專利名稱：光學漿料組合物及其制備方法與彩色濾光基板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬于光電技術領域，是有關于一種漿料組合物及其制備方法、與濾光基板(Filter substrate)的制作方法，且特別是有關于一種光學漿料組合物及其制備方法、與彩色濾光基板 (Color filter substrate, CF substrate)的制作方法。
背景技術：
液晶顯示面板(Liquid Crystal Display Panel, LCD Panel)是由薄膜晶體管數(shù)組基板與彩色 濾光基板所組成。 一般而言，在彩色濾光基板上還會制作保護層，此保護層必須能使光線能透過， 所以需選用適當?shù)闹谱鞣椒ㄅc材料。
保護層所使用的材料通常是高分子材料、紫外光固化材料或無機材料等，其中，高分子材料 可使用環(huán)氧樹脂系、壓克力樹脂系、聚亞酰胺樹脂系、聚乙烯醇樹脂系、聚酯系等；紫外光固化 材料可使用丙烯酸聚合物；且無機材料可使用非晶硅膜、氮化硅、二氧化硅、硫化鋅-二氧化硅等。
當選用上述不同的材料，即需要使用不同的制作方法。 一般來說，當選用高分子材料、紫外 光固化材料時，通常會利用旋轉涂布法；當選用無機材料時，通常會利用物理氣相沉積或化學氣 相沉積法等真空鍍膜技術。
然而，不管是選用高分子材料、紫外光固化材料或無機材料，由于材料本身的折射率為一定 值，無法任意隨設計者來調整，因此限制了材料的可應用范圍。另外，在制作方法方面，旋轉涂 布技術只能形成一層平坦的膜層，應用上有所限制，并且真空鍍膜技術必須在,真空環(huán)境下制作， 故便利性不高。 '
另外，若耍使保護層具有特殊的光學功能(如散射光線)，通常還需要在保護層上形成預定 圖案。 一般形成預定圖案的方式是采用微影蝕刻制程。更詳細地說，以往的微影蝕刻制程要進行 許多繁瑣的制程，如光阻涂布、使用昂貴的光罩進行曝光、及精確地控制蝕刻時間等，所以微影 蝕刻制程的步驟復雜且成本高，不利于制作成本的降低。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供一種光學漿料組合物及其制備方法與彩色濾光基板的制作方法，該光 學漿料組合物具有易于調整折射率的特性與良好的黏滯度，適合用于噴墨機臺中，來制作具有不 同折射率與預定圖形的光學組件；制備過程簡單，可操作性強，制作的彩色濾光基板性能好，采 用上述的光學漿料組合物配合噴墨機臺，而易于在彩色濾光基板上制作具有預定圖案的光學組 件。
基下上述，本發(fā)明提出一種光學漿料組合物，適用于一噴墨機臺中以形成一光學組件。所述 光學漿料組合物的原料包括
光學漿料主體、水解控制劑、干燥裂開控制劑、成膜促進劑、水、非水溶劑、催化螯合劑 和偶聯(lián)劑；
其中，所述光學漿料主體的比例范圍為20wt% 50wt%，所述水解控制劑的比例為0wt% 10 wt%，所述干燥裂開控制劑的比例范圍為0 wt% 10 wt%，所述成膜促進劑的比例范圍為0.1
Wt% 2\Vt%;所述水的比例范圍為0wt% 10\Vt%;所述非水溶劑的比例范圍為20wt% 60wt%;
所述催化螯合劑的比例范圍為lwt% 3wt%;所述偶聯(lián)劑的比例范圍為0wt% 10wt%。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的光學漿料主體是選自于四乙氧硅烷(Tetraethoxysilane， TEOS)、四甲氧基硅烷(Tetramethoxysilane， TMOS)、四異丙基化鈦(Titanium Tetrais叩ropox:kle, TTIP)或有機氧烷金屬(M-nOR)中的一種。
4在本發(fā)明的一實施例中，上述的水解控制劑包括乙酰丙酮(acetylacetonate， acac)。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的干燥裂開控制劑是選自于乙二酸、甲酰胺或氮,氮-二甲基 甲酰胺(N, N國dimethylformamide, DMF)中的一種。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的成膜促進劑是選自于聚乙烯醇縮丁醛(Polyvinyl Butyral, PVB)、陰離子表面活性劑、聚丙酰胺、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene， PTFE)、聚偏二氟 乙烯樹脂(polyvinylidene difluoride， PVDF)、聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol, PVA)、聚乙二醇 (polyethylene glycol, PEG)或聚甲基丙稀酸甲酉旨(polymethylmethacrylate, PMMA)中的一禾中-
在本發(fā)明的一實施例中，上述的光學漿料組合物更包括非水溶劑，其比例范圍為20wt°/。
60wt%。此非水溶劑是選自于甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、正丙醇、乙二醇、丙酮、二甲基甲 酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、四氫呋喃、氯仿、乙酸乙酯甲醇、丁醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、二 氯甲烷、氯仿、乙酸甲酯、乙酸乙酯以及乙酸丁酯所組成的群組其中之一。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的光學漿料組合物更包括催化螯合劑，其比例范圍為lwt% 3wt%。此催化螯合劑是選自于鹽酸、乙酸、硼酸、硫酸、硝酸、醋酸、氨水、氫氧化鈉、乙二胺 四乙酸(EDTA)或檸檬酸中的一種。
偶聯(lián)劑包括硅烷偶聯(lián)劑。 本發(fā)明還提出一種光學槳料組合物的制備方法；所述的制備步驟為
制備第一漿料原料為成膜促進劑、第一非水溶劑、干燥裂開控制劑、水以及水解控制 劑，所述成膜促進劑的比例范圍為0.1 wt% 2wt%，干燥裂開控制劑的比例范圍為0 10 wt%, 該水的比例范圍為0 10 wt%，該水解控制劑的比例范圍為0 10 wt%;
制備第二漿料光學漿料主體以及第二非水溶劑，所述光學漿料主體的比例范圍為
20wt% 50wt%，所述第一非水溶劑于該第二非水溶劑的總和的比例范圍為20 wt% 60wt%;
在使用所述光學漿料組合物之前，再混合第 一 漿料與第二漿料。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的光學漿料主體是選自于四乙氧硅烷(Tetraethoxysilane， TEOS)、四甲氧基硅烷(Tetramethoxysilane， TMOS)、四異丙基化鈦(Titanium Tetraisopropoxide, TTIP或有機氧烷金屬(M-nOR)中的一種。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的水解控制劑包括乙酰丙酮(acetylacetonate, acac)。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的干燥裂開控制劑是選白于乙二酸、甲酰胺或氮,氮-二甲基 甲酰胺(N, N-dimethylfo麗mide， DMF)中的一種。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的成膜促進劑是選自于聚乙烯醇縮丁醛(Polyvinyl Butyral， PVB)、陰離子表面活性劑、聚丙酰胺、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene, PTFE)、聚偏二氟 乙烯樹脂(polyvinylidene difluoride, PVDF)、聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol, PVA)、聚乙二醇 (polyethylene glycol, PEG)或聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate, PMMA)中的一種。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的第一及第二非水溶劑是選自于甲醇、乙醇、異丙醇、正丁 醇、止丙醇、乙二醇、丙酮、 一甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、四氫呋喃、氯仿、乙酸乙酯甲 醇、丁醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、二氯甲垸、氯仿、乙酸甲酯、乙酸乙酯以及乙酸丁酯所組成 的群組其中之一。
本發(fā)明提出一種彩色濾光基板的制作方法。首先，提供一基板。接著，T基板上形成一黑 矩陣，將基板劃分出多個次畫素區(qū)域。再來，于這些次畫素區(qū)域中形成多個彩色濾光圖案。之后， 利用噴墨法配合使用前面所提到的光學漿料組合物，在每一彩色濾光圖案匕形成一微透鏡。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的次畫素區(qū)域中形成彩色濾光圖案之前，利用噴墨法將上述 的光學漿料組合物填入次畫素區(qū)域，以形成第一增透層。
在本發(fā)明的一實施例中，上述在每一彩色濾光圖案上形成微透鏡之前，于彩色濾光圖案之 問形成 一 反射層，反射層的材料是上述的光學槳料組合物所制成。
5在本發(fā)明的一實施例中，上述的彩色濾光基板的制作方法，形成第二增透層覆蓋這些彩色-濾光圖案、黑矩陣與微透鏡，第二增透層的材料是上述的光學槳料組合物所制成。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的彩色濾光基板的制作方法形成透明電極，覆蓋第二增透層。
本發(fā)明的光學漿料組合物的制備方法相當便利。此光學漿料組合物因具有良好的黏滯度、 且易于調整其折射率，而能搭配'噴墨機臺使用于各種具有不同折射率與預定圖案的光學組件或功 能性保護層的制作，所以可有效擴充噴墨機臺的使用范圍，易于在彩色濾光基板制作具有預定圖 案的光學組件。


圖1為本發(fā)明的光學漿料組合物的制備方法流程示意圖。 圖2A至圖2H為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法流程剖面示意圖。 其中的符號說明
110、 120、 130:步驟
200:彩色濾光基板 210:基板 210a:次畫素區(qū)域 220:黑矩陣
230:光學漿料組合物
230a:第一增透層 230b:反射層 230c:微透鏡
230d:第二增透層 240:彩色濾光圖案 250:透明電極
具體實施例方式
為讓本發(fā)明之上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖式 作詳細說明如卩。 實施方式 光學漿料組合物
本發(fā)明的光學漿料組合物具有易于調整折射率的特性與良好的黏滯度，適用配合噴墨機臺來 制作多種具有不同折射率與預定圖形的光學組件。以下將介紹此光學漿料組合物的組成。
此光學漿料組合物包括光學漿料主體、水解控制劑、干燥裂開控制劑以及成膜促進劑，其
中，光學漿料主體的比例范圍為20wt% 50wt%，水解控制劑的比例范圍為0 10 wt%,干燥裂 開控制劑的比例范圍為0 10wt%，且成膜促進劑的比例范圍為0.1 wt% 2wt%。
在一較佳的實施例中，光學漿料主體可選自于四乙氧硅烷、四甲氧基硅垸、四異丙基化鈦以 及有機氧垸金屬所組成的群組其中之一。值得注意的是，當使用四異丙基化鈦、有機氧烷金屬時， 其中的金屬(如鈦)可以提升此光學漿料組合物的折射率。詳言之，若光學漿料主體中所含的金 屬量越高，光學漿料組合物的折射率便會越高。由于金屬的添加量可作為設計者調高光學漿料組 合物之折射率的依據(jù)，所以設計者可藉由選用光學漿料主體的種類以及控制其中的金屬物質的含 量，來提高光學漿料組合物的折射率。
上述的水解控制劑可以是乙酰丙酮。舉例而言，當使用有機氧烷金屬作為光學槳料主體時， 由于有機氧烷金屬易于吸收空氣中的水氣而先行水解而生成固體沉淀。如此，會影響后續(xù)光學漿 料組合物的均勻度。故加入一水解控制劑，可減少有機氧烷金屬對水氣反應的靈敏度，而抑制迅再者，上述的干燥裂開控制劑可選自于乙二酸、甲酰胺或氮,氮-二甲基甲酰胺中的一種。此 干燥裂開控制劑可防止后續(xù)形成的膜層裂開，有助于維持穩(wěn)定膜層的結構。
另外，上述的成膜促進劑可選自于聚乙烯醇縮丁醛、陰離子表面活性劑、聚丙酰胺、聚四氟 乙烯、聚偏二氟乙烯樹脂、聚乙烯醇、聚乙二醇以及聚甲基丙烯酸甲酯所組成的群組其中之一。 值得注意的是，當使用聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯樹脂時，其中的氟可以降低此光學漿料組合物 的折射率，亦即，若成膜促進劑中所含的氟量越高，則光學漿料組合物的折射率便會越低。由于 氟的添加量可做為設計者調降光學漿料組合物之折射率的依據(jù)，所以設計者便可藉由調整成膜促 進劑的種類與其中的氟含量，來降低此光學漿料組合物的折射率。
值得注意的是，增加光學漿料主體中的金屬含量可提高光學漿料組合物的折射率，且增加成 膜促進劑中的氟含量可降低光學漿料組合物的折射率。所以，此光學漿料組合物適于設計者在折 射率上做任意的調整，而具有易于調整其折射率的特性。如此一來，可調配出多種具有不同折射 率的光學漿料組合物。
在較佳的實施例中，光學漿料組合物更可以包括水，其比例范圍為0 10 wt%,水可增加光 學漿料組合物中的成份鍵結的反應速率。再者，光學漿料組合物還可以包括非水溶劑，其比例范 圍為20 wt% 60wt%。此非水溶劑是選自于甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、正丙醇、乙二醇、丙 酮、二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、四氫呋喃、氯仿、乙酸乙酯甲醇、丁醇、丙酮、甲乙酮、 環(huán)己酮、二氯甲烷、氯仿、乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯中的一種。
上述的光學漿料組合物還可包括催化螯合劑，其比例范圍為lwt% 3wt%。此催化螯合劑是 選自于鹽酸、乙酸、硼酸、硫酸、硝酸、醋酸、氨水、氫氧化鈉、乙二胺四乙酸(EDTA)或檸 檬酸中的一種。光學漿料組合物還可包括一偶聯(lián)劑，其比例范圍為0 10wt%。此偶聯(lián)劑包括硅 烷偶聯(lián)劑。硅烷偶聯(lián)劑是一種分子中含有二種不同化學性質基團的有機硅化合物，其分子的兩端 分別為親有機基團及親無機基團，故有機物和無機物便能透過硅烷偶聯(lián)劑而相結合。所以，添加 硅烷偶聯(lián)劑可以幫助光學漿料組合物中的有機分子與無機分子做更緊密的結合。
綜上所述，可注意到光學漿料組合物包括黏滯度較佳的有機材料。再通過其它成分的添加(如 成膜促進劑、非水溶劑、偶聯(lián)劑等)，即可形成具有適當黏滯度的光學槳料組合物。由丁-此光學 漿料組合物具有良好的黏滯度，所以可搭配噴墨機臺使用而制作具有預定圖案的光學組件。
另外，有別丁-傳統(tǒng)的有機材料或無機材料，h述光學槳料組合物具有易于調整折射率的特性， 適合用于制作具有不同折射率的光學組件或是功能性保護層。當形成了光學組件之后，此光學漿 料組合物還可以自行鍵結而形成一有機無機混成膜，相當?shù)乇憷?。相較于以往必須以復雜的微影 制程在保護層上制作光學圖案的做法，利用光學漿料組合物搭配噴墨機臺來形成具有預定圖案的 光學組件的做法，不但可以在正常大氣壓的環(huán)境中進行、且噴墨的方式可節(jié)省材料，因此具有容 易制作與成本低廉的特點。
光學漿料組合物的制備方法
圖1為本發(fā)明較佳實施例的一種光學漿料組合物的制備方法流程示意圖。請參考圖1，首先， 如歩驟110所不，提供第一漿料，包括成膜促進劑、第一非水溶劑、干燥裂開控制劑、水以及 水解控制劑，其中，成膜促進劑的比例范圍為0.1 wt% 2wt%，干燥裂開控制劑的比例范圍為0 10wt%，水的比例范圍為0 10 wt%，水解控制劑的比例范圍為0 10 wt%。
接著，如步驟120所示，提供第二槳料，包括光學漿料主體以及第二非水溶劑，其中，
光學漿料主體的比例范圍為20wt% 50Wt%，且第一非水溶劑于第二非水溶劑的總和的比例范圍 為20 wt% 60wt%。
之后，如步驟130所示，在欲使用光學漿料組合物之前，再混合第一漿料與第二漿料。
7上述光學漿料組合物的所有詳細成分已經于上述實施例中提及，在此不再予以重述。此光學 漿料組合物的制備方法相當便利。可先分別制作易于保存的第一槳料和第二漿料，只要在使用前 將第一與第二漿料混合便可輕易制備出耐溫特性佳、質地堅硬、附著性佳且易于調整折射率的光 學漿料組合物。
彩色濾光基板的制作方法
圖2A至圖2H為本發(fā)明較佳實施例的一種彩色濾光基板的制作方法流程剖面示意圖。此彩 色濾光基板的制作方法利用了上述光學漿料組合物并搭配噴墨機臺，在彩色濾光基板中形成了具 有預定圖案的光學組件。
首先，請參考圖2A，提供一基板210。此基板210可以是玻璃基板或石英基板。
接著，請參考圖2B，于基板210上形成一黑矩陣220，將基板210劃分出多個次畫素區(qū)域 210a。黑矩陣220的形成方式例如是以微影制程來制造，其步驟包括在基板210上形成一遮光 層(未繪示)、涂布光阻(未繪示)、利用光罩進行曝光、顯影以及蝕刻等。黑矩陣220的材料 例如是鉻金屬(Chromium, Cr)或黑色樹脂。
再來，請參考圖2C與圖2D，于這些次畫素區(qū)域210a中形成多個彩色濾光圖案240。形成彩 色濾光圖案240的方法可以采用微影制程或是噴墨打印(Ink-jet Printing)制程來制造。值得注意 的是，如圖2C所示，在形成彩色濾光圖案240之前，可先利用噴墨法將光學漿料組合物230填 入這些次畫素區(qū)域210a，以形成一第一增透層230a。此第一增透層230a可以增加光的穿透率。 關于此光學漿料組合物230的制備方法與組成成分己于前面詳細說明過，在此便不予以贅述。
之后，請參考圖2E與圖2F,利用噴墨法配合使用前面所提到的光學漿料組合物230，在每 一彩色濾光圖案240上形成一微透鏡230c。特別是，微透鏡230c的曲率大小可藉由噴墨機臺的 噴墨頭而控制，噴墨頭例如可使用電壓式噴墨頭或熱壓式噴墨頭。具體而言，例婦當電壓式噴 墨頭的電壓改變時，光學漿料組合物230的噴出量也會跟著改變。通常電壓越小，噴出量越??； 電壓越大，噴出量越大。另外，當光學漿料組合物230的黏滯度越高時，由于其表面張力越大， 所形成的微透鏡230c的曲率也越大。因此，設計者便可根據(jù)光學漿料組合物230的黏滯度與噴 出量來調控微透鏡230c的曲率和微透鏡230c的形狀，而設計出想要的微透鏡230c。如此一來， 利用微透鏡230c可將光線集中至彩色濾光圖案240，并提升光線的穿透率與集中度。
另外，如圖2E所示，在每一彩色濾光圖案240上形成微透鏡230c之前，更包括于彩色濾光 圖案240之間形成一反射層230b，反射層230b的材料是光學漿料組合物230所制成，也就是說， 反射層230b的材料除了是光學漿料組合物230外，還可包括其它適當?shù)墓鈱W材料。
更詳細而言，可再次利用噴墨法將具有高折射率的光學漿料組合物230噴入于這些彩色濾光 圖案240之間，以形成反射層230b。此反射層230b的功能為可填補彩色濾光圖案240與黑矩 陣220間的間隙，同時也能將原本耍入射至黑矩陣220的光轉而折射進入到彩色濾光圖案240中， 以提升光線的穿透率。
再來，請參考圖2G，可再形成一第二增透層230d覆蓋這些彩色濾光圖案240、黑矩陣220 與微透鏡230c，第二增透層230d的材料是光學漿料組合物230所制成。同樣地，也就是說，第 二增透層230d的材料除了是光學漿料組合物230外，還可包括其它適當?shù)墓鈱W材料。
更詳細而言，可再利用噴墨法將光學漿料組合物230噴涂在黑矩陣220、微透鏡230c、反射 層230b與彩色濾光圖案240上。第二增透層230d的材料是流動性佳的光學漿料組合物230，以 提升光線的穿透率。
最后，請參考圖2H，可再形成一透明電極250覆蓋第二增透層230d。透明電極250的材料 可以是銦錫氧化物(ITO)成是銦鋅氧化物(IZO)。至此，便完成彩色濾光基板200的制作。另 外，透明電極250的形成方式可利用濺鍍(Sputtering)、熱蒸鍍(Thermal evaporation)或物理
8氣相沉積法(Physical Vapor D印osition, PVD)等方式來形成。
由上述可知，利用光學漿料組合物230配合噴墨機臺，可以在彩色濾光基板200中的任何需 要光學組件的部位容易地形成具有預定圖案的光學組件(如上述的第一增透層230a、反射層230b、 微透鏡230c以及第二增透層230d等)。因此能良好地提升彩色濾光基板200的光學性能，且能 高度配合光學設計需求而易于進行光學組件的制作。
當然，上述的光學漿料組合物230并非僅能用于彩色濾光基板200中的光學組件的制作， 在其它需要具有預定圖案的光學組件的基板，例如具有彩色濾光圖案的數(shù)組基板(Color filter on array, COA)上；或是在光學領域中的任何光學組件(如微透鏡、光波導組件等)的制作，都可利 用上述的光學漿料組合物230配合噴墨機臺的方法來進行制作。這對于顯示器產業(yè)、微機電及光 電組件和積體光學產業(yè)未來的發(fā)展是一大幫助。
綜上所述，本發(fā)明的光學漿料組合物及其制備方法、與彩色濾光基板的制作方法至少具有以 下優(yōu)點
此光學漿料組合物的制備方法相當便利。此光學漿料組合物的折射率、黏滯度等特性可隨設 計者的需求進行調整，再配合噴,墨機臺的使用，可易于形成具有不同折射率與預定圖案的光學組 件。由于制程相當簡單，而能降低制作成本。另外，在彩色濾光基板的制作方法中，使用噴墨機 臺配合上述的光學漿料組合物可制作出具有良好顯示特性的彩色濾光基板。所以，能提高顯示器 的色彩飽和度以及增加顯示器的亮度，并降低能源的損耗。
雖然本發(fā)明已以實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術領域中具有通常 知識者，在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發(fā)明之保護范圍當視 后附之申請專利范圍所界定者為準。
9
權利要求
1.一種光學漿料組合物，適用于一噴墨機臺中以形成一光學組件，其特征在于所述光學漿料組合物的原料包括光學漿料主體、水解控制劑、干燥裂開控制劑、成膜促進劑、水、非水溶劑、催化螯合劑和偶聯(lián)劑；其中，所述光學漿料主體的比例范圍為20wt％～50wt％，所述水解控制劑的比例為0wt％～10wt％，所述干燥裂開控制劑的比例范圍為0wt％～10wt％，所述成膜促進劑的比例范圍為0.1wt％～2wt％；所述水的比例范圍為0wt％～10wt％；所述非水溶劑的比例范圍為20wt％～60wt％；所述催化螯合劑的比例范圍為1wt％～3wt％；所述偶聯(lián)劑的比例范圍為0wt％～10wt％。
2. 根據(jù)權利要求l所述的光學漿料組合物，其特征在于該光學漿料主體是選自于四乙氧硅垸Tetraethoxysilane， TEOS、四甲氧基硅垸Tetramethoxysilane， TMOS、四異丙 基化鈦Titanium Tetraisopropoxide， TTIP或有機氧烷金屬M-nOR中的一種。
3. 根據(jù)權利要求1所述的光學漿料組合物，其特征在于所述水解控制劑為乙酰丙酮 3cctylacetormt6， acac0
4. 根據(jù)權利要求l所述的光學漿料組合物，其特征在于所述干燥裂開控制劑是選自于乙二酸、甲酰胺或氮，氮-二甲基甲酰胺(N，N-dimethylformamide，DMF中的一種。
5. 根據(jù)權利要求l所述的光學漿料組合物，其特征在于所述成膜促進劑是選自于聚 乙烯醇縮丁醛Polyvinyl Butyral， PVB、陰離子表面活性劑、聚乙二醇、聚丙酰胺、聚 四氟乙烯polytetrafluoroethylene， PTFE、聚偏二氟乙烯樹脂polyvinylidene difluoride, PVDF、聚乙烯醇Polyvinyl Alcohol, PVA、聚乙二醇polyethylene glycol, PEG或聚甲 基丙烯酸甲酯polymethylmethacrylate, PMMA中的一種。
6. 根據(jù)權利要求1所述的光學漿料組合物，其特征在于所述非水溶劑是選自于甲醇、 乙醇、異丙醇、正丁醇、正丙醇、乙二醇、丙酮、二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯垸酮、 四氫呋喃、氯仿、乙酸乙酯甲醇、丁醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、二氯甲垸、氯仿、 乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯中的一種。
7. 根據(jù)權利要求1所述的光學漿料組合物，其特征在于所述催化螯合劑是選自于鹽酸、乙酸、硼酸、硫酸、硝酸、醋酸、氨水、氫氧化鈉、乙二胺四乙酸EDTA或檸檬 酸中的一種。
8. 根據(jù)權利要求1所述的光學漿料組合物，其特征在于所述該偶聯(lián)劑為硅垸偶聯(lián)劑。
9. 一種如權利要求1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8或9所述的光學漿料組合物的制備方法，其特征在于所述的制備步驟為制備第一漿料原料為成膜促進劑、第一非水溶劑、干燥裂開控制劑、水以 及水解控制劑，所述成膜促進劑的比例范圍為0.1 wt% 2wt%，干燥裂開控制劑的比 例范圍為0 10 wt%，該水的比例范圍為0 10wt%，該水解控制劑的比例范圍為0 10 Wt%;制備第二漿料光學漿料主體以及第二非水溶劑，所述光學漿料主體的比例范 圍為20wt% 50wt%，所述第一非水溶劑于該第二非水溶劑的總和的比例范圍為20Wt% 60wt%;在使用所述光學漿料組合物之前，再混合第一漿料與第二漿料。
10. 根據(jù)權利要求10所述的學漿料組合物的制備方法，其特征在于所述第一和第二 非水溶劑均是選自于甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、正丙醇、乙二醇、丙酮、二甲基 甲醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、四氫呋喃、氯仿、乙酸乙酯甲醇、丁醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)已酮、二氯甲垸、氯仿、乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯中的一種。
11. 一種采用如權利要求1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8或9所述的光學漿料組合物制作彩 色濾光基板的方法，其特征在于所述制備方法的步驟為提供一基板；于該基板上形成一黑矩陣，將該基板劃分出多個次畫素區(qū)域； 于該些次畫素區(qū)域中形成多個彩色濾光圖案；以及利用噴墨法配合使用所述的光學漿料組合物，在每一彩色濾光圖案上形成一微透鏡。
12. 根據(jù)權利要求12所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于所述次畫素區(qū)域 中形成該些彩色濾光圖案之前利用噴墨法將該光學漿料組合物填入該些次畫素區(qū)域， 以形成第一增透層。
13. 根據(jù)權利要求12所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于所述在每一彩色 濾光圖案上形成該微透鏡之前，將所述彩色濾光圖案之間形成一反射層，其中所述反 射層的材料是所述光學漿料組合物。
14. 根據(jù)權利要求12所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于形成第二增透層 覆蓋所述彩色濾光圖案、黑矩陣與微透鏡，其中所述第二增透層的材料是所述光學漿料組合物。 '
15. 根據(jù)權利要求15所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于形成一透明電極， 覆蓋該第二增透層。
全文摘要
本發(fā)明是提供一種光學漿料組合物及其制備方法與彩色濾光基板的制作方法，該光學漿料組合物的原料包括光學漿料主體、水解控制劑、干燥裂開控制劑、成膜促進劑、水、非水溶劑、催化螯合劑和偶聯(lián)劑；制備步驟包括制備第一漿料和制備第二漿料；在使用所述光學漿料組合物之前，再混合第一漿料與第二漿料，采用該光學漿料組合物制作彩色濾光基板，本發(fā)明光學漿料組合物具有易于調整折射率的特性與良好的黏滯度，適合用于噴墨機臺中，來制作具有不同折射率與預定圖形的光學組件；制備過程簡單，可操作性強，制作的彩色濾光基板性能好，采用上述的光學漿料組合物配合噴墨機臺，而易于在彩色濾光基板上制作具有預定圖案的光學組件。
文檔編號C09D5/00GK101515084SQ20091011114
公開日2009年8月26日 申請日期2009年3月3日 優(yōu)先權日2009年3月3日
發(fā)明者劉俊興, 李其欣, 王修文, 毅 胡, 謝文仁, 陳姿宇 申請人:華映光電股份有限公司;中華映管股份有限公司