臺1 上的Y軸方向相向的兩邊部分別設(shè)有沿著X軸方向的線性導(dǎo)軌5a、5b，這些線性導(dǎo)軌5a、5b 之間成為載置玻璃基板(圖未示)的工件臺6的通路。在該通路上，鋪設(shè)著沿X軸方向延 伸的線性導(dǎo)軌7。另外，在工件臺6的背面?zhèn)?，設(shè)有由線性馬達(dá)構(gòu)成的工件臺移動機(jī)構(gòu)(圖 未示)。這樣，工件臺6沿著該線性導(dǎo)軌7，從玻璃基板被運(yùn)入的基板運(yùn)入側(cè)a到玻璃基板 被運(yùn)出的基板運(yùn)出側(cè)b之間，可沿架臺1的長度方向移動。這里，工件臺6的移動方向是X軸方向，但是，在下文中把工件臺6的移動方向稱 為T軸方向。因此，供工件臺6移動用的線性導(dǎo)軌7也是沿T軸方向延伸，使該工件臺6移 動的上述工件臺移動機(jī)構(gòu)也稱為T軸方向移動機(jī)構(gòu)。在架臺1上，三臺門形架2a 2c以橫跨工件臺6的通路的方式設(shè)置，并且，在各 自的兩端側(cè)，設(shè)有由線性馬達(dá)構(gòu)成的X軸方向移動機(jī)構(gòu)(門形架移動機(jī)構(gòu))4a、4b。借助該X軸方向移動機(jī)構(gòu)4a、4b，這些門形架2a 2c可分別獨立地沿線性導(dǎo)軌5a、5b在X軸方向 移動。在門形架2a 2c的各自橫梁3的一個側(cè)面，設(shè)有多個涂敷頭8。這些涂敷頭8借 助設(shè)在門形架2a 2c的橫梁3上的Y軸方向移動機(jī)構(gòu)(圖未示)，可在該橫梁3的側(cè)面沿 Y軸方向移動。在圖示例中示出了如下狀態(tài)，在門形架2a 2c上各設(shè)有六個涂敷頭8，其 中的三個涂敷頭8靠近橫梁3的一端側(cè)，另外的三個涂敷頭8靠近橫梁3的另一端側(cè)。在此，門形架2a 2c分別承擔(dān)功能。最靠近基板運(yùn)入側(cè)a的門形架2a被分配往 玻璃基板上涂敷密封材料的功能，設(shè)在其上的涂敷頭8分別是密封材料的涂敷頭。其次靠 近基板運(yùn)入側(cè)a的門形架2b被分配作為液晶面板電極部的打點的往玻璃基板上涂敷的功 能，設(shè)在其上的涂敷頭8分別是打點的涂敷頭。最靠近基板運(yùn)出側(cè)b的門形架2c被分配往 玻璃基板上滴下液晶的涂敷功能，設(shè)在其上的涂敷頭8分別是往玻璃基板上的被密封材料 包圍的區(qū)域內(nèi)滴下液晶的涂敷頭。要實施涂敷處理的玻璃基板(圖未示)由圖未示的運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶從運(yùn)入側(cè)a運(yùn) 入。這時，工件臺6位于運(yùn)入側(cè)a，被運(yùn)入的玻璃基板從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶移到該工件臺6上。 這樣，載置著玻璃基板的工件臺6由T軸方向移動機(jī)構(gòu)依次移動到預(yù)定位置。在設(shè)定在各 預(yù)定位置時，在載置在工件臺6上的玻璃基板上，由門形架2a的各涂敷頭8涂敷密封材料； 由門形架2b的各涂敷頭8涂敷打點；由門形架2c的各涂敷頭8滴下涂敷液晶。然后，工件 臺6位于基板運(yùn)入側(cè)b，處理完畢的玻璃基板從該工件臺6移到圖未示的運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶上， 被運(yùn)出、運(yùn)送。圖2是概略地表示本發(fā)明的涂敷裝置和涂敷方法的第1實施方式的整體構(gòu)造的構(gòu) 造圖，9是罩，10是基板運(yùn)入口，11是基板運(yùn)出口，12是風(fēng)扇過濾裝置，13是Z軸移動臺，14 是噴嘴，15是基板吸附板，16是滾子，17是玻璃基板，1 8a是運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶，18b是運(yùn)出側(cè)運(yùn) 送帶，與圖1中對應(yīng)的部分注以相同標(biāo)記，其重復(fù)說明從略。在圖2中，架臺1上的門形架2a 2c、工件臺6的整個移動范圍被罩9覆蓋著。 在該罩9的頂部設(shè)有多個風(fēng)扇過濾裝置12。在該罩9的基板運(yùn)入側(cè)a設(shè)有小開口(寬度比 玻璃基板17的寬度稍大，高度比玻璃基板17的厚度稍高的開口)的基板運(yùn)入口 10。由運(yùn) 入側(cè)運(yùn)送帶18a運(yùn)送過來的玻璃基板17，從該基板運(yùn)入口 10運(yùn)入罩9內(nèi)。從該基板運(yùn)入口 10運(yùn)入的玻璃基板17載置在工件臺6上。另外，在該罩9的基板運(yùn)出側(cè)b設(shè)有與基板運(yùn)入 口 10同樣大小的開口、即基板運(yùn)出口 11。該基板運(yùn)出口 11用于把已涂敷處理過的(即涂 敷完畢的)玻璃基板17從罩9內(nèi)排出到外部。從該基板運(yùn)出口 11運(yùn)出的、涂敷完畢的玻 璃基板17載置在運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上。這里，工件臺6上面的基板載置面和運(yùn)送帶18a、18b的基板載置面是相同高度的 面(同一平面內(nèi)的面)，另外，工件臺6的基板載置面，如后所述，由基板吸附面15和滾子 16構(gòu)成。另外，該運(yùn)送帶18a、18b，除了采用具有導(dǎo)引件的輥式運(yùn)送帶外，也可以采用滾珠 狀的運(yùn)送帶或活動梁等。借助該構(gòu)造，當(dāng)由運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a運(yùn)送過來的玻璃基板17要被運(yùn)入罩9內(nèi)時， 玻璃基板17保持著這時的高度地由運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a從運(yùn)入口 10推入罩9內(nèi)，該玻璃基 板17到達(dá)工件臺6上時，保持著原來的高度地借助滾子16在工件臺6上移動，在預(yù)定位置， 載置在基板吸附板15上，被吸附固定。
這樣，搭載著玻璃基板17的工件臺6，借助T軸方向移動機(jī)構(gòu)，在T軸方向移動而 定位在架臺1上的靠基板運(yùn)入側(cè)a的A位置。在該位置，由門形架2a的涂敷頭8進(jìn)行密封 材料的涂敷，在玻璃基板17上畫出多個(這里是六個)閉合的密封材料圖案。該密封材料 的圖案是這樣畫出的在門形架2a上，一邊從涂敷頭8的搭載在Z軸移動臺13上的噴嘴14 噴出密封材料，一邊用Y軸方向移動機(jī)構(gòu)使涂敷頭8沿著門形架2a的橫梁3 (圖1)在Y軸 方向移動，并且，用X軸方向移動機(jī)構(gòu)4a、4b (圖1)使門形架2a在X軸方向移動、從而使涂 敷頭8在X軸方向移動，這樣，使噴嘴14沿著矩形圖案的軌跡移動，畫出矩形圖案。這時， 借助Z軸方向移動機(jī)構(gòu)(圖未示)，調(diào)節(jié)Z軸移動臺13的Z方向的高度，把噴嘴1 4的密封 材料噴出口距玻璃基板17表面的高度總是保持為規(guī)定的高度。接著，工件臺6借助T軸方向移動機(jī)構(gòu)在T軸方向移動，定位在架臺1上的中央部 的B位置。在該位置，由門形架2b的涂敷頭8，對玻璃基板17上的每個密封材料的矩形的 描繪圖案，在該描繪圖案的外周預(yù)定位置(例如四個角位置)進(jìn)行電極材的打點涂敷。這時 也與上述同樣地，設(shè)在門形架2b上的涂敷頭8在X、Y軸方向移動，其噴嘴14設(shè)定在應(yīng)對各 密封材料的描繪圖案進(jìn)行打點涂敷的位置，在該位置，從噴嘴14的噴出口噴出電極材。這 時也與上述同樣地，把噴嘴14的噴出口距玻璃基板17表面的高度總是保持為規(guī)定的高度。然后，工件臺6借助T軸方向移動機(jī)構(gòu)在T軸方向移動，定位在架臺1上的靠基板 運(yùn)出側(cè)b的C位置。在該位置，由門形架2c的涂敷頭8，對玻璃基板17上的密封材料的每 個描繪圖案，在由該描繪圖案所包圍的區(qū)域內(nèi)進(jìn)行液晶的滴下涂敷。這時也與上述同樣地， 設(shè)在門形架2c上的涂敷頭8在X、Y軸方向移動，其噴嘴14設(shè)定在應(yīng)對被各密封材料的圖 案包圍的區(qū)域進(jìn)行液晶滴下的位置，在該位置，從噴嘴14的噴出口滴下液晶。這時也與上 述同樣地，把噴嘴14的噴出口距玻璃基板17表面的高度總是保持為規(guī)定的高度。用上述方式對玻璃基板17的涂敷處理結(jié)束后，將工件臺6上的該涂敷處理完畢后 的玻璃基板17從基板運(yùn)出口 11排出到罩9外。這時，由工件臺6的滾子16在保持玻璃基 板17的高度不變的狀態(tài)下把玻璃基板17從該基板運(yùn)出口 11排出到罩9外，當(dāng)該玻璃基板 17到達(dá)運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時，使之以這時的高度在該運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上移動，位置固定 在預(yù)定位置。這樣，玻璃基板17從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a移到罩9內(nèi)的工件臺6上時、從罩9內(nèi)的 工件臺6上移到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時，都不用機(jī)械手或人手，可將高度保持為一定地僅 由T軸方向的移動而進(jìn)行，所以，罩9內(nèi)的空氣不上下流動，不會揚(yáng)起灰塵。另外，同樣地， 玻璃基板17在被分配了不同功能的門形架2a、2b、2c間的移動，是在搭載于工件臺6上的 狀態(tài)下僅由T軸方向的移動而進(jìn)行的，所以，罩9內(nèi)的空氣不上下流動，不會揚(yáng)起灰塵。因 此，在玻璃基板17的密封材料等的涂敷面上不會附著揚(yáng)起的灰塵，可避免因灰塵附著而降 低成品率。另外，具有密封材料的涂敷、電極材的打點涂敷、液晶的滴下涂敷這樣不同涂敷處 理功能的裝置(門形架2a 2c)設(shè)在同一架臺1上，使玻璃基板17以搭載在工件臺6上 的狀態(tài)在這些裝置間移動，這樣，由各裝置進(jìn)行各自的涂敷處理，所以，與采用機(jī)械手在裝 置間運(yùn)送玻璃基板相比，可以縮短從一個裝置移到下一個裝置而開始處理的時間，可縮短 制造所需的時間，并且，可縮短這些裝置之間的間隔，可以使進(jìn)行不同功能處理的裝置整體 小型化。
圖3是表示圖1和圖2中的工件臺6的一具體例的外觀立體圖。15a 15e是基 板吸附板，16a 16d是滾子，19是基板載置部件，20a 20d是連接部件，21是空氣吸附孔， 22a、22b是基板定位銷，23是交叉滾子軸承，24a 24d是XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)，25是交叉 滾子軸承，26是正交軸承。在圖3中，工件臺6具有基板搭載部件19。該基板搭載部件19是用細(xì)長平板狀的 連接部件20a 20d把多個(這里是多個)Y軸方向為長度方向的基板吸附板15a 15e連 接起來而構(gòu)成的。上述基板吸附板15a 15e在X軸方向相互平行且等間隔地配置著。這 些基板吸附板15a 15e相當(dāng)于圖2中的基板吸附板15，其剖面形狀為矩形或正方形。連 接部件20a 20d比基板吸附板15a 1 5e的高度薄，這樣，連接部件20a 20d的部分 形成了基板載置部件19的凹入的谷部。在這些谷部(即連接部件20a 20d的上面?zhèn)?， 沿谷部的Y軸方向全長，分別配置了滾子16a 16d。這些滾子16a 16d相當(dāng)于圖2中的 滾子16，構(gòu)成了用于使載置在基板載置部件19上的玻璃基板17 (圖2)在T(X)軸方向移動 的基板移動機(jī)構(gòu)，被圖未示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。在各個基板吸附板15a 15e的上面，各設(shè)有多個(圖示中是四個)空氣吸附孔 21，該空氣吸附孔21用于吸附并定位玻璃基板17(圖2)。接近該基板搭載部件19的X軸 方向端側(cè)、即基板運(yùn)入側(cè)a(圖1、圖2)的相反側(cè)的最端部的基板吸附板15e的外側(cè)面地設(shè) 有多個(這里是兩個)基板定位銷22a、22b。另外，該基板搭載部件19的中心部，由其背面?zhèn)鹊摹⒆鳛樾D(zhuǎn)部件的交叉滾子軸 承23支承著。另外，基板搭載部件19背面的、從該交叉滾子軸承23朝著不同方向且相互 等距離的位置，分別由ΧΥΘ軸方向微動機(jī)構(gòu)24a 24d支承著。交叉滾子軸承23，以其支 承位置為中心，使基板搭載部件19朝θ軸方向轉(zhuǎn)動。XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)24a 24d由 交叉滾子軸承25和正交軸承26構(gòu)成，基板搭載部件19借助交叉滾子軸承23，以其中心部 為中心朝θ軸方向轉(zhuǎn)動，并且，借助XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)24a 24d，使其支承位置朝θ 軸方向轉(zhuǎn)動，在XY軸方向移動。這樣，基板搭載部件19，以其中心位置為中心轉(zhuǎn)動，可調(diào)節(jié) 搭載在工件臺6上的玻璃基板17(圖1)的θ軸方向的偏差。該構(gòu)造的基板搭載部件19，載置在圖未示的基臺上，在該基臺的背面?zhèn)仍O(shè)有圖1 中說明的τ軸方向移動機(jī)構(gòu)。這樣，工件臺6可在T軸方向移動。另外，滾子16a 16d的位置相對于該基臺是固定的，但是，由基板吸附板15a 15e和連接部件20a 20d構(gòu)成的基板載置部件19、基板定位銷22a、22b能與交叉滾子軸 承23及XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)24a 24d —起相對于基臺上下動作。如圖2中所述，工件臺6位于罩9的基板運(yùn)入口 10側(cè)，從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a取入玻 璃基板17時，基板搭載部件19是降下狀態(tài)，基板定位銷22a、22b是上升狀態(tài)，滾子16a 16d、基板定位銷22a、22b是一部分較之基板載置部件19的基板吸附板15a 15e的上面 突出到上方的狀態(tài)。這時，滾子16a 16d是被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)，如圖2中所述，玻璃基板17從運(yùn)入側(cè) 運(yùn)送帶18a被推入到工件臺6上，該玻璃基板17搭載到旋轉(zhuǎn)的滾子16a 16d上時，也借 助該滾子16a 16d的旋轉(zhuǎn)，該玻璃基板17朝基板定位銷22a、22b的方向移動。當(dāng)玻璃基 板17與基板定位銷22a、22b相接時，滾子16a 16d停止旋轉(zhuǎn)，基板載置部件19上升，成 為玻璃基板17載置到其上面的狀態(tài)。接著，空氣吸附孔21作為基板位置固定機(jī)構(gòu)進(jìn)行吸附動作，這樣，玻璃基板17被吸附在基板載置部件19的上面，成為固定在工件臺6上的狀 態(tài)。如圖2所述，工件臺6移動到架臺1的基板運(yùn)出側(cè)b，把涂敷處理完畢的玻璃基板 17通過基板運(yùn)出口 11移到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時，使基板定位銷22a、22b與基板載置部 件19 一起下降，在玻璃基板17搭載在滾子16a 16d上的狀態(tài)，使這些滾子16a 16d旋 轉(zhuǎn)。這樣，玻璃基板17從工件臺6上通過基板運(yùn)出口 11移動到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上。這樣，不用機(jī)械手或人手就可以把玻璃基板17從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a移送到工件臺 6上，并且，不用機(jī)械手或人手就可以把涂敷處理完畢的玻璃基板17從工件臺6移送到運(yùn)出 側(cè)運(yùn)送帶18b上。圖4是表示圖1和圖2中的工件臺6的另一具體例的外觀立體圖。27是基板吸附 板，27a是基板載置面，27b是前側(cè)面，28是空氣噴出/吸附孔，與圖3對應(yīng)的部分注以相同 標(biāo)記，其重復(fù)說明從略。如圖4所示，在該具體例中，一個平板狀的基板吸附板27，與圖3所示具體例同樣 地，在圖未示的基臺上，由交叉滾子軸承23和XY θ軸方向微動機(jī)構(gòu)24a 24d支承著。但 是，該基板吸附板27相對于基臺的位置和高度是固定的。該基板吸附板27的上面是平坦 面，是未圖示的玻璃基板的載置面27a，該基板載置面27a具有將整個玻璃基板載置于其上 的面積。與之前的圖3所示具體例同樣地，與該基板吸附板27的與基板運(yùn)入側(cè)a(圖2)相 反側(cè)的前側(cè)面27b側(cè)接近地設(shè)有多個(這里是兩個)基板定位銷22a、22b。這些基板定位 銷22a、22b，與之前的圖3所示具體例同樣地，相對于基臺上下動，如圖2中所述，工件臺6 位于罩9的基板運(yùn)入口 10側(cè)，從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a取入玻璃基板17時，基板定位銷22a、 22b是上升狀態(tài)，較之基板吸附板27的基板載置面27a向上方突出。這樣，從基板運(yùn)入口 10(圖2)運(yùn)入的玻璃基板17與這些基板定位銷22a、22b相接，從而相對于基板吸附板27 定位。另外，如圖2中所述，工件臺6位于罩9的基板運(yùn)出口 11側(cè)，玻璃基板17從工件臺6 運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時，基板定位銷22a、22b是下降狀態(tài)，在基板吸附板27的基板 載置面27a的下方。在基板吸附板27的基板載置面27a上，沿X(T)軸方向和Y軸方向，以預(yù)定間隔設(shè) 有空氣噴出/吸附孔28 (圖4中，X軸方向各有九個，Y軸方向各有七個，但并不限于此)。 當(dāng)玻璃基板以定位狀態(tài)搭載在基板載置面27a上時，這些空氣噴出/吸附孔28作為空氣吸 附孔使用，把玻璃基板吸附在基板載置面27a上固定。當(dāng)從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a運(yùn)入玻璃基 板17、把玻璃基板17運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時，為了使該玻璃基板17在基板載置面 27a上沿X (Τ軸)方向移動，空氣噴出/吸附孔28作為空氣噴出孔使用。圖5是表示圖4中的空氣噴出/吸附孔28的構(gòu)造的一具體例的圖，29是空氣吸附 孔，30是空氣噴出孔，與前述圖中對應(yīng)的部分注以相同標(biāo)記，其重復(fù)說明從略。在圖5(a)中，空氣噴出/吸附孔28與空氣吸附孔29和空氣噴出孔30連通。在空 氣吸附孔29，如箭頭所示，基板吸附板27的基板載置面27a側(cè)的空氣被真空泵等的真空驅(qū) 動源(圖未示)吸引。在空氣噴出孔30，借助空氣泵等的空氣驅(qū)動源(圖未示)，從基板吸 附板27的空氣噴出/吸附孔28朝外部噴出空氣。這里，空氣吸附孔29設(shè)置在與基板載置 面27a垂直的方向，空氣噴出孔30相對于基板載置面27a朝T(X)軸方向傾斜地設(shè)置。這樣，從空氣噴出孔30噴出的空氣，從空氣噴出/吸附孔28相對于基板載置面27a朝T (X) 軸方向傾斜地噴出。圖5 (b)，如圖2中所述，表示把玻璃基板17從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a移到工件臺6上 時、把涂敷處理完畢的玻璃基板17從工件臺6移到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b上時的、空氣噴出/ 吸附孔28的狀態(tài)。這時，從空氣噴出孔30噴出已減少了灰塵量的清潔空氣，如虛線箭頭所示，空氣 從空氣噴出/吸附孔28相對于基板載置面27a朝T(X)軸方向傾斜地噴出，與玻璃基板17 的背面碰撞。這樣，玻璃基板17從基板載置面27a上稍稍(例如2 μ m左右)抬起，并且， 被朝T軸方向推壓。因此，玻璃基板17沿著基板載置面27a在T(X)軸方向被運(yùn)送。圖5(c)，如圖2中所述，表示把定位在工件臺6上的玻璃基板17固定在該工件臺 6的基板載置面27a上的狀態(tài)。這時，從空氣吸附孔29吸引空氣，如圖5(b)中所述，玻璃基板17在T(X)軸方向 被運(yùn)送，當(dāng)借助基板定位銷22a、22b (圖4)相對于基板載置面27a定位了時，停止從空氣噴 出孔30噴出空氣，而從空氣吸附孔29吸引空氣。這樣，玻璃基板17載置在基板載置面27a 上，通過進(jìn)一步進(jìn)行空氣吸引，玻璃基板17被吸附在基板載置面27a上而定位。這樣，借助空氣的作用，相對于基板載置面27a在T(X)軸方向運(yùn)送玻璃基板17， 并且，將玻璃基板17固定在基板載置面27a上。在基板吸附板27上，設(shè)有利用空氣噴出/ 吸附孔28的基板移動機(jī)構(gòu)和基板位置固定機(jī)構(gòu)。另外，要把圖5(c)所示狀態(tài)的、涂敷處理 完畢的玻璃基板17運(yùn)送到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b (圖2)上時，只要從圖5(c)所示狀態(tài)切換為 圖5(b)所示狀態(tài)即可?？諝馕娇?9的空氣吸附/停止、空氣噴出孔30的空氣噴出/停 止，可用電磁閥的切換動作來進(jìn)行。另外，在基板載置面27a上，也可以分別設(shè)置空氣吸附孔29和空氣噴出孔30。另 外，在圖5中，空氣噴出/吸附孔28連通著空氣噴出孔30那樣傾斜的空氣孔，也可以把該 空氣孔兼用作空氣吸附和空氣噴出。在該具體例中，不需要圖3所示具體例中的滾子16，也不需要使基板載置部件19 上下動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，從而構(gòu)造更加簡單化。圖6是將圖1中的涂敷頭8的一具體例的要部放大表示的立體圖，31是涂敷材料 收容筒，32是噴嘴支承件，33是測距儀，與前述圖中對應(yīng)的部分注以相同標(biāo)記，其重復(fù)說明 從略。在圖6中，將設(shè)有涂敷材料收容筒31、噴嘴14的噴嘴支承件32和測距儀33，設(shè)在 Z軸移動臺13(圖2)上。在門形架2a的涂敷頭8中，作為涂敷材料的密封材料收容在涂敷材料收容筒31 內(nèi)，在門形架2b的涂敷頭8中，作為涂敷材料的導(dǎo)電性液體收容在涂敷材料收容筒31內(nèi)， 在門形架2c的涂敷頭8中，作為涂敷材料的液晶收容在涂敷材料收容筒31內(nèi)。測距儀33用非接觸式的三角測距法計測從噴嘴14的前端部到搭載在工件臺 6(圖1)上的玻璃基板17表面(上面)的距離。即，在測距儀33的框體內(nèi)設(shè)有發(fā)光元件， 從該發(fā)光元件放射的激光在玻璃基板17上的計測點S反射，由同樣設(shè)在該框體內(nèi)的受光元 件受光，根據(jù)該受光位置，進(jìn)行計測。另外，玻璃基板17上的激光的計測點S和噴嘴14的 正下方位置，在玻璃基板17上偏移很小的距離ΔX和ΔY，但該很小距離的偏移處在玻璃基板17表面的凹凸差為能夠忽視的范圍內(nèi)，所以，測距儀33的計測結(jié)果和從噴嘴14前端部 到玻璃基板17表面(上面)的距離之間基本上不存在差。因此，根據(jù)該測距儀33的計測 結(jié)果控制Z軸移動臺13 (圖2)，從而能夠相應(yīng)于玻璃基板17表面的凹凸(起伏)把從噴嘴 14的前端部到玻璃基板17的表面(上面)的距離(間隔)維持一定。這樣，把從噴嘴14的前端部到玻璃基板17的表面(上面)的距離(間隔)維持 一定，并且，把從噴嘴14噴出的單位時間的涂敷材料的量維持為一定量，這樣，涂敷在玻璃 基板17上的圖案的寬度、厚度變得一樣。另外，備有可照明的光源的鏡筒和圖像識別照相機(jī)(圖未示)除了用于各噴嘴14 的平行調(diào)節(jié)、間隔調(diào)節(jié)外，還為了玻璃基板1 7的對準(zhǔn)位置、涂敷材料的描繪圖案的形狀識 別等，與玻璃基板17相向地設(shè)置著。返回到圖2，在該實施方式中，備有控制以上各部的控制部。S卩，在架臺1內(nèi)部設(shè)有 主控制部，該主控制部控制進(jìn)行各機(jī)構(gòu)的驅(qū)動的線性馬達(dá)、和使臺移動的馬達(dá)。在該主控制 部，通過電纜連接著副控制部。副控制部控制用于驅(qū)動Z軸移動臺13 (圖2)的Z軸伺服馬 達(dá)。圖7是表示該主控制部的構(gòu)造及其控制的一具體例的框圖。34a是主控制部，34aa 是微機(jī)，34ab是馬達(dá)控制器，34ac是圖像處理控制器，34ad是外部接口，34ae是數(shù)據(jù)通信總 線，34af是門形架移動用X軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器(下面簡稱為X軸驅(qū)動器)，34ag是涂敷頭 部移動用Y軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器(下面，簡稱為Y軸驅(qū)動器)，34ah是工件臺旋轉(zhuǎn)用θ軸 馬達(dá)用驅(qū)動器(下面，簡稱為θ軸驅(qū)動器)，34ai是工件臺移動用T軸線性馬達(dá)用驅(qū)動器 (下面，簡稱為T軸驅(qū)動器)，34b是副控制部，34c是硬盤，34d是USB (通用串行總線)存儲 器，34f是監(jiān)視器，34g是鍵盤，35是調(diào)節(jié)器，36是閥裝置，37是圖像識別照相機(jī)，38是通信 電纜。在圖7中，主控制部34a內(nèi)置有微機(jī)34aa、馬達(dá)控制器34ab、圖像處理控制器34ac 和外部接口 34ad。馬達(dá)控制器34ab控制Y軸驅(qū)動器34ag、X軸驅(qū)動器34af、θ軸驅(qū)動器 34ah和T軸驅(qū)動器34ai。Y軸驅(qū)動器34ag用于驅(qū)動門形架2a 2c的橫梁3上的Y軸方 向移動機(jī)構(gòu)。X軸驅(qū)動器34af用于驅(qū)動門形架2a 2c的X軸方向移動機(jī)構(gòu)。θ軸驅(qū)動器 34ah用于在θ軸方向驅(qū)動搭載著玻璃基板17的工件臺6(圖1)。T軸驅(qū)動器34ai用于在 T軸方向驅(qū)動工件臺6。圖像處理控制器34ac處理由圖像識別照相機(jī)37得到的圖像信號。 外部接口 34ad用于與副控制部34b、調(diào)節(jié)器35、閥裝置36進(jìn)行通信。調(diào)節(jié)器35用于控制 涂敷頭8(圖1)的密封材料等涂敷材料的涂敷動作。這些微機(jī)34aa、馬達(dá)控制器34ab、圖 像處理控制器34ac和外部接口 34ad，通過數(shù)據(jù)通信總線34ae相互連接著。另外，副控制部 34b通過通信電纜38與該外部接口 34ad連接。另外，主控制部34a連接著USB存儲器34d、作為外部存儲裝置的硬盤34c、監(jiān)視器 34f、鍵盤34g等。從鍵盤34g輸入的數(shù)據(jù)等由監(jiān)視器34f顯示，并儲存保管在硬盤34c、USB 存儲器34d等的存儲媒體內(nèi)。在微機(jī)34aa中，備有主計算部、ROM、RAM和輸入輸出部(圖中均未示)等。ROM存 儲了用于進(jìn)行后述涂敷描繪的處理程序。RAM用于存儲主計算部的處理結(jié)果、從外部接口 34ad、馬達(dá)控制器34ab輸入的數(shù)據(jù)。輸入輸出部用于與外部接口 34ad、馬達(dá)控制器34ab進(jìn) 行數(shù)據(jù)交換。
被Y軸驅(qū)動器34ag驅(qū)動的作為各涂敷頭8的Y軸方向移動機(jī)構(gòu)的線性馬達(dá)、被X 軸驅(qū)動器34af驅(qū)動的作為門形架2a 2c (圖1)的X軸方向移動機(jī)構(gòu)4a、4b的線性馬達(dá)， 設(shè)有檢測各涂敷頭8、門形架2a 2c的位置的直線標(biāo)尺，將其檢測結(jié)果分別供給Y軸驅(qū)動 器34ag、X軸驅(qū)動器34af，進(jìn)行涂敷頭8的Y軸方向、X軸方向的位置控制。另外，同樣地， 被θ軸驅(qū)動器34ah驅(qū)動的工件臺6(圖1)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達(dá)內(nèi)置有檢測該玻璃基板17的旋 轉(zhuǎn)量的編碼器，將其檢測結(jié)果供給θ軸驅(qū)動器34ah，進(jìn)行玻璃基板17的方向控制。另外， 被T軸驅(qū)動器34ai驅(qū)動的、作為工件臺6的T軸方向移動機(jī)構(gòu)的線性馬達(dá)，設(shè)有檢測該工 件臺6的位置的直線標(biāo)尺，將其檢測結(jié)果供給T軸驅(qū)動器34ai，進(jìn)行工件臺6的位置控制。 通過該位置控制，工件臺6被設(shè)定在圖2所示用于搭載被運(yùn)入的玻璃基板17的基板運(yùn)入側(cè) a的位置、用于把涂敷處理后的玻璃基板17運(yùn)出的基板運(yùn)出側(cè)b的位置、A位置、B位置、C 位置。另外，圖7中雖然沒有圖示，但還設(shè)有圖3所示構(gòu)造中的、相對于工件臺6的滾子 16a 16d的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，基板載置部件19、基板定位銷22a、22b的上下驅(qū)動機(jī)構(gòu)，這些 機(jī)構(gòu)也由馬達(dá)控制器34ab控制。圖8是表示圖7中的副控制部34b的一具體例的框圖，34ba是微機(jī)，34bb是馬達(dá) 控制器，34bc是外部接口，34bd是數(shù)據(jù)通信總線，39是Z軸馬達(dá)用驅(qū)動器(下面，簡稱為Z 軸驅(qū)動器)，與前述圖中對應(yīng)的部分注以相同標(biāo)記，其重復(fù)說明從略。在圖8中，副控制部34b內(nèi)置有微機(jī)34ba、馬達(dá)控制器34bb和外部接口 34bc，這 些機(jī)構(gòu)通過數(shù)據(jù)通信總線34bd相互連接著。上述外部接口 34bc進(jìn)行由測距儀33(圖6) 得到的高度數(shù)據(jù)的輸入、與主控制部34a的信號傳送。另外，在微機(jī)34ba中，備有主計算 部、ROM、RAM、和輸入輸出部(圖中均未示)等。ROM存儲了用于進(jìn)行后述涂敷描繪時噴嘴 14 (圖2、圖6)距玻璃基板17表面的高度控制的處理程序。RAM用于存儲主計算部的處理 結(jié)果、從外部接口 34bc及馬達(dá) 控制器34bb輸入的數(shù)據(jù)。輸入輸出部用于與外部接口 34bc、 馬達(dá)控制器34bb進(jìn)行數(shù)據(jù)交換。由馬達(dá)控制器34bb控制的Z軸驅(qū)動器39設(shè)在每個涂敷 頭8 (圖1)上，驅(qū)動其Z軸伺服馬達(dá)，在這些Z軸伺服馬達(dá)上內(nèi)置有檢測其旋轉(zhuǎn)量的編碼器， 其檢測結(jié)果返回到Z軸驅(qū)動器39，進(jìn)行噴嘴14的高度位置控制。根據(jù)主控制部34a和副控制部34b的聯(lián)合的控制，各馬達(dá)(線性馬達(dá)、Z軸伺服馬 達(dá)、θ軸伺服馬達(dá)等)根據(jù)從鍵盤34g (圖7)輸入并存儲在微機(jī)34aa的RAM內(nèi)的數(shù)據(jù)進(jìn)行 移動/旋轉(zhuǎn)，這樣，X軸方向移動機(jī)構(gòu)4a、4b使門形架2a 2c在X軸方向移動任意距離， 并且，通過使噴嘴14(圖2)上下移動的Z軸移動臺13 (圖2)，借助設(shè)在門形架2a 2c的 橫梁3(圖1)上的涂敷頭8的Y軸方向移動機(jī)構(gòu)，在Y軸方向移動任意距離，在其移動中， 用設(shè)定的壓力對涂敷材料收容筒31 (圖2)繼續(xù)加壓，從噴嘴14前端部的噴出口噴出密封 材料等液狀的涂敷材料，在玻璃基板17上描繪出由該涂敷材料形成的所需圖案。在噴嘴14朝Y軸方向水平移動的過程中，測距儀33計測噴嘴14與玻璃基板17 表面間的間隔，為了將該間隔總是保持為一定，用Z軸移動臺13的上下移動控制噴嘴14的 尚度。由副控制部34b進(jìn)行的Z軸方向的控制按門形架的功能而不同。安裝在門形架2a 上的涂敷頭8，借助Z軸方向的移動，將密封材料涂敷頭8的噴嘴14上下驅(qū)動。在門形架 2b，同樣地，借助Z軸方向的移動，將作為電極部的打點涂敷用的涂敷頭8的噴嘴14上下驅(qū)動。在門形架2c，同樣地，借助Z軸方向的移動，將液晶滴下用的涂敷頭8的噴嘴14上下驅(qū)動。下面，用門形架2a的密封材料涂敷用的涂敷頭8的例子進(jìn)行說明。在主控制部 34a和副控制部34b的聯(lián)合的控制下，各馬達(dá)根據(jù)從鍵盤34g輸入并存儲在微機(jī)34aa的RAM 內(nèi)的數(shù)據(jù)進(jìn)行移動/旋轉(zhuǎn)，這樣，使得保持在工件臺6 (圖1)上的玻璃基板17在X軸方向 移動任意距離，并且，借助X軸方向移動機(jī)構(gòu)4a、4b使門形架2a 2c在X軸方向移動，從 而使由上下移動噴嘴14的Z軸移動臺13(圖2)支承著的噴嘴14(圖2)在X軸方向移動 任意移動，在其移動中，用設(shè)定的氣壓對涂敷材料收容筒31 (圖6)繼續(xù)加壓，從噴嘴14前 端部的噴出口噴出涂敷材料、即密封材料，在玻璃基板17上涂敷出所需的涂敷材料描繪圖 案。在噴嘴14朝X軸方向水平移動的過程中，測距儀33(圖6)計測噴嘴14與玻璃基 板17的間隔，為了將該間隔總是保持為一定，用Z軸移動臺13的上下移動控制噴嘴14的 Z軸方向的位置。圖9是表示上述第1實施方式的整體動作的一具體例的流程圖。下面，參照圖2 等，說明其動作。在圖9中，動作開始時(步驟100)，首先，T軸驅(qū)動器34ai動作，使工件臺6移動 到架臺1上的基板運(yùn)入側(cè)a附近、即圖2的A位置附近，與此同時，使門形架2b、2c退避到 基板運(yùn)出側(cè)b附近、即圖2的C位置附近(步驟101)。接著，從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶18a把玻璃基 板17引入工件臺6，同時，使門形架2a移動到玻璃基板17的定位位置、即圖2的A位置附 近。在工件臺6的被基板定位銷22a、22b (圖3、圖4)定位的規(guī)定位置，將玻璃基板17臨時 定位，用空氣吸附孔21 (圖3)、空氣噴出/吸附孔28 (圖4)進(jìn)行吸附固定(步驟102)。然后，用圖像識別照相機(jī)37(圖7)識別了玻璃基板17上的記號后，進(jìn)行定位，用 θ軸驅(qū)動器34ah(圖7)，借助設(shè)在工件臺6下面的交叉滾子軸承23、ΧΥΘ軸方向微動機(jī)構(gòu) 24a 24d，修正θ軸方向的位置偏差(步驟103)。如果正確修正了位置偏差，驅(qū)動Y軸驅(qū)動器34ag(圖7)、Z軸驅(qū)動器39 (圖8)，使 門形架2a的Y軸移動機(jī)構(gòu)、Z軸移動臺13動作，把涂敷頭8的噴嘴14的高度設(shè)定為圖案 描繪高度，用涂敷頭8將密封材料涂敷到玻璃基板17上(步驟104)。密封材料涂敷處理后，使X軸驅(qū)動器34af動作，把工件臺6移動到架臺1的中間 位置、即圖2的B位置，同時，使剛才結(jié)束了密封材料涂敷的門形架2a退避到架臺1的運(yùn)入 側(cè)a附近、即圖2的A位置附近(步驟105)。接著，使門形架2b移動到架臺1的中間位置、即圖2的B位置附近，執(zhí)行電極材的 打點涂敷(步驟106)。打點材的涂敷結(jié)束后，把工件臺6移動到架臺1的運(yùn)出側(cè)b附近、 即圖2的C位置，同時，使結(jié)束了電極材打點涂敷處理的門形架2b退避到架臺1的運(yùn)入側(cè) a附近、即圖2的A位置附近(步驟107)。接著，使門形架2c移動到架臺1的運(yùn)出側(cè)b附近、即圖2的C位置附近，對被密封 材料包圍的內(nèi)部進(jìn)行液晶滴下涂敷(步驟108)。上述一連串的涂敷動作結(jié)束后，玻璃基板17從工件臺6被移到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶18b 上(步驟109)。然后，判斷是否停止上述全部工序(步驟110)，對全部玻璃基板17的一連串處理結(jié)束后，全部作業(yè)結(jié)束，動作停止(步驟111)。在上述第1實施方式中，在一個門形架上設(shè)置了六個涂敷頭8，借助利用線性馬達(dá) 的這些涂敷頭8用的Y軸方向移動機(jī)構(gòu)，涂敷頭8在門形架的橫梁3上可沿其長度方向(Y 軸方向)移動。用該Y軸方向移動機(jī)構(gòu)改變涂敷頭8的停止位置，可以對應(yīng)于從外形2 3(m)見方尺寸的一塊大玻璃基板17制作若干塊面板時的涂敷。另外，在該實施方式中，每個門形架2a 2c上各設(shè)置了六個涂敷頭8，可以把同一 個門形架、例如門形架2a的六個涂敷頭8全部用于涂敷密封材料，但是，根據(jù)使用狀況，也 可以選擇把門形架2a的六個涂敷頭8和門形架2b的六個涂敷頭8共計十二個涂敷頭8全 部用于涂敷密封材料或者用于涂敷打點材。另外，在該實施方式中，設(shè)在同一個門形架上的涂敷頭8全部是把相同的涂敷材 料涂敷到玻璃基板17上，但是，也可以在同一個門形架上設(shè)置涂敷不同種類涂敷材料的涂 敷頭而使該門形架具有不同的功能。例如，在門形架2a上，六個涂敷頭8之中的三個涂敷 頭8是噴出密封材料的涂敷頭，其余的三個涂敷頭8是噴出電極材的涂敷頭，這樣，能夠使 該門形架2a具有密封材料涂敷功能和電極材涂敷功能這樣兩種不同的功能。另外，也可以 在基臺1上只設(shè)置一臺門形架，同樣地，使該門形架具有密封材料涂敷功能、電極材涂敷功 能及液晶滴下涂敷功能。另外，也可以使設(shè)置在門形架2a上的六個涂敷頭8停止工作，連同門形架2a —起 退避到行程的一端側(cè)，只使用兩個門形架2b、2c，也可以作為示教數(shù)據(jù)設(shè)定，隨機(jī)應(yīng)變地使用。根據(jù)該第1實施方式，若干材料的涂敷、例如密封材料涂敷、導(dǎo)通用打點涂敷、液 晶滴下涂敷是用共同的工件臺6進(jìn)行的，這樣，可把三種功能集約在一個裝置內(nèi)。圖10是概略地表示本發(fā)明涂敷裝置和涂敷方法的第2實施方式的整體構(gòu)造的構(gòu) 造圖，40是耐壓罩，41a是基板運(yùn)入閘門，41b是基板運(yùn)出閘門，42是吸引鼓風(fēng)機(jī)，43是配管， 與圖2中對應(yīng)的部分注以相同標(biāo)記，其重復(fù)說明從略。如圖10所示，在該第2實施方式中，架臺1上的工件臺6和門形架2a 2c的移 動范圍被剛性的耐壓罩40覆蓋。在該耐壓罩40的基板運(yùn)入側(cè)a設(shè)有基板運(yùn)入閘門41a，在 該耐壓罩40的基板運(yùn)入側(cè)b設(shè)有基板運(yùn)出閘門41b?；暹\(yùn)入閘門41a用于從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送 帶18a上把玻璃基板17運(yùn)入耐壓罩40內(nèi)，并載置在工件臺6上?；暹\(yùn)出閘門41b用于 把涂敷處理完畢的玻璃基板17從耐壓罩40內(nèi)的工件臺6運(yùn)出到外部，并載置在運(yùn)出側(cè)運(yùn) 送帶18b上。這些閘門41a、41b可以開閉，只在玻璃基板17運(yùn)入、運(yùn)出的通過時開放。另外，耐壓罩40的內(nèi)部通過配管43與作為空氣吸引機(jī)構(gòu)的吸引鼓風(fēng)機(jī)42連接， 利用該吸引鼓風(fēng)機(jī)42，把耐壓罩40的內(nèi)部設(shè)定為低于大氣壓力的壓力環(huán)境。這樣，內(nèi)部成 為低于大氣壓力的壓力環(huán)境，從而空氣密度降低，由工件臺6、門形架2a 2c等構(gòu)造物的移 動而揚(yáng)起灰塵的能力降低。與大氣壓環(huán)境相比，只揚(yáng)起很小的灰塵，另外，揚(yáng)起的灰塵量也 少，在清潔的環(huán)境中制造的面板的的成品率也提高。另外，根據(jù)與涂敷處理時間的平衡，需要把耐壓罩40內(nèi)部的壓力下降成為高真空 時，也可以用真空泵吸引來代替吸引鼓風(fēng)機(jī)42。除了上述構(gòu)造外，其余與第1實施方式相同，其動作也如圖9所示。在上述各實施方式中，把具有多個功能的多臺裝置(門形架)并排設(shè)置，使這些裝置可以移動，并利用裝置使載置著玻璃基板的工件臺移動到進(jìn)行涂敷處理的位置。所以，不 必采用共同的一臺機(jī)械手或設(shè)置在裝置間的多臺機(jī)械手進(jìn)行利用(用于對作為對象工件 的玻璃基板的移交的)機(jī)械手運(yùn)送的玻璃基板的移交，另外，由于縮短了玻璃基板的動線 (移動線)，所以，第1，可減少玻璃基板運(yùn)送時的顆粒污染，提高液晶面板的制造時的成品 率，第2，可縮小設(shè)置面積，有效利用潔凈室。 在上述本實施方式中，以用于制作液晶面板的涂敷處理為例，但本發(fā)明并不限于 此。因此，被涂敷處理的基板也不限于玻璃基板。
權(quán)利要求
一種涂敷裝置，在一臺或多臺架臺上設(shè)置門形架，在該門形架上能移動地設(shè)有一個或多個涂敷頭，該涂敷頭備有充填了涂敷材料的材料收容筒和噴出來自該涂敷材料收容筒的涂敷材料的噴嘴噴出口；該門形架相對于設(shè)置在該架臺上的基板載置臺所搭載的基板移動，上述涂敷頭相對于該門形架移動，從而該涂敷頭相對于該基板移動，從上述噴嘴噴出口向上述基板上噴出上述涂敷材料；其特征在于，從外部向該基板載置臺運(yùn)入上述基板是在從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的高度保持為與該基板載置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的，并且，從上述基板載置臺向外部運(yùn)出該基板是在從該基板載置臺運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的高度保持為與上述基板載置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的；該涂敷裝置備有第1移動機(jī)構(gòu)和第2移動機(jī)構(gòu)；上述第1移動機(jī)構(gòu)，使該基板載置臺在載置著上述基板的狀態(tài)下、從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的該基板載置的位置移動到將該基板運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的位置；上述第2移動機(jī)構(gòu)使載置在該基板載置臺上的該基板轉(zhuǎn)動。
2.如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，在上述架臺上設(shè)有多臺上述門形架；設(shè)在上述多臺門形架之中的任意門形架上的上述涂敷頭，向上述基板上噴出不同于設(shè) 在上述其它的門形架上的涂敷頭的種類的上述涂敷材料。
3.如權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于，設(shè)在上述同一個門形架上的上述多 個涂敷頭之中的任意涂敷頭與其它的上述涂敷頭，向上述基板上噴出不同種類的上述涂敷 材料。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的涂敷裝置，其特征在于，上述基板載置臺備有基板移動機(jī) 構(gòu)和基板位置固定機(jī)構(gòu)；上述基板移動機(jī)構(gòu)利用使上述基板在上述基板載置臺上朝一個方向移動的滾子；上述基板位置固定機(jī)構(gòu)在上述基板載置臺上吸附基板，將上述基板位置固定在上述基 板載置臺上。
5.如權(quán)利要求1、2或3所述的涂敷裝置，其特征在于，上述基板載置臺備有基板移動機(jī) 構(gòu)和基板位置固定機(jī)構(gòu)；上述基板移動機(jī)構(gòu)在上述基板載置臺上向上述基板噴射空氣，使上述基板朝一個方向 移動；上述基板位置固定機(jī)構(gòu)在上述基板載置臺上吸附基板，將上述基板位置固定在上述基 板載置臺上。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的涂敷裝置，其特征在于，用耐壓罩覆蓋上述架臺上 的上述基板載置臺的移動范圍，用空氣吸引機(jī)構(gòu)把被該耐壓罩覆蓋著的內(nèi)部設(shè)定為低于大 氣壓的氣壓，在該低氣壓的環(huán)境內(nèi)，用上述門形架的上述涂敷頭對載置在上述基板載置臺 上的上述基板進(jìn)行涂敷動作。
7.一種涂敷方法，在一臺或多臺架臺上設(shè)置門形架，在該門形架上能移動地設(shè)有一個 或多個涂敷頭，該涂敷頭備有充填了涂敷材料的涂敷材料收容筒和噴出來自該涂敷材料收 容筒的涂敷材料的噴嘴噴出口 ；該門形架相對于設(shè)置在該架臺上的基板載置臺所搭載的基 板移動，上述涂敷頭相對于該門形架移動，從而該涂敷頭相對于該基板移動，從上述噴嘴噴出口向上述基板上噴出上述涂敷材料；其特征在于，從外部向該基板載置臺運(yùn)入上述基板是在從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的高度保持為與該基 板載置臺上的基板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的，并且，從上述基板載置臺向外部運(yùn)出 該基板是在從該基板載置臺運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的高度保持為與上述基板載置臺上的基 板載置面相同高度的狀態(tài)下進(jìn)行的；該基板載置臺在載置著上述基板的狀態(tài)下、從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶運(yùn)入的該基板載置的位置 移動到將該基板運(yùn)出到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶的位置；使載置在上述基板載置臺上的上述基板轉(zhuǎn)動，修正θ軸偏差。
8.如權(quán)利要求7所述的涂敷方法，其特征在于，在上述架臺上設(shè)有多臺上述門形架；設(shè)在上述多臺門形架之中的任意門形架上的上述涂敷頭，向上述基板上噴出不同于設(shè)在上述其它的門形架上的涂敷頭的種類的上述涂敷材料。
9.如權(quán)利要求7或8所述的涂敷方法，其特征在于，設(shè)在上述同一個門形架上的上述多 個涂敷頭之中的任意涂敷頭與其它的上述涂敷頭，向上述基板上噴出不同種類的上述涂敷 材料。
10.如權(quán)利要求7、8或9所述的涂敷方法，其特征在于，通過利用滾子的基板移動機(jī)構(gòu)， 使上述基板在上述基板載置臺上朝一個方向移動，進(jìn)行上述基板在上述基板載置臺上的定 位；吸附定位后的上述基板，將上述基板位置固定在上述基板載置臺上。
11.如權(quán)利要求7、8或9所述的涂敷方法，其特征在于，在上述基板載置臺上，向上述基 板噴射空氣，使上述基板朝一個方向移動，進(jìn)行上述基板在上述基板載置臺上的定位；吸附定位后的上述基板，將上述基板位置固定在上述基板載置臺上。
12.如權(quán)利要求7 11中任一項所述的涂敷方法，其特征在于，用耐壓罩覆蓋上述架臺 上的上述基板載置臺的移動范圍，把被該耐壓罩覆蓋著的內(nèi)部設(shè)定為低于大氣壓的氣壓， 在該低氣壓的環(huán)境內(nèi)，用上述門形架的上述涂敷頭對載置在上述基板載置臺上的上述基板 進(jìn)行涂敷動作。
全文摘要
本發(fā)明提供能減少揚(yáng)起的灰塵、縮短制造時間的涂敷裝置和涂敷方法。涂敷功能各不同的門形架和載置著玻璃基板(17)的工件臺(6)可在X(T)軸方向移動地設(shè)置在基臺(1)上。當(dāng)工件臺位于A位置時，用門形架(2a)的涂敷頭(8)在玻璃基板上進(jìn)行第1涂敷動作。當(dāng)工件臺位于B位置時，用門形架(2b)的涂敷頭(8)在玻璃基板上進(jìn)行第2涂敷動作。當(dāng)工件臺位于C位置時，用門形架(2c)的涂敷頭(8)在玻璃基板上進(jìn)行第3涂敷動作。涂敷處理的玻璃基板在基板運(yùn)入側(cè)a從運(yùn)入側(cè)運(yùn)送帶(18a)保持著相同高度地被運(yùn)送到工件臺上，處理完畢的玻璃基板在基板運(yùn)出側(cè)b從工件臺保持著相同高度地被運(yùn)送到運(yùn)出側(cè)運(yùn)送帶(18b)上。
文檔編號B05D7/00GK101920235SQ20101020126
公開日2010年12月22日 申請日期2010年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月10日
發(fā)明者前原信二, 圓山勇, 小菅忠男, 川隅幸宏, 石田茂 申請人:株式會社日立工業(yè)設(shè)備技術(shù)