專利名稱：雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法、以及邊緣清洗裝置和邊緣清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法，特別是，涉及一種能夠在 基板的兩個主面上涂布涂液的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法，涉及一種能夠?qū)⑼恳?涂布在被處理基板的兩個主面上，并對兩個主面被涂布有涂液的被處理基板進(jìn)行邊緣清洗 (工7 yl > 7)的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法，并且，涉及一種即使在對多個被 處理基板進(jìn)行涂布的情況下，仍能涂布量偏差小且能夠高精度控制涂布量的雙面涂布裝置 和涂液的雙面涂布方法。另外，本發(fā)明涉及一種邊緣清洗裝置和邊緣清洗方法，特別是，涉及一種能夠正確 穩(wěn)定地僅清洗基板的外緣部的邊緣清洗裝置和邊緣清洗方法本申請主張在2008年3月31日于日本提出申請的日本專利申請2008-090572號、 日本專利申請2008-090573號、日本專利申請2008-090574號和日本專利申請2008-090575 號的優(yōu)先權(quán)，并在此引用上述專利申請的內(nèi)容。
背景技術(shù)：
在磁盤裝置、軟盤裝置、磁帶裝置等磁記錄裝置中使用磁記錄介質(zhì)。近些年來，進(jìn) 行了下述嘗試，即通過在磁記錄介質(zhì)表面上形成沿著磁道的凹凸而將記錄磁道彼此磁分離 以提高磁道密度。將這樣的磁記錄介質(zhì)稱作離散磁道(Π 7々U —卜卜，？々，分離式 磁道)介質(zhì)。制造離散磁道介質(zhì)具有下述方法，即形成了由幾層薄膜構(gòu)成的磁記錄介質(zhì)后再形 成磁道的方法，和預(yù)先直接在基板表面上形成凹凸圖形或預(yù)先在用于形成磁道的薄膜層上 形成凹凸圖形后，再形成磁記錄介質(zhì)的薄膜的方法(例如參照專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2)。其 中，前一種方法稱作磁層加工型，后一種方法稱作壓花加工(工7 )型。這種離散磁道 介質(zhì)的制造方法多采用光刻法技術(shù)，存在必須在基板上將抗蝕劑和感光性樹脂涂布等的情 況。作為對基板實施涂布的裝置，邊沿著垂直面保持圓盤狀的基板邊使基板沿周向旋 轉(zhuǎn)，并使旋轉(zhuǎn)中的基板針對收容有液體材料的涂布容器上下移動而將基板浸漬于液體材料 中，再從液體材料向上提起基板，并由基板的旋轉(zhuǎn)而將附著在該基板上的多余液體材料振 落來使附著在基板上的液體材料均勻化的裝置是公知的(參照專利文獻(xiàn)3)。另外，作為抗蝕劑涂布裝置，利用爪把持圓盤狀基板(基片，wafer)的外周部并在 水平面內(nèi)能自由旋轉(zhuǎn)地保持該基板，在該基板的上方和下方分別配置噴嘴，并能夠?qū)πD(zhuǎn) 的基板的上下兩面涂布抗蝕劑的裝置是公知的(參照專利文獻(xiàn)4)。另外，對基板涂布抗蝕劑后，通常實施將附著在基板的外緣部上的多余涂液除去 的邊緣清洗。若對基板涂布了抗蝕劑，則存在由抗蝕劑的表面張力在基板的外緣部形成膜 厚的厚涂膜的情況。通過實施邊緣清洗來將形成在基板的外緣部上的膜厚的厚部分除去， 能夠提高基板上所形成的涂膜的厚度的均勻性，能夠防止膜厚的厚部分妨礙抗蝕膜的圖形形成("夕一二 >夕'，圖案化)。邊緣清洗例如利用下述方法實施，使用邊緣清洗用噴嘴向基板的一個面的周緣部 噴涂清洗液，將附著在該面上的多余涂液除去后，再使用邊緣清洗用噴嘴向基板的另一面 的周緣部噴涂清洗液，將附著在另一面上的多余涂液除去。專利文獻(xiàn)1 日本特開2004-178793號公報專利文獻(xiàn)2 日本特開2004-178794號公報專利文獻(xiàn)3 日本特開2004-306032號公報專利文獻(xiàn)4 日本特開平7-245255號公報

發(fā)明內(nèi)容
然而，在使用磁層加工型的制造方法制造離散磁道介質(zhì)時，由于在介質(zhì)形成后實 施針對表面的物理加工，因此存在物理加工工序中介質(zhì)容易污染的問題、以及制造工序變 為極其復(fù)雜的問題。另外，在使用壓花加工型的制造方法制造離散磁道介質(zhì)時，雖然制造工序中污染 難以產(chǎn)生，但由于形成在基板上的凹凸形狀也繼承在成膜后的膜上，因此存在一邊在磁記 錄介質(zhì)上浮起(懸浮，浮上)一邊進(jìn)行記錄再生(再現(xiàn))的記錄再生頭的浮起姿勢和浮起 高度不穩(wěn)定的問題。在此，本申請發(fā)明人們?yōu)榱私鉀Q現(xiàn)有離散磁道介質(zhì)的制造方法中的上述問題，進(jìn) 行了探討。因而，獲得下述見解，即在形成磁性層后，使磁記錄磁道和伺服信號圖形(磁記 錄圖形)之外的區(qū)域暴露于反應(yīng)性等離子體，就能將磁記錄磁道彼此磁分離。在使用這種 反應(yīng)性等離子體的方法中，在磁性層的整個面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕層。以與磁記錄圖 形對應(yīng)的方式對該抗蝕層進(jìn)行圖形形成后，再使磁性層暴露于等離子體。從而，對磁性層上 沒有形成抗蝕層的區(qū)域的磁性進(jìn)行改性，磁性層的磁記錄磁道彼此磁分離。在使用上述反應(yīng)性等離子體的方法中，不進(jìn)行凹凸加工，因此能夠避免凹凸加工 所引起的介質(zhì)污染，利用簡單工序就能制造離散磁道介質(zhì)。另外，由這種方法獲得的離散磁 道介質(zhì)沒有凹凸，因此能夠使浮起型磁頭穩(wěn)定地懸浮行進(jìn)。另外，在使用上述反應(yīng)性等離子體的方法中，需要在磁性層的整個面上涂布抗蝕 劑來形成抗蝕層。另外，例如，作為離散磁道介質(zhì)，在制造磁盤裝置所使用的磁記錄介質(zhì) (磁盤)時，由于需要在基板的兩面上形成磁性層，因此需要在基板的兩面上涂布抗蝕劑來 在基板的兩面上形成抗蝕層。然而在使用現(xiàn)有的涂布裝置在基板的兩面同時涂布抗蝕劑時，存在所獲得的抗蝕 層的膜厚偏差大的問題。本發(fā)明是鑒于上述情況而提出的，本發(fā)明提供一種能夠在被處理基板的兩面上均 勻涂布涂液，在被處理基板的兩面上形成均勻涂膜的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法。在使用現(xiàn)有的涂布裝置在基板的兩面涂布抗蝕劑并進(jìn)行邊緣清洗時，由于在基板 的一面和另一面進(jìn)行邊緣清洗時的涂液的干燥狀態(tài)的偏差很大，因此存在因干燥狀態(tài)差異 而引起的清洗不良的問題。本發(fā)明是鑒于上述情況而提出的，本發(fā)明提供一種能夠使涂布涂液后至進(jìn)行邊緣清洗為止的時間在被處理基板的兩個主面為一定的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法。在現(xiàn)有涂布裝置中，在對多個被處理基板進(jìn)行涂布時，存在涂布量的偏差大，不能 高精度地控制涂布量的問題。本發(fā)明是鑒于上述情況而提出的，本發(fā)明提供一種即使在對多個被處理基板進(jìn)行 涂布時，涂布量的偏差小并能高精度地控制涂布量的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方 法。另外，在使用現(xiàn)有的涂布裝置將抗蝕劑涂布在基板的兩面上并進(jìn)行邊緣清洗時， 不能正確穩(wěn)定地僅對邊緣清洗的對象部分即基板的外緣部進(jìn)行清洗，清洗的外緣部的寬度 不均勻，或者涂膜殘留在基板的外緣部上的問題情況很多，因此成品率惡化。特別是，在現(xiàn) 有技術(shù)中，存在應(yīng)該清洗的外緣部的寬度窄時，不能高精度地僅清洗應(yīng)該清洗的外緣部的 情況。本發(fā)明是鑒于上述情況而提出的，本發(fā)明提供一種能夠正確穩(wěn)定地僅對基板的外 緣部的一定寬度范圍進(jìn)行清洗，即使應(yīng)該清洗的外緣部的寬度窄時，仍能輕易地控制要清 洗的外緣部的寬度的邊緣清洗裝置和邊緣清洗方法。為了解決上述問題，本申請的發(fā)明者努力研究的結(jié)果體現(xiàn)在本發(fā)明申請中。(1) 一種雙面涂布裝置，通過向被處理基板的兩個主面供給涂液，旋轉(zhuǎn)操作所述 被處理基板并將所述涂液在兩個主面上擴(kuò)展，從而在所述被處理基板的兩個主面上形成涂 膜，其特征在于，包括保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向的保持機(jī)構(gòu)；使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；將涂液噴出到所述被處理基板的一個主面上的第一涂液用噴嘴；以及將涂液噴出到所述被處理基板的另一主面上的第二涂液用噴嘴，所述第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴相對于所述被處理基板的厚度中心面對 稱配置。(2)在(1)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和所述第二 涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部和外周部噴出涂液。或者，在(1)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，上述第一涂液用噴嘴和上述第 二涂液用噴嘴向上述被處理基板的內(nèi)周部和外周部同時噴出涂液。(3)在(1)或(2)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和第 二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部噴出涂液的量比向外周部噴出涂液的量多。(4)在(1) (3)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，所述第一涂液用噴 嘴和/或所述第二涂液用噴嘴具有從與所述被處理基板的外周部對向的位置朝向與內(nèi)周 部對向的位置并列的多個涂液噴出口。(5)在(1) (3)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，所述第一涂液用噴 嘴和/或所述第二涂液用噴嘴具有從與所述被處理基板的外周部對向的位置朝向與內(nèi)周 部對向的位置在所述被處理基板的周向的寬度逐漸擴(kuò)大的涂液噴出口。(6)在⑴ (5)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，具備第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第一涂液用噴嘴，并邊使所述第一涂液用 噴嘴與所述被處理基板的所述一個主面間隔開邊使所述第一涂液用噴嘴沿所述一個主面
7在所述被處理基板的徑向移動；以及第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第二涂液用噴嘴，邊使所述第二涂液用噴 嘴與所述被處理基板的所述另一主面間隔開邊使所述第二涂液用噴嘴沿所述另一主面在 所述被處理基板的徑向移動。(7)在(1) (6)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，還包括將附著在被 涂布有所述涂液的所述被處理基板的兩個主面的外緣部上的涂液除去的邊緣清洗構(gòu)件，所述邊緣清洗構(gòu)件包括收容清洗液的容器，所述清洗液的液面從所述容器的上面 露出，所述容器能夠自由移動地配置在旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部浸漬于所述清洗 液的位置。(8)在(7)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴的 吸引部配置為與所述邊緣清洗構(gòu)件相鄰。(9)在(8)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，所述吸引部配置在所述邊緣清洗 構(gòu)件的被處理基板的旋轉(zhuǎn)方向側(cè)的位置上。(10)在(1) (6)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，還包括噴出清洗液 并對所述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的頭清洗用噴嘴。(11)在(10)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，上述涂液用噴嘴包括將涂液噴 出到上述被處理基板的一個主面上的第一涂液用噴嘴、和將涂液噴出到上述被處理基板的 另一主面上的第二涂液用噴嘴。上述第一涂液用噴嘴和上述第二涂液用噴嘴相對于上述被 處理基板的厚度中心面對稱配置。所述頭清洗用噴嘴包括設(shè)置在所述第一涂液用噴嘴的上方并與所述第一涂液用 噴嘴相鄰的第一頭清洗液用噴嘴、和設(shè)置在所述第二涂液用噴嘴的上方并與所述第二涂液 用噴嘴相鄰的第二頭清洗液用噴嘴。(12)在(11)記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，具備第一涂液用噴嘴移動機(jī) 構(gòu)，其支撐所述第一涂液用噴嘴和所述第一頭清洗液用噴嘴，并邊使所述第一涂液用噴嘴 與所述被處理基板的所述一個主面間隔開邊使所述第一涂液用噴嘴沿所述一個主面在所 述被處理基板的徑向移動；以及第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第二涂液用噴嘴和所述第二頭清洗液用噴 嘴，并邊使所述第二涂液用噴嘴與所述被處理基板的所述另一主面間隔開邊使所述第二涂 液用噴嘴沿所述另一主面在所述被處理基板的徑向移動。(13)在(10) (12)中任一記載的雙面涂布裝置中，其特征在于，包括向所述涂液用噴嘴供給所述涂液的涂液供給構(gòu)件、和向所述頭清洗用噴嘴供給所 述清洗液的清洗液供給構(gòu)件，所述涂液供給構(gòu)件包括對所述涂液用噴嘴和涂液用容器(罐，tank)進(jìn)行連接的 涂液用配管，所述清洗液供給構(gòu)件包括對所述頭清洗用噴嘴和清洗液用容器進(jìn)行連接的清 洗液用配管，所述清洗液用配管由連接配管與所述涂液用配管相連接，切換用閥連接在所述連 接配管上。(14) 一種邊緣清洗裝置，將附著在被涂布了涂液的被處理基板的兩個主面的外緣 部上的涂液除去，其特征在于，包括
保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向的保持機(jī)構(gòu)；使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；以及收容清洗液的容器，所述清洗液的液面從所述容器的上面露出，所述容器能夠自由移動地配置在旋轉(zhuǎn) 著的所述被處理基板的外緣部能被所述清洗液浸漬的位置。(15)在(14)記載的邊緣清洗裝置中，其特征在于，包括支撐所述容器并使所述容 器沿水平方向和上下方向移動的容器移動機(jī)構(gòu)。(16)在(14)或(15)記載的邊緣清洗裝置中，吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴的吸 引部配置為與所述容器相鄰。(17)在(16)記載的邊緣清洗裝置中，其特征在于，所述吸引部配置在所述容器的 被處理基板的旋轉(zhuǎn)方向一側(cè)的位置。(18)在(16)或(17)記載的邊緣清洗裝置中，其特征在于，包括支撐所述吸引部并 使所述吸引部沿水平方向和上下方向移動的吸引部移動機(jī)構(gòu)。(19) 一種涂液的雙面涂布方法，通過向被處理基板的兩個主面供給涂液并旋轉(zhuǎn)操 作所述被處理基板來將所述涂液在兩個主面上擴(kuò)展，在所述被處理基板的兩個主面上形成 涂膜，其特征在于，保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處 理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，從第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴向所述被處理基板同時噴出涂 液，該第一涂液用噴嘴將涂液噴出到所述被處理基板的一個主面上，該第二涂液用噴嘴與 所述第一涂液用噴嘴相對于所述被處理基板的厚度中心面對稱配置，并將涂液噴出到所述 被處理基板的另一主面上。(20)在(19)記載的涂液的雙面涂布方法中，其特征在于，使所述第一涂液用噴嘴 和所述第二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部和外周部噴出涂液。(21)在(19)或(20)記載的涂液的雙面涂布方法中，其特征在于，從所述第一涂液 用噴嘴和所述第二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部噴出的涂液量比向外周部噴出 的涂液量多。(22)在(19) (21)中任一記載的涂液的雙面涂布方法中，其特征在于，還包括邊 緣清洗工序，該邊緣清洗工序?qū)⑹杖萸逑匆呵宜銮逑匆旱囊好鎻纳厦媛冻龅娜萜髋渲糜?在所述涂布工序后旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部能浸漬在所述清洗液內(nèi)的位置。(23)在(22)記載的涂液的雙面涂布方法中，其特征在于，所述邊緣清洗工序一邊 利用與所述容器相鄰地配置的吸引部吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴一邊進(jìn)行。(24)在(19) (21)中任一記載的涂液的雙面涂布方法中，其特征在于，還包括從 頭清洗用噴嘴噴出清洗液并對所述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的涂液用噴嘴洗凈工序。(25) 一種使用(13)記載的雙面涂布裝置在被處理基板的兩個主面上形成涂膜的 涂液的雙面涂布方法，其特征在于，具備保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處 理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，從將涂液噴出到所述被處理基板的兩個主面上的涂液用噴嘴朝向所述 被處理基板噴出涂液的涂布工序；以及切換所述切換用閥，對相比所述切換用閥靠所述涂液用噴嘴側(cè)的所述涂液用配管和所述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的涂液用配管洗凈工序。(26) 一種邊緣清洗方法，將附著在被涂布了涂液的被處理基板的兩個主面的外緣 部上的涂液除去，其特征在于，包括邊緣清洗工序，該邊緣清洗工序保持所述被處理基板使 得所述被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，將收容清洗 液且所述清洗液的液面從上面露出的容器配置在旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部能浸 漬在所述清洗液內(nèi)的位置。(27)在(26)記載的邊緣清洗方法中，其特征在于，具有在保持所述被處理基板的 保持機(jī)構(gòu)裝卸所述被處理基板的裝卸工序，在所述裝卸工序中，利用支撐所述容器的容器移動機(jī)構(gòu)使所述容器沿水平方向和 上下方向移動，使所述容器退避。(28)在(26)或(27)記載的邊緣清洗方法中，其特征在于，所述邊緣清洗工序一邊 利用與所述容器相鄰地配置的吸引部吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴一邊進(jìn)行。發(fā)明效果本發(fā)明的雙面涂布裝置具備保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方 向為水平方向的保持機(jī)構(gòu)；使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；將涂液噴出到 所述被處理基板的一個主面上的第一涂液用噴嘴；以及將涂液噴出到所述被處理基板的另 一主面上的第二涂液用噴嘴，所述第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴相對于所述被處理基 板的厚度中心面對稱配置，因此通過第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴向被處理基板同時 噴出涂液，能夠向被處理基板的兩個主面上的相同位置同時供給涂液。因而，根據(jù)本發(fā)明的 雙面涂布裝置，在對被處理基板的一個主面涂布和對另一主面涂布中不存在因重力引起的 差異，也不存在因涂布位置而引起的差異，能夠在被處理基板的兩面上均勻地涂布涂液，能 夠在被處理基板的兩面上形成均勻的涂膜。另外，根據(jù)本發(fā)明的雙面涂布裝置，由于具備將涂液噴出到被處理基板的一個主 面上的第一涂液用噴嘴和將涂液噴出到被處理基板的另一主面上的第二涂液用噴嘴，因此 通過對從第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴噴出的涂液量和次數(shù)的控制，無論涂布量少還 是多，都能輕易地控制涂布量。與此相對，例如，在基板的上方和下方分別配置噴嘴并對旋轉(zhuǎn)的基板的上下兩面 涂布抗蝕劑時，由于在對基板的上面涂布和對下面涂布中因重力產(chǎn)生差異，難以控制針對 基板的上下面的涂布量。另外，在沿著垂直面保持基板，使旋轉(zhuǎn)中的基板相對于收容有液體 材料的涂布容器上下移動而將基板浸漬在液體材料中時，雖然在對被處理基板的一個主面 涂布和對另一主面涂布中不存在因重力引起的差異，但由于通過將基板浸漬在液體材料中 來涂布，因此難以控制涂布量。另外，根據(jù)本發(fā)明的雙面涂布裝置，由于具備將涂液噴出到被處理基板的一個主 面上的第一涂液用噴嘴和將涂液噴出到被處理基板的另一主面上的第二涂液用噴嘴，因此 通過使第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴移動，能夠輕易地變更針對被處理基板的兩個主 面的涂布位置。因而，在本發(fā)明的雙面涂布裝置中，例如為了控制在被處理基板上所形成的 涂膜的厚度，能夠使針對被處理基板的兩個主面的涂布位置變化。另外，根據(jù)本發(fā)明的雙面涂布裝置，由于能夠向被處理基板的兩個主面同時供給 涂液，因此通過向被處理基板的兩個主面同時供給涂液，與向被處理基板的一個主面供給涂液后再向另一主面供給涂液的場合相比，能夠在短時間內(nèi)輕易地將涂液涂布在被處理基 板的兩個主面上。另外，根據(jù)本發(fā)明的涂液的雙面涂布方法，以被處理基板的厚度方向為水平方向 的方式保持上述被處理基板，并使上述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)。從第一涂液用噴嘴和第二 涂液用噴嘴向上述被處理基板同時噴出涂液，該第一涂液用噴嘴將涂液噴出到上述被處理 基板的一個主面上，該第二涂液用噴嘴與上述第一涂液用噴嘴相對于上述被處理基板的厚 度中心面對稱配置，并將涂液噴出到上述被處理基板的另一主面上，因此能夠向被處理基 板的兩個主面上的相同位置同時供給涂液，能夠在被處理基板的兩面均勻地涂布涂液，能 夠在被處理基板的兩面上形成均勻的涂膜。本發(fā)明的雙面涂布裝置具備以上述被處理基板的厚度方向為水平方向的方式保 持上述被處理基板的保持機(jī)構(gòu)、使上述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)、向上述被 處理基板的兩個主面同時噴出涂液的涂液用噴嘴、和將附著在被涂布了所述涂液的上述被 處理基板的兩個主面的外緣部上的涂液除去的邊緣清洗裝置。該邊緣清洗裝置具備收容清 洗液的容器，上述清洗液的液面從上述容器的上面露出，上述容器配置在旋轉(zhuǎn)的上述被處 理基板的外緣部浸漬在上述清洗液內(nèi)的位置，因此針對被處理基板的兩個主面同時涂布涂 液后，能夠針對被處理基板的兩個主面同時進(jìn)行邊緣清洗。因而，在本發(fā)明的雙面涂布裝置 中，從涂布涂液后至進(jìn)行邊緣清洗為止的時間在被處理基板的兩個主面中是一定的。由此， 邊緣清洗開始時的涂液的干燥狀態(tài)在兩面上相同，難以產(chǎn)生因過于干燥而邊緣清洗變得困 難等因干燥狀態(tài)差異而導(dǎo)致的清洗不良，能夠穩(wěn)定地進(jìn)行邊緣清洗。另外，本發(fā)明的雙面涂布裝置能夠針對被處理基板的兩個主面進(jìn)行涂布和邊緣清 洗，在涂布時和在邊緣清洗時，均利用保持機(jī)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)。因而，在本發(fā)明的雙面涂 布裝置中，例如，與使用具備保持機(jī)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的涂布裝置以及具備保持機(jī)構(gòu)和旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的邊緣清洗裝置進(jìn)行涂布和邊緣清洗的情況相比，能夠減少用于進(jìn)行涂布和邊 緣清洗的空間。另外，本發(fā)明的雙面涂布裝置在針對被處理基板的兩個主面同時涂布涂液后，才 針對被處理基板的兩個主面同時進(jìn)行邊緣清洗，因此，與在被處理基板的單面上進(jìn)行涂布 和/或邊緣清洗的情況相比，能夠在短時間內(nèi)高效地進(jìn)行涂布和邊緣清洗。另外，本發(fā)明的涂液的雙面涂布方法具備涂布工序和邊緣清洗工序，在涂布工序 中，以被處理基板的厚度方向為水平方向的方式保持上述被處理基板，并使上述被處理基 板沿周向旋轉(zhuǎn)，從向上述被處理基板的兩個主面同時噴出涂液的涂液用噴嘴向所述被處理 基板同時噴出涂液，該邊緣清洗工序?qū)⑹杖萸逑匆呵疑鲜銮逑匆旱囊好嬖谏厦媛冻龅娜萜?配置在上述涂布工序后的旋轉(zhuǎn)的上述被處理基板的外緣部浸漬在上述清洗液內(nèi)的位置，因 此能夠在對被處理基板的兩個主面同時涂布涂液后，針對被處理基板的兩個主面同時進(jìn)行 邊緣清洗。由于本發(fā)明的雙面涂布裝置備以被處理基板的厚度方向為水平方向的方式保持 上述被處理基板的保持機(jī)構(gòu)；使上述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；將涂液噴出 到上述被處理基板的兩個主面上的涂液用噴嘴；噴出清洗液對上述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的 頭清洗用噴嘴，因此從涂液用噴嘴向被處理基板噴出涂液后，能夠從頭清洗用噴嘴噴出清 洗液來對涂液用噴嘴進(jìn)行清洗。因而，本發(fā)明的雙面涂布裝置能夠防止涂液用噴嘴堵塞并防止因涂液或涂膜附著在涂液用噴嘴上而引起噴出量偏差，即使在對多個被處理基板涂布 時，涂布量的偏差也很小，能夠高精度地控制涂布量。另外，根據(jù)本發(fā)明的雙面涂布裝置，由 于能夠使被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，從涂液用噴嘴向被處理基板的兩個主面上噴出涂液，因 此能夠控制從涂液用噴嘴噴出的涂液量和次數(shù)，無論涂布量多還是涂布量少，都能輕易地 進(jìn)行涂布量的控制。與此相對，例如，在基板的上方和下方分別配置噴嘴并對旋轉(zhuǎn)的基板的上下兩面 涂布抗蝕劑時，因噴嘴堵塞、或者涂液或涂膜附著在噴嘴上而引起噴出量偏差，因此在對多 個被處理基板涂布時，難以高精度地控制涂布量。特別是，抗蝕劑容易附著在被設(shè)置在基板 下方的噴嘴上，基板下面中的涂布量的偏差大。另外，在基板的上方和下方分別配置噴嘴 并對旋轉(zhuǎn)的基板的上下兩面涂布抗蝕劑時，在對基板的上面的涂布和對基板的下面的涂布 中，產(chǎn)生因重力導(dǎo)致的差異，因此，對基板的上下面的涂布量的控制很難。另外，在沿著垂直面保持基板，使旋轉(zhuǎn)中的基板相對于收容有液體材料的涂布容 器上下而將基板浸漬在液體材料中時，雖然在對被處理基板的一個主面涂布和對另一主面 涂布中不存在因重力引起的差異，不存在因涂液或涂膜附著在噴嘴上或噴嘴阻塞而引起噴 出量偏差，但由于通過將基板浸漬在液體材料中來涂布，因此難以控制涂布量。另外，本發(fā)明的涂液的雙面涂布方法具備涂布工序和涂液用噴嘴清洗工序，在涂 布工序中，以被處理基板的厚度方向為水平方向的方式保持上述被處理基板，并使上述被 處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，從向上述被處理基板的兩個主面噴出涂液的涂液用噴嘴向上述被處 理基板噴出涂液，該邊緣清洗工序從頭清洗用噴嘴噴出清洗液來對上述涂液用噴嘴洗凈， 因此能夠防止涂液用噴嘴阻塞，并防止因涂液或涂膜附著在涂液用噴嘴上而引起噴出量偏 差，即使在對多個被處理基板涂布時，涂布量的偏差小，能高精度地進(jìn)行涂布量的控制。本發(fā)明的邊緣清洗裝置具備以上述被處理基板的厚度方向為水平方向的方式保 持上述被處理基板的保持機(jī)構(gòu)、使上述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)、收容清洗 液的容器。上述清洗液的液面從上述容器的上面露出，上述容器配置在旋轉(zhuǎn)的上述被處理 基板的外緣部浸漬在上述清洗液內(nèi)的位置，因此通過使浸漬在清洗液中的被處理基板的外 緣部的寬度為規(guī)定寬度，就能夠正確穩(wěn)定地僅對被處理基板的外緣部的一定寬度區(qū)域進(jìn)行 清洗。另外，在本發(fā)明的邊緣清洗裝置中，像在設(shè)置邊緣清洗用噴嘴時那樣，要清洗的外 緣部的寬度不因從噴嘴噴出的清洗液的噴射量和/或噴射位置而變化，與設(shè)置邊緣清洗用 噴嘴的情況相比，能夠輕易地控制要清洗的外緣部的寬度，即使應(yīng)該清洗的外緣部的寬度 窄，要清洗的外緣部的寬度不均勻或涂膜殘留在基板的外緣部上的現(xiàn)象也很少，能夠提高 成品率。另外，根據(jù)本發(fā)明的邊緣清洗裝置，能夠?qū)Ρ惶幚砘宓膬蓚€主面同時進(jìn)行邊緣 清洗，因此與使用邊緣清洗用噴嘴對基板的一個面的周緣部吹附清洗液，并將附著在一個 面上的多余涂液除去后，再使用邊緣清洗用噴嘴對基板的另一面的周緣部噴涂清洗液，并 將附著在另一面上的多余涂液除去的情況相比，能夠在短時間輕易地對被處理基板的兩個 主面進(jìn)行邊緣清洗。另外，根據(jù)本發(fā)明的邊緣清洗方法，由于具有邊緣清洗工序，即以上述被處理基 板的厚度方向為水平方向的方式保持上述被處理基板，并使上述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，
12將能夠收容清洗液且上述清洗液的液面從上面露出的容器配置在旋轉(zhuǎn)著的上述被處理基 板的外緣部浸漬于上述清洗液內(nèi)的位置，因此通過使浸漬在清洗液中的被處理基板的外緣 部的寬度為規(guī)定寬度，就能夠正確穩(wěn)定地僅對被處理基板的外緣部的一定寬度區(qū)域進(jìn)行清 洗。


圖1是表示離散型磁記錄介質(zhì)的一個例子的剖視圖。圖2是用于說明本發(fā)明的雙面涂布裝置的整體構(gòu)成的概略圖，是從被處理基板的 一個主面?zhèn)瓤吹降恼晥D。圖3是表示圖2所示雙面涂布裝置的一部分的縱剖視圖。圖4是表示圖2所示雙面涂布裝置的一部分的俯視圖。圖5A是用于說明具有第一涂液用噴嘴18a和/或第二涂液用噴嘴18b的涂液噴 出口的形狀的視圖。圖5B是用于說明具有第一涂液用噴嘴18a和/或第二涂液用噴嘴18b的涂液噴 出口的形狀的視圖。圖6是用于說明第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b、與被處理基板2的配 置的概略放大圖。圖7是用于說明圖1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造工序的工序圖。圖8是用于說明圖1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造工序的工序圖。圖9是用于說明圖1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造工序的工序圖。圖IOA是用于說明圖2所示雙面涂布裝置1的動作的視圖，是從被處理基板2的 一個主面2a側(cè)看到的正視圖。圖IOB是用于說明圖2所示雙面涂布裝置1的動作的視圖，是從被處理基板2的 一個主面2a側(cè)看到的正視圖。圖11是實施例的抗蝕涂膜的平面圖。圖12是比較施例的抗蝕涂膜的平面圖。附圖標(biāo)記說明1...雙面涂布裝置、2...被處理基板、2a... 一個主面、2b...另一主面、3a...保 持機(jī)構(gòu)、3...旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)、6...被處理基板收容部、6a...主體、6b...頭清洗部、 8....主軸電動機(jī)、11...裝卡部、12...轉(zhuǎn)軸、9...主軸、10...帶輪、16a、16b...安裝部、 17a...第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)、17b...第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)、18a...第一涂液用 噴嘴、18b...第二涂液用噴嘴、19a...第一頭清洗液用噴嘴、19b...第二頭清洗液用噴 嘴、20...涂液供給構(gòu)件(單元)、20a...涂液用容器、20b...涂液用配管、20c...涂液用 閥、21...清洗液供給構(gòu)件、21a...清洗液用容器、21b...清洗液用配管、21c...清洗液 用閥、21d...分支配管、21e...清洗液閥、22...內(nèi)周部、23...外周部、25...排液構(gòu)件、 25a...排液容器、25b...排液配管、25c...分叉排液配管、25d...排液容器、25e...排 液配管、25f...排液閥、25g...排液構(gòu)件、26...排氣構(gòu)件、26a...排氣容器、26b...配 管、27...氣體供給構(gòu)件、31、32、33、34、35...涂液噴出口、40...邊緣清洗構(gòu)件、41...容 器、41a...開口部、42...容器移動機(jī)構(gòu)、43...吸引構(gòu)件、43a...吸引部、43b...縫隙、
1343c...內(nèi)壁面、43d...外壁、44...吸引部移動機(jī)構(gòu)、100...磁記錄介質(zhì)、101...非磁性基 板、101a...中心開口部、102...基底層、103...磁性層、104...改性部、105、保護(hù)膜
具體實施例方式以下，將參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的雙面涂布裝置和涂液的雙面涂布方法、以及 本發(fā)明的邊緣清洗裝置和邊緣清洗方法。〈離散型磁記錄介質(zhì)〉首先，作為使用本發(fā)明的雙面涂布裝置而形成有涂膜的被處理基板的一個例子， 對離散型磁記錄介質(zhì)的一個例子進(jìn)行說明。圖1是表示離散型磁記錄介質(zhì)的一個例子的剖 視圖。圖1所示磁記錄介質(zhì)100是在具有中心開口部IOla的非磁性基板101的兩個主 面(上面和下面)上分別形成有包含軟磁性層和中間層等的復(fù)合層構(gòu)造的基底層102、磁性 層103、改性部104、和保護(hù)膜105的部件，在最表面形成有潤滑膜(圖中省略)。而且，在圖1中，雖然針對非磁性基板101的厚度，分別夸張并放大地記載了基底 層102、具有磁圖形的磁性層103、改性部104、保護(hù)膜105的厚度，但不言而喻，實際的非磁 性基板101的厚度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于這些層和膜的厚度。在圖1中為了能輕易看見這些層和膜，比 實際夸張增厚地記載了這些層和膜。作為非磁性基板101，能夠使用以鋁(Al)為主要成分的例如鋁鎂(Al-Mg)合金等 的鋁合金基板，由通常的鈉鈣玻璃、鋁硅酸鹽類玻璃、結(jié)晶化玻璃類、硅、鈦、陶瓷、各種樹脂 構(gòu)成的基板等，只要是非磁性基板，能夠使用任意基板。磁性層103是相當(dāng)于磁記錄磁道和伺服信號圖形部的磁記錄圖形。磁性層103無 論是面內(nèi)磁記錄層還是垂直磁記錄層均可，為了實現(xiàn)更高的記錄密度，磁性層103優(yōu)選是 垂直磁記錄層。磁記錄層103優(yōu)選由以鈷(Co)為主要成分的合金形成。例如，作為面相磁記錄介質(zhì)(面相磁気記録媒體)用的磁記錄層，能夠利用非磁性 CrMo基底層和強(qiáng)磁性的CoCrPtTa磁性層構(gòu)成的層疊結(jié)構(gòu)。作為垂直磁記錄介質(zhì)用的磁記錄層，例如能夠利用將襯底層、取向控制膜疊層后 的產(chǎn)品，有時根據(jù)需要還層疊Ru等的中間膜、以及磁性層。所述裱層由軟磁性的FeCo合金 (FeCoB,FeCoSiB,FeCoZr,FeCoZrB,FeCoZrBCu 等),FeTa 合金(FeTaN,FeTaC 等)、Co 合金 (CoTaZr、Co&NB、CoB等)等構(gòu)成。所述取向控制膜由Pt、Pd、NiCr、NiFeCr等制成。所述 磁性層由 60Co-15Cr-15Pt 合金和 70Co-5Cr-15Pt_10Si02 合金構(gòu)成。磁記錄層的厚度例如為3nm以上且20nm以下，優(yōu)選為5nm以上且15nm以下。另外，如圖1所示，在沒有形成磁性層103的區(qū)域形成有磁性層103的磁性被改性 的非磁性部即改性部104。利用改性部104，構(gòu)成磁性層103的磁記錄圖形被磁分離，防止 相鄰的磁性層103的磁記錄圖形之間的信號干涉。所謂的磁性層103的磁性改性具體地是指，使作為均勻膜形成在非磁性基板101 上的磁性層的頑磁力、剩余磁化等部分變化，作為這種變化的一個例子，指減少頑磁力、減 少剩余磁化。例如通過將構(gòu)成作為均勻膜而成膜在非磁性基板101上的磁性層的磁記錄圖形 的區(qū)域之外的區(qū)域暴露于反應(yīng)性等離子體，磁性的改性能夠?qū)崿F(xiàn)，暴露于反應(yīng)性等離子體的部分成為改性部104。另外，保護(hù)膜105能夠使用碳(C)、碳?xì)浠衔?HxC)、氮化碳(CN)、無定形碳、碳化 硅(SiC)等的碳質(zhì)層和二氧化硅(SiO2)、Zr203、氮化鈦(TiN)等通常所使用的保護(hù)膜材料。 另外，保護(hù)膜105也可以由兩層以上的層構(gòu)成。優(yōu)選在保護(hù)膜105之上形成適合的潤滑層。潤滑層所使用的潤滑劑可以例舉氟類 潤滑劑、碳化氫類潤滑劑和這些潤滑劑的混合物等。通過磁性層103的磁記錄圖形之外的區(qū)域的磁性被改性而成為改性部104，圖1所 示的磁記錄介質(zhì)100的磁記錄圖形被可靠地磁分離，因此不受相鄰圖形之間的信號干涉的 影響，能夠獲得優(yōu)異的高記錄密度特性?！措p面涂布裝置〉以下，說明本發(fā)明的雙面涂布裝置的一個實施方式。圖2是用于說明本發(fā)明的雙面涂布裝置的整體構(gòu)成的概略圖，是從被處理基板的 一個主面?zhèn)瓤吹降恼晥D。另外，圖3是表示圖2所示的雙面涂布裝置的一部分的縱剖視 圖。圖4是表示圖2所示雙面涂布裝置的一部分的俯視圖。圖2 圖4所示的雙面涂布裝置1，是將涂液供給到環(huán)形(doughnuts)圓盤狀的被 處理基板2的一個主面2a和另一主面2b，通過旋轉(zhuǎn)操縱被處理基板2來使涂液在一個主面 2a和另一主面2b上擴(kuò)散，從而在被處理基板2的一個主面2a和另一主面2b上形成涂膜。如圖2 圖4所示，雙面涂布裝置1具備保持機(jī)構(gòu)3a、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3、第一涂液 用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a、第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b、第一涂液用噴嘴18a、第二涂液用噴嘴 18b、邊緣清洗構(gòu)件40、吸引構(gòu)件43、被處理基板收容部6。被處理基板收容部6具有主體6a和頭清洗部6b。如圖2所示，由保持機(jī)構(gòu)3a保 持的被處理基板2被收容在被處理基板收容部6內(nèi)的主體6a的中央部，由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3 使被處理基板2的一個主面2a沿順時針方向旋轉(zhuǎn)。另外，頭清洗部6b設(shè)置在相對于被處 理基板2的中心的3點鐘方向，并與主體6a接合。另外，如圖2所示，在被處理基板收容部6設(shè)置有從被處理基板收容部6的頭清洗 部6b供給清除氣體的氣體供給構(gòu)件27、和從被處理基板收容部6的主體6a排出氣體的排 氣構(gòu)件26。清除氣體例如可以使用干燥空氣、氮、氫、二氧化碳、氦、氖、氬、氪、氙等。排氣構(gòu)件26具備排氣容器26a (排氣容器)、對主體6a和排氣容器26a進(jìn)行連接 的配管26b。另外，在被處理基板收容部6設(shè)置有用于分別從被處理基板收容部6的頭清洗 部6b和主體6a排出排液的排液構(gòu)件25。排液構(gòu)件25具備排液容器25a、對排液容器25a 和主體6a進(jìn)行連接的配管25b、從排液配管25b分支并與頭清洗部6b連接的分支排液配管 25c。另外，在圖2 圖4中，實線表示第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a、第二涂液用噴嘴移 動機(jī)構(gòu)17b、邊緣清洗構(gòu)件40、吸引構(gòu)件43的各個部件在退避時的位置，點劃線表示各個部 件在涂布時或邊緣清洗時的位置。如圖2 圖4所示，在涂布時，從被處理基板2的一個主面2a側(cè)觀看時，在相對于 被處理基板2的中心3點鐘方向(圖2中的右方向)上，配置有第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu) 17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b。另外，在邊緣清洗時，從被處理基板2的一個主面2a 側(cè)觀看時，在相對于被處理基板2的中心6點鐘方向(圖2中的下方向)上配置有邊緣清洗構(gòu)件40。在7點鐘 9點鐘的方向上(圖2中的左下方向)上配置有吸引構(gòu)件43。另外，如圖4所示，在退避時，第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移 動機(jī)構(gòu)17b、與邊緣清洗構(gòu)件40和吸引構(gòu)件43配置為從平面視圖上看夾著被處理基板2 并隔開足夠間隙地對向，以便不妨礙被處理基板2的交換等。另外，在涂布時或邊緣清洗時 等，與第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b、邊緣清洗構(gòu)件40和 吸引構(gòu)件43能夠從反向向被處理基板2水平移動并接近被處理基板2。通過這樣，第一涂 液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b、與邊緣清洗構(gòu)件40和吸引構(gòu)件43 在移動時不接觸。保持機(jī)構(gòu)3a是以被處理基板2的厚度方向為水平方向的方式保持被處理基板2 的機(jī)構(gòu)，并包括能夠安裝被處理基板2的裝卡部11和轉(zhuǎn)軸12。裝卡部11設(shè)置在轉(zhuǎn)軸12的 端部上，通過將被處理基板2的中心開口部嵌入在裝卡部11上使被處理基板2被固定，并 且被處理基板2在與轉(zhuǎn)軸12 —體化狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3如圖2所示使由保持機(jī)構(gòu)3保持的被處理基板2沿周向(在本實 施方式中，使一個主面2a沿順時針方向旋轉(zhuǎn))旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3如圖3所示具備主軸 電動機(jī)8、主軸電動機(jī)8的驅(qū)動軸即主軸9、安裝在主軸9的頂端上的帶輪10。主軸9和保 持機(jī)構(gòu)3a的轉(zhuǎn)軸12連動地旋轉(zhuǎn)。因而，在圖3所示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3中，一旦主軸電動機(jī) 8被驅(qū)動，則轉(zhuǎn)軸12被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，由轉(zhuǎn)軸12保持的被處理基板2對應(yīng)著主軸電動機(jī)8的旋 轉(zhuǎn)方向和轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b是沿水平方向延伸 的臂。如圖4所示，第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a支撐第一涂液用噴嘴18a和第一頭清洗 液用噴嘴19a，第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b支撐第二涂液用噴嘴18b和第二頭清洗液用噴 嘴19b。在第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b的頂端部上分別 形成有安裝部16a、16b。在第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a的安裝部16a的與被處理基板2 對向配置的面上，安裝有第一涂液用噴嘴18a和第一頭清洗液用噴嘴19a。另外，在第二涂 液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b的安裝部16b上，安裝了第二涂液用噴嘴18b和第二頭清洗液用噴 嘴 19b。第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a使第一涂液用噴嘴18a在被處理基板2的一個主 面2a上沿被處理基板2的厚度方向(圖4中的左右方向)移動，并一邊使第一涂液用噴嘴 18a與被處理基板2的一個主面2a分離(隔開)一邊沿著一個主面2a在被處理基板2的 徑向即水平方向(圖2中左右方向、圖4中上下方向)移動。另外，第二涂液用噴嘴移動機(jī) 構(gòu)17b使第二涂液用噴嘴18b在被處理基板2的另一主面2b上沿被處理基板2的厚度方 向(圖4中的左右方向)移動，并一邊使第二涂液用噴嘴18b與被處理基板2的另一主面 2b分離一邊沿著另一主面2b在被處理基板2的徑向即水平方向(圖2中左右方向、圖4中 上下方向)移動。如圖4所示，第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b和第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a相對 于被處理基板2的厚度中心面對稱配置，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b利用 第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b和第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a，相對于被處理基板2的厚度 中心面對稱地連動運動。第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b朝向被處理基板2的兩個主面2a、2b同時噴出涂液。第一涂液用噴嘴18a朝向被處理基板2的一個主面2a噴出涂液，第二涂液 用噴嘴18b朝向被處理基板2的另一主面2b噴出涂液。利用圖2所示的涂液供給構(gòu)件20， 涂液被供給到第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b。涂液供給構(gòu)件20具備涂液用容器20a、對第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴 18b以及涂液用容器20a進(jìn)行連接的涂液用配管20b、和涂液用閥20c。利用涂液用閥20c 的開閉操作，對來自第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的涂液噴出量、涂液噴出時 間、噴出次數(shù)等進(jìn)行控制。涂液可以例舉將由紫外線固化型的丙烯酸酯樹脂等的紫外線固化型樹脂等構(gòu)成 的各種抗蝕劑溶解在溶劑后的溶液等。另外，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b在被處理基板2的內(nèi)周部噴出 的涂液量比在外周部噴出的涂液量多。使用圖5A和圖5B說明這種第一涂液用噴嘴18a和 第二涂液用噴嘴18b的例子。圖5A和5B是用于說明第一涂液用噴嘴18a和/或第二涂液用噴嘴18b所具有的 的涂液噴出口的形狀的視圖。而且，在圖5A和5B中，為了說明被處理基板2、與被處理基 板2對向的第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的涂液噴出口的形狀的對應(yīng)關(guān)系， 表示涂液噴出口的形狀(斜線部分)并表示與涂液噴出口對向配置的被處理基板2。在圖5A所示例中，4個涂液噴出口 32、33、34、35從與被處理基板2的外周部23對 向的位置朝向與內(nèi)周部22對向的位置并排排列。在圖5A所示例中，4個涂液噴出口 32、33、 34,35都是圓形，越靠外周部23側(cè)的涂液噴出口則面積越小，越靠內(nèi)周部22側(cè)的涂液噴出 口則面積越大。而且，在圖5A所示例中，雖然涂液噴出口的數(shù)量為4個，但從與被處理基板2的外 周部23對向的位置朝向與內(nèi)周部22對向的位置并排排列的涂液噴出口的數(shù)量為數(shù)個即 可，也可以為2個或3個，也可以為5個以上。另外，面積小的涂液噴出口與面積大的涂液噴 出口相比，能夠穩(wěn)定地供給涂液。因而，圖5A所示4個涂液噴出口 32、33、34、35的情況與 涂液噴出口的數(shù)量為1個且涂液噴出口的合計面積相同場合相比，能夠穩(wěn)定地供給涂液。另外，在圖5A所示例中，雖然各個涂液噴出口 32、33、34、35的形狀全是圓形以便 能夠穩(wěn)定地供給涂液，但涂液噴出口的形狀也可以不是圓形，例如，也可以是頂點朝向外周 部23方向且底邊朝向內(nèi)周部22方向配置的等腰三角形等，并不特別限定涂液噴出口的形 狀。而且，在圖5B所示例中，涂液噴出口 31為從與被處理基板2的外周部23對向的 位置朝向與內(nèi)周部22對向的位置沿被處理基板2的周向的寬度緩緩增大的形狀。在圖5B 所示例中，涂液噴出口 31的形狀為頂點朝向外周部23方向且底邊朝向內(nèi)周部22方向配置 的等腰三角形形狀。而且，在圖5A和5B所示例中，雖然通過使涂液噴出口的形狀變化，從而使噴出到 內(nèi)周部22的涂液量比噴出到被處理基板2的外周部23的涂液量多，但例如作為涂液噴出 口，也可以設(shè)置由噴出到外周部23的涂液噴出口和噴出到內(nèi)周部22的涂液噴出口構(gòu)成的 兩個面積相同的涂液噴出口，并通過使來自噴出到外周部23的涂液噴出口的涂液壓力比 來自噴出到內(nèi)周部22的涂液噴出口的涂液壓力低，使噴出到被處理基板2的內(nèi)周部22的 涂液量比噴出到被處理基板2的外周部23的涂液量多。
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第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b噴出用于洗凈第一涂液用噴 嘴18a和/或第二涂液用噴嘴18b的洗凈液即清洗液。第一、第二頭清洗液用噴嘴19a、19b 在與被處理基板2對向方向突出地安裝在第一、第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a、17b的安裝 部16a、16b上，如圖4所示，配置為相比第一、第二涂液用噴嘴18a、18b向與被處理基板2 對向方向伸出。另外，第一頭清洗液用噴嘴19a如圖6所示安裝在第一涂液用噴嘴18a的 上方，第二頭清洗液用噴嘴1%安裝在第二涂液用噴嘴18b的上方。因而，在利用第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴19b)洗凈第一涂液 用噴嘴18a(第二涂液用噴嘴18b)時，從第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴 19b)向下方噴出清洗液即可。另外，在利用第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴19b)洗凈第二涂液 用噴嘴18b(第一涂液用噴嘴18a)時，從第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴 19b)向前斜下方噴出清洗液即可。另外，在利用第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴19b)洗凈第一涂液 用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b時，從第一頭清洗液用噴嘴19a(第二頭清洗液用噴嘴 19b)向下方和前斜下方噴出清洗液即可。利用圖2所示清洗液供給構(gòu)件21，清洗液被供給到第一頭清洗液用噴嘴19a和第 二頭清洗液用噴嘴1%。清洗液采用溶解并除去涂液(和涂膜)的清洗液。具體地說，清洗液可以例舉丙 酮等。清洗液供給構(gòu)件21具備清洗液用容器21a、對第一頭清洗液用噴嘴19a以及第二 頭清洗液用噴嘴1%和清洗液用容器21a進(jìn)行連接的清洗液用配管21b、清洗液用閥21c。 如圖6所示，清洗液用配管21b相比清洗液用閥21c在第一、第二頭清洗液用噴嘴19a、19b 側(cè)的位置分支，并能分別向第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b供給清洗 液。而且，利用清洗用閥21c的開閉操作，對來自第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液 用噴嘴19b的清洗液噴出量和清洗液噴出時間進(jìn)行控制。另外，如圖2和圖6所示，清洗液用配管21b利用連接配管28a與涂液供給構(gòu)件20 的涂液用配管20b相連。切換用閥28連接在連接配管28a的涂液用配管20b側(cè)的端部上。 本實施方式的雙面涂布裝置1中，由切換切換用閥28，在涂布時向第一涂液用噴嘴18a和第 二涂液用噴嘴18b供給涂液。另外，在后述管路(，< > )清洗時，從切換用閥28，將清洗 液供給到第一、第二涂液用噴嘴18a、18b側(cè)的涂液用配管20b和第一、第二涂液用噴嘴18a、 18b。另外，清洗液供給構(gòu)件21具備從清洗液用配管21b分支并與容器41相連接的分 支配管21d和清洗液閥21e，用于將清洗液供給到后述邊緣清洗構(gòu)件40的容器41內(nèi)。利用 清洗液閥21e的開閉操作，對向容器41的清洗液的供給量進(jìn)行控制。如圖2和4所示，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b利用第一涂液用噴 嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b的移動，在涂布時接近被處理基板2，在裝 卸被處理基板2時、和對第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b進(jìn)行洗凈時，離開被處 理基板2。更詳細(xì)地說，在涂布時，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b，使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動，并使第一涂液用噴嘴18a 相對于被處理基板2的一個主面2a的位置、和第二涂液用噴嘴18b相對于被處理基板2的 另一主面2b的位置配置在規(guī)定位置。這樣一來，如圖2和圖6所示，第一涂液用噴嘴18a 和第二涂液用噴嘴18b靠下夾著旋轉(zhuǎn)的被處理基板2并相對于被處理基板2的厚度中心面 對稱配置。因而，本實施方式的雙面涂布裝置1通過從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴 嘴18b向被處理基板2同時噴出涂液，涂液在同一時間被供給到被處理基板2的兩個主面 2a、2b的相同位置上。另外，在裝卸被處理基板2時，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴 嘴移動機(jī)構(gòu)17b，使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避到設(shè)置在被處理基板收 容部6上的頭清洗部6b內(nèi)。另外，在從第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b噴出清洗液時，能 夠使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b在頭清洗部6b內(nèi)移動。這樣一來，在頭清 洗部6b內(nèi)，通過從第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b噴出清洗液，能夠 防止由第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的洗凈和后述管路清洗所產(chǎn)生的排液在 被處理基板收容部6的主體6a內(nèi)飛濺。而且，在本實施方式中，雖然以具備支撐第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴 18b并使其移動的第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b的雙面涂 布裝置1為例進(jìn)行說明，但如果不使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動，就能 裝卸被處理基板2，則也可以不具備第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動 機(jī)構(gòu)17b。此時，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b能夠固定在被處理基板收容部 6的主體6a內(nèi)的規(guī)定位置上。邊緣清洗構(gòu)件40用于除去(邊緣清洗)附著在涂布有涂液的被處理基板2的兩 個主面2a、2b的外緣部上的多余涂液。如圖2 4所示，邊緣清洗構(gòu)件40具備收容清洗液 的容器41。如圖4所示，在容器41的上面形成有開口部41a，清洗液的液面從容器41的上 面露出。如圖4所示，容器41的開口部41a在被處理基板2的厚度方向上的寬度比被處理 基板2的厚度大。清洗液由圖2所示的清洗液供給構(gòu)件21被供給到容器41內(nèi)。另外，如圖2所示， 具備排液容器25d、對容器41和排液容器25d進(jìn)行連接的排液配管25e和排液閥25f的排 液構(gòu)件25g與容器41相連接。另外，邊緣清洗構(gòu)件40包括作為沿水平方向延伸的臂并支撐容器41、使容器41沿 水平方向和上下方向移動的容器移動機(jī)構(gòu)42。如圖2所示，邊緣清洗構(gòu)件40的容器41利 用容器移動機(jī)構(gòu)42在邊緣清洗時接近被處理基板2，在裝卸被處理基板2時或涂布時，離開 被處理基板2。更詳細(xì)地說，在邊緣清洗時，利用容器移動機(jī)構(gòu)42，使容器41從被處理基板收容 部6的外面向主體6a內(nèi)移動，如圖2 4所示，將容器41配置在旋轉(zhuǎn)著的被處理基板2的 外緣部從下側(cè)浸漬在清洗液內(nèi)的位置。這樣一來，被處理基板2的兩個主面2a、2b的外緣 部浸漬在清洗液內(nèi)，將附著在被處理基板2的外緣部上的多余涂液除去。另外，在裝卸被處理基板2時，利用容器移動機(jī)構(gòu)42，能夠使容器41退避到被處理
19基板收容部6的外面。因而，容器41不使裝卸被處理基板2時的操作性低下，能夠輕易地 進(jìn)行被處理基板2的裝卸。另外，在涂布時，能夠使容器41在被處理基板收容部6的主體6a內(nèi)的被處理基板 2的附近待機(jī)。在此所謂的被處理基板2的附近意味著被處理基板2和清洗液的液面之間 的距離為0. 5cm IOcm的范圍。如果被處理基板2和清洗液的液面之間的距離比上述范 圍小，則清洗液容易被涂布時飛濺的涂液污染，因此不優(yōu)選。另外，如果被處理基板2和清 洗液的液面之間的距離比上述范圍小，則在進(jìn)行邊緣清洗時，在不適合的涂布時的轉(zhuǎn)速下， 被處理基板2和清洗液的液面會接觸，不能進(jìn)行精度優(yōu)異的涂布和邊緣清洗。另外，如果被 處理基板2和清洗液的液面之間的距離比上述范圍大，則在涂布結(jié)束后至開始邊緣清洗為 止期間，存在不能使容器41移動到規(guī)定的位置的情況。在涂布時，通過使容器41在被處理基板收容部6的主體6a內(nèi)待機(jī)，在涂布后所進(jìn) 行的邊緣清洗時，能夠縮短容器41的移動距離和移動時間。而且，在涂布時與裝卸被處理 基板2時同樣，容器41也可以退避到被處理基板收容部6外。此時，能夠防止清洗液被涂 布時飛濺的涂液污染。吸引構(gòu)件43具備吸引部43a，其由吸引在被處理基板2的邊緣清洗時產(chǎn)生的清洗 液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴，同時通過吸引邊緣清洗時裝置內(nèi)的氣體來控制邊緣清洗時裝置內(nèi) 的氣體流動。如圖4所示，在吸引部43a的被處理基板2的厚度方向中心部上形成有包括槽的 縫隙43b。在縫隙43b內(nèi)設(shè)置有與吸引裝置相連接的吸引口(圖中省略)。這樣一來，能夠 更有效地防止在被處理基板2的邊緣清洗時產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴飛濺并 附著在被處理基板2上，同時能夠使邊緣清洗時氣體針對被處理基板2的流動更有效地穩(wěn)定化。作為吸引裝置，可用任何裝置，只要能夠吸引在被處理基板2的邊緣清洗時產(chǎn)生 的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴并同時能夠吸收在邊緣清洗時的裝置內(nèi)的氣體即可，優(yōu)選 使用吸引力為1 IOm3/分鐘的吸引裝置。另外，吸引裝置通過排液用配管(圖中省略)與排液容器(圖中省略)相連接。而 且，吸引裝置上也可以連接有與邊緣清洗構(gòu)件40的容器41相連接的排液構(gòu)件25g。另外，如圖2和圖4所示，縫隙43b的底部即與被處理基板2的側(cè)面對向的內(nèi)壁面 43c截面上看為圓弧狀，在被邊緣清洗的被處理基板2被夾在縫隙43b內(nèi)時，被處理基板2 的側(cè)面和內(nèi)壁面43c的距離為等間距。這樣一來，能夠使邊緣清洗時氣體針對被處理基板 2的流動更有效地穩(wěn)定化。另外，圖4所示吸引部43a的被處理基板2的側(cè)面?zhèn)鹊耐獗?3d，如圖2所示，從被 處理基板2的主面?zhèn)瓤吹降膶挾葟纳舷蛳轮饾u變大，吸引部43a的下面與容器41對向。這 樣一來，吸引部43a能夠有效地防止邊緣清洗構(gòu)件40產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴 的飛濺。另外，吸引構(gòu)件43具備支撐吸引部43a并使吸引部43a在水平方向和上下方向移 動的吸引部移動機(jī)構(gòu)44。在本實施方式中，如圖2所示，吸引部移動機(jī)構(gòu)44被固定在容器 移動機(jī)構(gòu)42上而與容器移動機(jī)構(gòu)42 —體化，吸引部移動機(jī)構(gòu)44與容器移動機(jī)構(gòu)42連動 地移動。因而，在本實施方式中，邊緣清洗構(gòu)件40和吸引構(gòu)件43在被一體化狀態(tài)下移動，不會通過移動而使邊緣清洗構(gòu)件40和吸引構(gòu)件43的位置關(guān)系偏離。在被一體化的邊緣清 洗構(gòu)件40和吸引構(gòu)件43中，如圖4所示，容器41的開口部41a的在被處理基板2的厚度 方向上的寬度的中心、與縫隙43b的在被處理基板2的厚度方向上的寬度中心位置一致。而且，雖然吸引部移動機(jī)構(gòu)44與容器移動機(jī)構(gòu)42也可以一體化，但也可以分開設(shè)置。在本實施方式中，如圖2所示，吸引構(gòu)件43的吸引部43a利用吸引部移動機(jī)構(gòu) 44 (容器移動機(jī)構(gòu)42)在邊緣清洗時接近被處理基板2，在裝卸被處理基板2時或涂布時， 離開被處理基板2。更詳細(xì)地說，在邊緣清洗時，利用吸引部移動機(jī)構(gòu)44 (容器移動機(jī)構(gòu)42)，使吸引 部43a與邊緣清洗構(gòu)件40 —起從被處理基板收容部6的外面向主體6a內(nèi)移動，使吸引部 43a與邊緣清洗構(gòu)件40相鄰并配置在邊緣清洗構(gòu)件40的被處理基板2的旋轉(zhuǎn)方向(圖2 中的順時針方向)側(cè)的位置，并使被處理基板2夾入到吸引部43a的縫隙43b之內(nèi)。這樣 一來，被處理基板2的邊緣清洗時產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴能夠由吸引部43a 吸引，同時邊緣清洗時裝置內(nèi)的氣體能夠由吸引部43a吸引。因而，能夠減少因由清洗液構(gòu) 成的霧狀微細(xì)液滴附著在被處理基板2上而產(chǎn)生的不良，同時對氣體在邊緣清洗順時針對 被處理基板2的流動進(jìn)行控制，能夠在穩(wěn)定的氣體環(huán)境下進(jìn)行邊緣清洗。另外，在裝卸被處理基板2時，由吸引部移動機(jī)構(gòu)44 (容器移動機(jī)構(gòu)42)，使吸引部 43a與邊緣清洗構(gòu)件40 —起退避到被處理基板收容部6的外面。因而，吸引部43a不使裝 卸被處理基板2時的操作性低下，能夠輕易地進(jìn)行被處理基板2的裝卸。另外，在涂布時，使吸引部43a與邊緣清洗構(gòu)件40 —起在被處理基板收容部6的 主體6a內(nèi)的被處理基板2的附近待機(jī)。這樣一來，在涂布后所進(jìn)行的邊緣清洗時，能夠縮 短吸引部43a的移動距離和移動時間?！措x散磁記錄介質(zhì)的制造〉以下，舉例說明將使用圖2所示雙面涂布裝置1的涂液的雙面涂布方法適用于圖 1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造方法中的抗蝕層的形成工序的場合。圖7 圖9是用于說明圖1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造工序的工序圖。另外，圖 IOA和IOB是用于說明圖2所示雙面涂布裝置1的動作的視圖，是從被處理基板2的一個主 面2a側(cè)看到的正視圖。在制造圖1所示離散磁記錄介質(zhì)時，首先，在具有中心開口部的非磁性基板101的 兩個主面上，采用常規(guī)方法形成由軟磁性層和中間層等構(gòu)成的基底層102。其次，在基底層 102上形成磁性層103。磁性層103例如由濺射法等成膜法作為薄膜形成在基底層102的 上面的整個區(qū)域內(nèi)。這樣一來，如圖7所示，構(gòu)成形成有基底層102和磁性層103的非磁性 基板101。然后，在圖7所示的磁性層103的整個表面區(qū)域內(nèi)形成抗蝕層。在此抗蝕層的形 成中，以圖7所示的形成有基底層102和磁性層103的非磁性基板101為被處理基板2，使 用圖2所示的雙面涂布裝置1像下述那樣操作。首先，如圖2所示，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu) 17b，使構(gòu)成雙面涂布裝置1的第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避到被處理基 板收容部6上所設(shè)置的頭清洗部6b內(nèi)。另外，如圖2所示，利用容器移動機(jī)構(gòu)42 (吸引部移動機(jī)構(gòu)44)，使容器41和吸引部43a退避到被處理基板收容部6的外面。其次，將被處理基板2的中心開口部安裝在保持機(jī)構(gòu)3a的裝卡部11上，以被處理 基板2的厚度方向為水平方向的方式將被處理基板2固定在保持機(jī)構(gòu)3a上。由此被處理基板2和轉(zhuǎn)軸12 —體化。然后，進(jìn)行涂液在被處理基板2的一個主面2a和另一主面2b上的涂布。首先，驅(qū) 動旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3的主軸電動機(jī)8，使被處理基板2的一個主面2a沿順時針方向旋轉(zhuǎn)。雖 然在此被處理基板2的轉(zhuǎn)速沒有特別限定，但為了能夠充分遏制重力對被供給到被處理基 板2上的涂液的影響，并獲得具有均勻充分的膜厚的涂膜，涂布時的被處理基板2的轉(zhuǎn)速優(yōu) 選為數(shù)百 lOOOrpm。然后，如圖IOA所示，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī) 構(gòu)17b，使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動，第一涂液用噴嘴18a和第二涂 液用噴嘴18b以夾著被處理基板2的方式相對于被處理基板2的厚度中心面對稱配置。另 外，由吸引部移動機(jī)構(gòu)44 (容器移動機(jī)構(gòu)42)，使邊緣清洗構(gòu)件40和吸引部43a從被處理基 板收容部6的外面移動至主體6a內(nèi)被處理基板2的附近。然后，打開涂液用閥20c，從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b，朝向從上 向下在第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b之間旋轉(zhuǎn)的被處理基板2的一個主面2a 和另一主面2b噴出涂液，并使涂液在被處理基板2的兩個主面2a、2b上擴(kuò)展。其次，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b，使第一 涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避到被處理基板收容部6上所設(shè)置的頭清洗部6b 內(nèi)。然后，使被處理基板2的轉(zhuǎn)速為4000 5000rpm左右，將附著在被處理基板2上 的多余涂液振落，從而均勻化。另外，退避后的第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b根據(jù)需要，在頭清洗部 6b內(nèi)洗凈。希望例如每對一個被處理基板2進(jìn)行涂布后就對第一涂液用噴嘴18a和第二涂 液用噴嘴18b進(jìn)行洗凈。第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的洗凈通過從第一頭清洗液用噴嘴 19a和/或第二頭清洗液用噴嘴19b噴出清洗液來進(jìn)行。雖然通過從對向側(cè)的頭清洗液用 噴嘴噴出清洗液(即只要是第一涂液用噴嘴18a，就從第二頭清洗液用噴嘴19b噴出清洗 液)進(jìn)行第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的洗凈，針對第一、第二涂液用噴嘴 18a、18b，從前斜上方供給清洗液能夠有效地洗凈，因此優(yōu)選采用此種方式，但也可以從同 側(cè)的頭清洗液用噴嘴(即若是第一涂液用噴嘴18a，就從第一頭清洗液用噴嘴19a噴出清洗 液)向下噴出清洗液，也可以采用上述雙方進(jìn)行。通過進(jìn)行第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的洗凈，能夠防止第一涂液 用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的堵塞，能夠防止因涂液或涂膜附著在第一涂液用噴嘴 18a和第二涂液用噴嘴18b上而導(dǎo)致的噴出量的偏差。另外，在本實施方式中，優(yōu)選每涂布數(shù)個 數(shù)十個被處理基板2，就切換切換用閥 28。實施對相比切換用閥28靠第一、第二涂液用噴嘴18a、18b側(cè)的涂液用配管20b以及第 一、第二涂液用噴嘴18a、18b進(jìn)行洗凈的管路清洗(涂液用配管洗凈工序)。管路清洗優(yōu)選 在長期停止使用雙面涂布裝置1前或長期停止使用雙面涂布裝置1后進(jìn)行。
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通過進(jìn)行管路的清洗，能夠防止因涂液或涂膜附著在相比切換用閥28靠第一、第 二涂液用噴嘴18a、18b側(cè)的涂液用配管20b與第一、第二涂液用噴嘴18a、18b上而導(dǎo)致的 噴出量的偏差。而且，在本實施方式中，雖然在使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動 前，開始被處理基板2的旋轉(zhuǎn)，但也可以在第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動 后，再開始被處理基板2的旋轉(zhuǎn)，達(dá)到規(guī)定轉(zhuǎn)速后，從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴 嘴18b噴出涂液。另外，雖然在使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避后，若要 振落附著在被處理基板2上的多余涂液，則能夠防止附著在被處理基板2上的多余涂液附 著到第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b上，因此希望這樣，但也可以將多余涂液振 落后，再使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避。另外，如圖IOB所示，也可以不 使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避，就進(jìn)行邊緣清洗，在邊緣清洗結(jié)束后， 再使第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b退避。然后，除去附著在被處理基板2的外緣部上的多余涂液(邊緣清洗)，邊緣清洗時 的被處理基板2的轉(zhuǎn)速優(yōu)選為500 3000rpm左右。如果邊緣清洗時的被處理基板2的轉(zhuǎn) 速沒有達(dá)到上述范圍，則有時因表面張力和重力，清洗液侵入被處理基板2的內(nèi)部，另外， 有時引起清洗液的液流掛(液^Λ)。另外，如果邊緣清洗時的被處理基板2的轉(zhuǎn)速超出上 述范圍，則有時在被處理基板2和清洗液接觸時，清洗液產(chǎn)生液飛濺(液(i ft )，飛濺后的清 洗液附著在被處理基板2的表面上，在其附著位置上，產(chǎn)生抗蝕劑的溶解。另外，在結(jié)束涂液噴出后至開始邊緣清洗(將被處理基板2的外緣部浸漬在清洗 液內(nèi))為止期間的時間優(yōu)選為1秒 10分鐘左右。如果結(jié)束涂液噴出后至開始邊緣清洗 為止的時間比上述范圍短，則在至開始邊緣清洗為止期間，存在不能使第一涂液用噴嘴18a 和第二涂液用噴嘴18b退避的情況。另外，清洗液的液面因容器41的移動而振動，如果至 開始邊緣清洗為止的時間比上述范圍短，則由容器41的移動導(dǎo)致的清洗液的液面振動未 平靜，清洗液的液面狀態(tài)不穩(wěn)定。再者，如果至開始邊緣清洗為止的時間比上述范圍短，則 存在涂液殘存在被處理基板收容部6內(nèi)的情況。另外，如果結(jié)束涂液噴出后至開始邊緣清 洗為止的時間比上述范圍長，則存在涂液進(jìn)一步干燥，變得難以除去多余涂液的情況。邊緣清洗采用下述方式實施，即利用吸引部移動機(jī)構(gòu)44 (容器移動機(jī)構(gòu)42)使邊 緣清洗構(gòu)件40和吸引部43a從被處理基板收容部6的外面移動到主體6a內(nèi)，使容器41配 置在旋轉(zhuǎn)的被處理基板2的下側(cè)外緣部的例如0. Imm 0. 2mm浸漬在清洗液內(nèi)的位置，并 將吸引部43a配置在邊緣清洗構(gòu)件40的被處理基板2的旋轉(zhuǎn)方向側(cè)的位置且與邊緣清洗 構(gòu)件40相鄰，來將被處理基板2夾在吸引部43a的縫隙43b內(nèi)。由此，被處理基板2的外 緣部被浸漬在清洗液內(nèi)，附著在被處理基板2的兩個主面2a、2b上的多余涂液被同時除去。 另外，邊緣清洗時產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴和邊緣清洗時裝置內(nèi)的氣體由吸引 部43a吸引。從開始邊緣清洗至結(jié)束清洗為止的時間(使被處理基板2的一部分浸漬在清洗液 內(nèi)的時間)優(yōu)選為1秒 10秒左右。如果從開始邊緣清洗后至結(jié)束為止的時間不到1秒， 則存在不能將附著在被處理基板2的外緣部上的多余涂液充分除去的情況，另外，如果從 開始邊緣清洗后至結(jié)束為止的時間超過10秒，則不能提高邊緣清洗的效果，工藝性低下， 不優(yōu)選。
然后，利用容器移動機(jī)構(gòu)42 (吸引部移動機(jī)構(gòu)44)，使容器41和吸引部43a退避到 被處理基板收容部6外。上述那樣形成有抗蝕層106的非磁性基板101的截面構(gòu)造在圖8中表示。然后，如圖9所示，以與磁記錄圖形對應(yīng)的平面形狀對抗蝕層106進(jìn)行圖形形成， 形成抗蝕圖形107。作為對抗蝕層106進(jìn)行圖形形成的方法，能夠使用使壓模(stamper)從上方直接 緊貼在抗蝕層106上并在高壓下進(jìn)行沖壓的方法等。另外，作為抗蝕劑，在使用紫外線固化 型樹脂的情況下，也可以采用光刻法技術(shù)進(jìn)行圖形圖形形成。在對抗蝕層106進(jìn)行圖形形成時所使用的壓模例如能夠使用采用電子束描繪等 方法在金屬板上形成有微細(xì)的磁道圖形(卜，7々〃夕_ > )的壓模。具體地說，例如，作 為壓模等可以使用鎳壓模等。除了普通的記錄數(shù)據(jù)的磁道之外，在壓模上也可形成被稱作 脈沖圖形(K - 7卜"夕- > )、反射碼圖形(夕’l· 4 二 - F “- > )、前置碼圖形(-J Τ" > "夕- > )的伺服信號的圖形。然后，對沒有形成抗蝕圖形107的區(qū)域的磁性層103的磁性進(jìn)行改性，形成作為磁 性層103的磁性被改性后的非磁性部即改性部104，形成磁分離磁記錄圖形的區(qū)域。磁性層103的磁性改性能夠通過將在磁性層103上形成有抗蝕圖形107的非磁 性基板101 (暴露于反應(yīng)性等離子體來進(jìn)行。反應(yīng)性等離子體能夠例舉電感耦合等離子體 (ICP Jnductively Coupled Plasma)(RIE :Reactive Ion Plasma)寸。然后，除去抗蝕圖形107。抗蝕圖形107的除去可以采用干刻、反應(yīng)性離子蝕刻、離 子銑削、濕式蝕刻等方法進(jìn)行。然后，在磁性層103上形成保護(hù)膜105和潤滑劑層。保護(hù)膜105—般通過采用 P-CVD法等成膜金剛石狀碳(Diamond like carbon 金剛石狀碳)的薄膜的方法等形成。 另外，潤滑劑層例如能夠通過將含有潤滑劑的溶液涂布在保護(hù)膜105的表面上后再進(jìn)行干 燥來形成。在這種離散磁記錄介質(zhì)的制造方法中，在磁性層103的表面上形成與磁記錄圖形 一致的抗蝕圖形107，由反應(yīng)性等離子體對其表面處理后，除去抗蝕圖形107并按順序形成 保護(hù)層105和潤滑材料，來制造磁記錄介質(zhì)。在圖1所示的磁記錄介質(zhì)100中，磁分離的磁 記錄圖形是在非磁性基板101上不形成凹凸而獲得的，因此表面的平滑性優(yōu)異，能夠?qū)崿F(xiàn) 磁頭的低懸浮化。而且，離散磁記錄介質(zhì)的制造方法并不局限于上述方法，例如，也可以使用下述方法。即，也可以在磁性層上形成保護(hù)層，使用本發(fā)明的雙面涂布裝置在其表面上形成 與磁記錄圖形一致的抗蝕圖形，然后，進(jìn)行由反應(yīng)性等離子體實施的磁性層的改性處理。在 這種方法中，在反應(yīng)性等離子體處理后，無需形成保護(hù)膜，能夠提高工藝性并減少磁記錄介 質(zhì)的制作工序中的污染。而且，本發(fā)明人們確認(rèn)，即使在磁性層的表面上形成保護(hù)膜后，仍 能使磁性層和反應(yīng)性等離子體產(chǎn)生反應(yīng)。本實施方式的雙面涂布裝置1具備以被處理基板2的厚度方向為水平方向的方式 保持被處理基板2的保持機(jī)構(gòu)3a、使被處理基板2沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3、將涂液噴
24出到被處理基板2的一個主面2a上的第一涂液用噴嘴18a、將涂液噴出到被處理基板2的 另一主面2b上的第二涂液用噴嘴18b。第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b相對 于被處理基板2的厚度中心面對稱配置，因此通過從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴 嘴18b同時向被處理基板2噴出涂液，能夠?qū)⑼恳和瑫r供給到被處理基板2的兩個主面2a、 2b中的相同位置。從而，根據(jù)本實施方式的雙面涂布裝置1，在對被處理基板2的一個主面 2a涂布和對另一主面2b涂布中不存在因重力引起的差異，也不存在因涂布位置而引起的 差異，能夠在被處理基板2的兩面上均勻地涂布涂液，能夠在被處理基板2的兩面上形成均 勻的涂膜。另外，在本實施方式的雙面涂布裝置1中，由于第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用 噴嘴18b向被處理基板2的內(nèi)周部22和外周部23噴出涂液，因此例如，與第一涂液用噴嘴 18a和第二涂液用噴嘴18b僅向內(nèi)周部22噴出涂液的場合相比，涂液在被處理基板2的兩 個主面2a、2b上的擴(kuò)散時間短，能夠高速涂布。另外，在本實施方式的雙面涂布裝置1中，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴 18b向被處理基板2的內(nèi)周部22噴出的涂液量比向外周部23噴出的涂液量多，因此在被處 理基板2的兩個主面2a、2b上擴(kuò)散涂液時，從被處理基板2振落的涂液量少，例如與第一涂 液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b向被處理基板2的內(nèi)周部22和外周部23噴出相同量 的涂液情況相比，能夠減少在涂膜的膜厚相同情況下所使用的涂液量。另外，被噴出到內(nèi)周 部22上并由被處理基板2的旋轉(zhuǎn)而擴(kuò)散的涂液和被噴出到外周部23的涂液成為被供給到 被處理基板2的外周部23的涂液，因此能夠向外周部23供給充足的涂液，能夠確保與內(nèi)周 部22的涂膜相比容易變薄的外周部23的涂膜的厚度，能夠提高被處理基板2的內(nèi)周部22 和外周部23中的膜厚均勻性。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1具備第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a，其支撐 第一涂液用噴嘴18a，并邊使第一涂液用噴嘴18a離開被處理基板2的一個主面2a邊使第 一涂液用噴嘴18a沿該一個主面2a在被處理基板2的徑向移動；第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu) 18b，其支撐第二涂液用噴嘴18b，邊使第二涂液用噴嘴18b離開被處理基板2的另一主面 2b邊使第二涂液用噴嘴18b沿另一主面2b在被處理基板2的徑向移動，因此在裝卸被處理 基板2時，利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b，能夠使第一 涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b移動退避。因而，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液 用噴嘴18b不使裝卸被處理基板2時的操作性低下，能夠輕易地進(jìn)行被處理基板2的裝卸。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1具備以被處理基板2的厚度方向為水平方向 的方式保持被處理基板2的保持機(jī)構(gòu)3a ；使被處理基板2沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3 ；包 括將涂液同時噴出到被處理基板2的兩個主面2a、2b上的第一涂液用噴嘴18a和第二涂液 用噴嘴18b的涂液用噴嘴；將附著在涂布了涂液的被處理基板2的兩個主面2a、2b的外緣 部上的涂液除去的邊緣清洗構(gòu)件40。邊緣清洗構(gòu)件40具備收容清洗液的容器41，清洗液 的液面從容器41的上面露出，并將容器41配置在旋轉(zhuǎn)著的被處理基板2的外緣部能夠浸 漬在清洗液內(nèi)的位置，因此對被處理基板2的兩個主面2a、2b同時涂布涂液后，能夠?qū)Ρ惶?理基板2的兩個主面2a、2b同時進(jìn)行邊緣清洗，涂布涂液后至進(jìn)行邊緣清洗為止的時間在 被處理基板2的兩個主面2a、2b上是一定的。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1能夠?qū)Ρ惶幚砘?的兩個主面2a、2b進(jìn)行涂布和清洗，因此能夠減少用于進(jìn)行涂布和邊緣清洗的空間。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1對被處理基板2的兩個主面2a、2b同時涂布 涂液后，對被處理基板2的兩個主面2a、2b同時進(jìn)行邊緣清洗，因此，能夠在短時間內(nèi)高效 地進(jìn)行涂布和邊緣清洗。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1的涂液用噴嘴包括將涂液噴出到被處理基板 2的一個主面2a上的第一涂液用噴嘴18a、和將涂液噴出到被處理基板2的另一主面2b上 的第二涂液用噴嘴18b，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b相對被處理基板2的厚 度中心面對稱配置，因此通過從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b向被處理基板2 同時噴出涂液，能夠向被處理基板2的兩個主面2a、2b上的相同位置同時供給涂液。因而， 根據(jù)本實施方式的雙面涂布裝置1，在對被處理基板2的一個主面2a的涂布和對另一主面 2b的涂布中不存在因重力引起的差異，也不存在因涂布位置而引起的差異，能夠在被處理 基板2的兩面上均勻地涂布涂液，能夠在被處理基板2的兩面上形成均勻的涂膜。因而，被 處理基板2的兩個主面2a、2b上的涂膜的差別變小。在同一時間相同條件下對被處理基板 2的兩個主面2a、2b的外緣部進(jìn)行清洗時，兩個主面2a、2b上的邊緣清洗效果差別變小，因 此容易實現(xiàn)進(jìn)行邊緣清洗時的條件的最優(yōu)化，在最優(yōu)條件下能夠輕易、可靠、高效地進(jìn)行邊 緣清洗。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1配置有與邊緣清洗構(gòu)件40相鄰并對由清洗液 構(gòu)成的液滴進(jìn)行吸引的吸引部43a，因此被處理基板2的邊緣清洗時所產(chǎn)生的由清洗液構(gòu) 成的霧狀微細(xì)液滴能夠被吸引部43a吸引，同時邊緣清洗時裝置內(nèi)的氣體也能夠由吸引部 43a吸引。因而，能夠減少因由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴附著在被處理基板2上而產(chǎn)生的 不良，并能控制邊緣清洗時氣體相對被處理基板2的流動，并在穩(wěn)定的氣體氣氛下進(jìn)行邊 緣清洗。另外，在本實施方式的雙面涂布裝置中，由于吸引部43a配置于在被處理基板2的 邊緣清洗時由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴容易飛濺的容器41的被處理基板2的旋轉(zhuǎn)方向 側(cè)的位置，因此邊緣清洗時產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的液滴能夠更高效地被吸引部43a吸引。本實施方式的雙面涂布裝置1具備以被處理基板2的厚度方向為水平方向的方 式保持被處理基板2的保持機(jī)構(gòu)3a ；使被處理基板2沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)3 ；將涂液 噴出到被處理基板2的兩個主面2a、2b上的第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b ； 噴出清洗液來對第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b進(jìn)行洗凈的第一頭清洗液用噴 嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b，因此從第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b向被 處理基板2噴出涂液后，能夠從第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b噴出 清洗液來對第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b進(jìn)行洗凈。因而，能夠防止第一涂 液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b堵塞，并能夠防止因涂液或涂膜附著在第一涂液用噴 嘴18a和第二涂液用噴嘴18b上所導(dǎo)致的噴出量的偏差，在即使對多個被處理基板2進(jìn)行 涂布的情況下，涂布量偏差小且能夠高精度地控制涂布量。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1的涂液用噴嘴包括將涂液噴出到被處理基板 2的一個主面2a上的第一涂液用噴嘴18a、和將涂液噴出到被處理基板2的另一主面2b上 的第二涂液用噴嘴18b，第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b相對被處理基板2的厚 度中心面對稱配置，頭清洗液用噴嘴包括設(shè)置在第一涂液用噴嘴18a的上方并與第一涂液用噴嘴18a相鄰的第一頭清洗液用噴嘴19a、和設(shè)置在第二涂液用噴嘴18b的上方并與第二 涂液用噴嘴18b相鄰的第二頭清洗液用噴嘴19b，因此第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴 嘴18b的洗凈可以從對向側(cè)的頭清洗液用噴嘴噴出清洗液進(jìn)行，也可以從同側(cè)的頭清洗液 用噴嘴向下方噴出清洗液進(jìn)行，也可以同時使用上述兩種方式進(jìn)行，能夠適當(dāng)選擇最適合 的方法進(jìn)行。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1具備第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂 液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b。第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a支撐第一涂液用噴嘴18a和第一頭 清洗液用噴嘴19a，并邊使第一涂液用噴嘴18a離開被處理基板2的一個主面2a邊使第一 涂液用噴嘴18a沿一個主面2a在被處理基板2的徑向移動；第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b 支撐第二涂液用噴嘴18b和第二頭清洗液用噴嘴19b，并邊使第二涂液用噴嘴18b離開被處 理基板2的另一主面2b邊使第二涂液用噴嘴18b沿另一主面2b在被處理基板2的徑向移 動，因此利用第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17a和第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)17b，能夠使第一、 第二涂液用噴嘴18a、18b以及第一、第二頭清洗液用噴嘴19a、19b退避到設(shè)置在被處理基 板收容部6上的頭清洗部6b內(nèi)等，并能進(jìn)行第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的 洗凈。從而，能夠防止由第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的洗凈所產(chǎn)生的排液 在被處理基板收容部6的主體6a內(nèi)飛濺。另外，本實施方式的雙面涂布裝置1具備向第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴 嘴18b供給涂液的涂液供給構(gòu)件20、和向第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴 19b供給清洗液的清洗液供給構(gòu)件21，涂液供給構(gòu)件20具備對第一涂液用噴嘴18a和第二 涂液用噴嘴18b以及涂液用容器20a進(jìn)行連接的涂液用配管20b。清洗液供給構(gòu)件21具備 對第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗液用噴嘴19b以及清洗液用容器21a進(jìn)行連接的 清洗液用配管21b，清洗液用配管21b由連接配管28a與涂液用配管20b相連接，切換用閥 28連接在連接配管28a上，因此切換切換用閥28，能夠進(jìn)行對相比切換用閥28靠第一、第 二涂液用噴嘴18a、18b側(cè)的涂液用配管20b以及第一、第二涂液用噴嘴18a、18b洗凈的管 路清洗，能夠防止因涂液或涂膜附著在相比切換用閥28靠第一、第二涂液用噴嘴18a、18b 側(cè)的涂液用配管20b以及第一、第二涂液用噴嘴18a、18b上而導(dǎo)致的噴出量的偏差。另外，本實施方式的雙面涂布方法具備從第一頭清洗液用噴嘴19a和第二頭清洗 液用噴嘴19b噴出清洗液來洗凈第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b的涂液用噴嘴 洗凈工序，因此能夠防止第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b堵塞，并能夠防止因涂 液或涂膜附著在第一涂液用噴嘴18a和第二涂液用噴嘴18b上所導(dǎo)致的噴出量的偏差，在 即使對多個被處理基板進(jìn)行涂布的情況下，涂布量偏差小且能夠高精度地控制涂布量。<邊緣清洗裝置(雙面涂布裝置)>以下，作為本發(fā)明的邊緣清洗裝置的一個例子，對將涂液涂布在被處理基板的兩 個主面上且對兩個主面上涂布有涂液的被處理基板進(jìn)行邊緣清洗的雙面涂布裝置(邊緣 清洗裝置)和使用該裝置的邊緣清洗方法的一個實施方式進(jìn)行說明。圖2是用于說明本實施方式的雙面涂布裝置整體構(gòu)成的概略圖，是從被處理基板 的一個主面?zhèn)瓤吹降恼晥D。另外，圖3是表示圖2所示雙面涂布裝置的一部分的縱剖視 圖。圖4是表示圖2所示雙面涂布裝置的一部分的俯視圖。圖2 4所示的雙面涂布裝置1通過將涂液供給到環(huán)形圓盤狀的被處理基板2的
27一個主面2a和另一主面2b，并旋轉(zhuǎn)操作被處理基板2來將涂液在一個主面2a和另一主面 2b上擴(kuò)散，在被處理基板2的一個主面2a和另一主面2b上形成涂膜，并對兩個主面2a、2b 上涂布有涂液的被處理基板2進(jìn)行邊緣清洗。本實施方式的其他部分與和上述雙面涂布裝置的實施方式相關(guān)的記載相同。<離散磁記錄介質(zhì)的制造>以下，以將采用圖2所示雙面涂布裝置1進(jìn)行涂布和邊緣清洗的方法應(yīng)用于圖1 所示離散磁記錄介質(zhì)的制造方法中的抗蝕層的形成工序的情況為例進(jìn)行說明。圖6 圖8是用于說明圖1所示離散磁記錄介質(zhì)的制造工序的工序圖。另外，圖 9是用于說明圖2所示雙面涂布裝置1的動作的視圖，是從被處理基板2的一個主面2a側(cè) 看到的正視圖。關(guān)于將本實施方式的邊緣清洗裝置(雙面涂布裝置)和使用該裝置的邊緣清洗方 法應(yīng)用于抗蝕層的形成工序的情況的例子的詳細(xì)說明，與上述雙面涂布裝置的實施方式的 記載相同。然而，離散磁記錄介質(zhì)的制造方法并不局限于上述方法，例如，可以采用下述方法。S卩，也可以在磁性層上形成保護(hù)層，并使用本發(fā)明的雙面涂布裝置在保護(hù)層的表 面形成與磁記錄圖形一致的抗蝕圖形，然后，進(jìn)行由反應(yīng)性等離子體導(dǎo)致的磁性層的改性 處理。這種方法無需在反應(yīng)性等離子體處理后形成保護(hù)膜，能夠獲得提高工藝性并減少磁 記錄介質(zhì)的制造工序中的污染的效果。而且，本發(fā)明人們確認(rèn)，即使在磁性層的表面形成保 護(hù)膜后，仍能使磁性層和反應(yīng)性等離子體產(chǎn)生反應(yīng)。本實施方式的雙面涂布裝置(邊緣清洗裝置)具備以被處理基板2的厚度方向為 水平方向的方式保持被處理基板2的保持機(jī)構(gòu)3a、使被處理基板2沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動 機(jī)構(gòu)3、收容清洗液的容器41。清洗液的液面從容器41的上面露出，容器41配置在旋轉(zhuǎn)著 的被處理基板2的外緣部浸漬在清洗液內(nèi)的位置，因此通過使浸漬在清洗液中的被處理基 板2的外緣部的寬度為規(guī)定寬度，就能夠正確穩(wěn)定地僅對被處理基板2的外緣部的一定寬 度區(qū)域進(jìn)行清洗，能夠輕易地控制要清洗的外緣部的寬度。因而，即使要清洗的外緣部的寬 度窄，要清洗的外緣部的寬度不均勻或涂膜殘留在基板的外緣部上的不良情況也很少，并 能夠提高成品率。另外，根據(jù)本實施方式的雙面涂布裝置，由于能夠?qū)Ρ惶幚砘?的兩個主面2a、 2b同時進(jìn)行邊緣清洗，因此能夠在短時間內(nèi)輕易對處理基板2的兩個主面2a、2b進(jìn)行邊緣清洗。另外，由于本實施方式的雙面涂布裝置具備支撐容器41并使容器41在水平方向 和上下方向移動的容器移動機(jī)構(gòu)42，因此在裝卸被處理基板2時，能夠使容器41退避。因 而，容器41不使裝卸被處理基板2時的操作性低下，能夠輕易地進(jìn)行被處理基板2的裝卸。另外，由于在本實施方式的雙面涂布裝置中配置有與容器41相鄰并吸引由清洗 液構(gòu)成的液滴的吸引部43a，因此能夠由吸引部43a吸引在被處理基板2的邊緣清洗時產(chǎn)生 的由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴，并由吸引部43a吸引邊緣清洗時裝置內(nèi)的氣體。因而，能夠減少因由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴附著在被處理基板2上而產(chǎn)生的 不良，并對在邊緣清洗時氣體相對被處理基板2的流動進(jìn)行控制，能夠在穩(wěn)定的氣體氣氛
28下進(jìn)行邊緣清洗。另外，在本實施方式的雙面涂布裝置中，由于吸引部43a配置于在被處理基板2的 邊緣清洗時由清洗液構(gòu)成的霧狀微細(xì)液滴容易飛濺的、容器41的被處理基板2的旋轉(zhuǎn)方向 側(cè)的位置，因此邊緣清洗時產(chǎn)生的由清洗液構(gòu)成的液滴能夠更高效地被吸引部43a吸引。另外，由于在本實施方式的雙面涂布裝置中具備支撐吸引部43a并能使吸引部 43a在水平方向和上下方向移動的吸引部移動機(jī)構(gòu)44，因此在裝卸被處理基板2時，能夠使 吸引部43a退避到被處理基板收容部6的外面。因而，吸引部43a不使裝卸被處理基板2 時的操作性低下，能夠輕易地進(jìn)行被處理基板2的裝卸。以下，表示實施例和比較例并更詳細(xì)地說明本發(fā)明的邊緣清洗裝置，但本發(fā)明并 不局限于這些實施例?！矊嵤├? 實施例4〕使用圖2所示雙面涂布裝置(邊緣清洗裝置)1在被處理基板2的兩個主面2a、2b 上形成由紫外線固化型的丙烯酸酯樹脂構(gòu)成的膜厚IOOnm的抗蝕涂膜，并在以下所示條件 下，進(jìn)行在兩個主面2a、2b上涂布有涂液的被處理基板2的邊緣清洗。清洗液；丙酮吸引部43a的吸引力；0. 5立方米/分鐘結(jié)束涂液噴出后至開始邊緣清洗為止的時間；10秒內(nèi)開始邊緣清洗后至結(jié)束為止的時間；10秒內(nèi)而且，實施例1 實施例4中各自不同的條件即邊緣清洗時的被處理基板的轉(zhuǎn)速、 基板浸漬在清洗液內(nèi)的浸漬量(浸漬在清洗液內(nèi)的外緣部的寬度)，在表1中表示?！脖?〕
權(quán)利要求
一種雙面涂布裝置，通過向被處理基板的兩個主面供給涂液，旋轉(zhuǎn)操作所述被處理基板將所述涂液在兩個主面上擴(kuò)展，從而在所述被處理基板的兩個主面上形成涂膜，其特征在于，包括保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向的保持機(jī)構(gòu)；使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；將涂液噴出到所述被處理基板的一個主面上的第一涂液用噴嘴；以及將涂液噴出到所述被處理基板的另一主面上的第二涂液用噴嘴，所述第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴相對于所述被處理基板的厚度中心面對稱配置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和所述第 二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部和外周部噴出涂液。
3.根據(jù)權(quán)利要求12所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和第二涂 液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部噴出的涂液的量比向外周部噴出的涂液的量多。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和/或所述 第二涂液用噴嘴具有從與所述被處理基板的外周部對向的位置朝向與內(nèi)周部對向的位置 排列的多個涂液噴出口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述第一涂液用噴嘴和/或所述 第二涂液用噴嘴具有從與所述被處理基板的外周部對向的位置朝向與內(nèi)周部對向的位置 在所述被處理基板的周向的寬度逐漸擴(kuò)大的涂液噴出口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，包括第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第一涂液用噴嘴，使所述第一涂液用噴嘴邊與 所述被處理基板的所述一個主面間隔開邊沿所述一個主面在所述被處理基板的徑向移動； 以及第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第二涂液用噴嘴，使所述第二涂液用噴嘴邊與 所述被處理基板的所述另一主面間隔開邊沿所述另一主面在所述被處理基板的徑向移動。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，還包括將附著在涂布有所述涂 液的所述被處理基板的兩個主面的外緣部上的涂液除去的邊緣清洗構(gòu)件，所述邊緣清洗構(gòu)件包括收容清洗液的容器，所述清洗液的液面從所述容器的上面露 出，所述容器能夠自由移動地配置在旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部能被所述清洗液浸 漬的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙面涂布裝置，其特征在于，與所述邊緣清洗構(gòu)件相鄰地配 置有吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴的吸引部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述吸引部配置在所述邊緣清 洗構(gòu)件的被處理基板旋轉(zhuǎn)方向側(cè)的位置上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面涂布裝置，其特征在于，還包括噴出清洗液并對所述涂 液用噴嘴進(jìn)行洗凈的頭清洗用噴嘴。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的雙面涂布裝置，其特征在于，所述頭清洗用噴嘴包括設(shè)置 在所述第一涂液用噴嘴的上方并與所述第一涂液用噴嘴相鄰的第一頭清洗液用噴嘴、和設(shè) 置在所述第二涂液用噴嘴的上方并與所述第二涂液用噴嘴相鄰的第二頭清洗液用噴嘴。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的雙面涂布裝置，其特征在于，包括第一涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第一涂液用噴嘴和所述第一頭清洗液用噴嘴， 使所述第一涂液用噴嘴邊與所述被處理基板的所述一個主面間隔開邊沿所述一個主面在 所述被處理基板的徑向移動；以及第二涂液用噴嘴移動機(jī)構(gòu)，其支撐所述第二涂液用噴嘴和所述第二頭清洗液用噴嘴， 使所述第二涂液用噴嘴邊與所述被處理基板的所述另一主面間隔開邊沿所述另一主面在 所述被處理基板的徑向移動。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的雙面涂布裝置，其特征在于，包括向所述涂液用噴嘴供給所述涂液的涂液供給構(gòu)件、和向所述頭清洗用噴嘴供給所述清 洗液的清洗液供給構(gòu)件，所述涂液供給構(gòu)件包括對所述涂液用噴嘴和涂液用容器進(jìn)行連接的涂液用配管，所述 清洗液供給構(gòu)件包括對所述頭清洗用噴嘴和清洗液用容器進(jìn)行連接的清洗液用配管，所述清洗液用配管通過連接配管與所述涂液用配管相連接，在所述連接配管上連接有 切換用閥。
14.一種邊緣清洗裝置，將附著在涂布有涂液的被處理基板的兩個主面的外緣部上的 涂液除去，其特征在于，包括保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向的保持機(jī)構(gòu)；使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；以及收容清洗液的容器，所述清洗液的液面從所述容器的上面露出，所述容器能夠自由移動地配置在旋轉(zhuǎn)著的 所述被處理基板的外緣部能被所述清洗液浸漬的位置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的邊緣清洗裝置，其特征在于，包括支撐所述容器并使所述 容器沿水平方向和上下方向移動的容器移動機(jī)構(gòu)。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的邊緣清洗裝置，其特征在于，與所述容器相鄰地配置有吸 引由所述清洗液構(gòu)成的液滴的吸引部。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的邊緣清洗裝置，其特征在于，所述吸引部配置在所述容器 的被處理基板旋轉(zhuǎn)方向側(cè)的位置。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的邊緣清洗裝置，其特征在于，包括支撐所述吸引部并使所 述吸引部沿水平方向和上下方向移動的吸引部移動機(jī)構(gòu)。
19.一種涂液的雙面涂布方法，通過向被處理基板的兩個主面供給涂液并旋轉(zhuǎn)操作所 述被處理基板將所述涂液在兩個主面上擴(kuò)展，在所述被處理基板的兩個主面上形成涂膜， 其特征在于，保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處理基 板沿周向旋轉(zhuǎn)，從第一涂液用噴嘴和第二涂液用噴嘴向所述被處理基板同時噴出涂液，該 第一涂液用噴嘴將涂液噴出到所述被處理基板的一個主面上，該第二涂液用噴嘴與所述第 一涂液用噴嘴相對于所述被處理基板的厚度中心面對稱配置，并將涂液噴出到所述被處理 基板的另一主面上。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的涂液的雙面涂布方法，其特征在于，從所述第一涂液用噴 嘴和所述第二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部和外周部噴出涂液。3
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的涂液的雙面涂布方法，其特征在于，使從所述第一涂液用 噴嘴和所述第二涂液用噴嘴向所述被處理基板的內(nèi)周部噴出的涂液量比向外周部噴出的涂液量多。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的涂液的雙面涂布方法，其特征在于，還包括邊緣清洗工序， 該邊緣清洗工序?qū)⑹杖萸逑匆呵宜銮逑匆旱囊好鎻纳厦媛冻龅娜萜髋渲糜谠谒鐾坎?工序后旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部能被所述清洗液浸漬的位置。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的涂液的雙面涂布方法，其特征在于，所述邊緣清洗工序一 邊利用與所述容器相鄰地配置的吸引部吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴一邊進(jìn)行。
24.根據(jù)權(quán)利要求19所述的涂液的雙面涂布方法，其特征在于，還包括從頭清洗用噴 嘴噴出清洗液對所述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的涂液用噴嘴洗凈工序。
25.一種涂液的雙面涂布方法，使用權(quán)利要求13所述的雙面涂布裝置在被處理基板的 兩個主面上形成涂膜，其特征在于，包括保持所述被處理基板使得所述被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處理基 板沿周向旋轉(zhuǎn)，從向所述被處理基板的兩個主面噴出涂液的涂液用噴嘴向所述被處理基板 噴出涂液的涂布工序；以及切換所述切換用閥，對相比所述切換用閥靠所述涂液用噴嘴側(cè)的所述涂液用配管和所 述涂液用噴嘴進(jìn)行洗凈的涂液用配管洗凈工序。
26.—種邊緣清洗方法，將附著在涂布有涂液的被處理基板的兩個主面的外緣部上的 涂液除去，其特征在于，包括邊緣清洗工序，該邊緣清洗工序保持所述被處理基板使得所述 被處理基板的厚度方向為水平方向，并使所述被處理基板沿周向旋轉(zhuǎn)，將收容清洗液且所 述清洗液的液面從上面露出的容器配置在旋轉(zhuǎn)著的所述被處理基板的外緣部能被所述清 洗液浸漬的位置。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的邊緣清洗方法，其特征在于，具有在保持所述被處理基板 的保持機(jī)構(gòu)裝卸所述被處理基板的裝卸工序，所述裝卸工序，利用支撐所述容器的容器移動機(jī)構(gòu)使所述容器沿水平方向和上下方向 移動、使所述容器退避來進(jìn)行。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的邊緣清洗方法，其特征在于，所述邊緣清洗工序，一邊利用 與所述容器相鄰地配置的吸引部吸引由所述清洗液構(gòu)成的液滴一邊進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠?qū)⑼恳壕鶆虻赝坎荚诒惶幚砘宓膬擅嫔喜⒃诒惶幚砘宓膬擅嫔闲纬删鶆虻耐磕さ碾p面涂布裝置。雙面涂布裝置(1)包括以被處理基板(2)的厚度方向為水平方向的方式保持被處理基板(2)的保持機(jī)構(gòu)(3a)、使被處理基板(2)沿周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)、將涂液噴出到被處理基板(2)的一個主面(2a)上的第一涂液用噴嘴(18a)、和將涂液噴出到被處理基板(2)的另一主面(2b)上的第二涂液用噴嘴(18b)。第一涂液用噴嘴(18a)和第二涂液用噴嘴相對于被處理基板(2)的厚度中心面對稱配置。提供一種邊緣清洗裝置，能夠正確穩(wěn)定地僅對基板的外緣部的一定寬度進(jìn)行清洗，即使應(yīng)該清洗的外緣部的寬度窄，也能輕易地控制要清洗的外緣部的寬度。
文檔編號B05D1/40GK101981619SQ20098011109
公開日2011年2月23日 申請日期2009年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月31日
發(fā)明者今井直行, 山崎浩之, 岡田翼, 福島正人 申請人:昭和電工株式會社