專利名稱：液滴噴射裝置及涂敷體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上的液滴噴射裝置、以及涂敷體的制造方法。
背景技術(shù)：
液滴噴射裝置，通常用于制造液晶顯示裝置、有機(jī)EL(ElectroLuminescence)顯示裝置、電子發(fā)射顯示裝置、等離子顯示裝置和電泳顯示裝置等各種顯示裝置。
液滴噴射裝置，備有液滴噴射頭(例如噴墨頭)和干燥部等。液滴噴射頭(例如噴墨頭)從若干個噴嘴把液滴(例如墨水)分別朝著涂敷對象物噴射。干燥部使彈射到涂敷對象物上的液滴干燥。該液滴噴射裝置，用液滴噴射頭將液滴彈射到涂敷對象物上，形成預(yù)定圖形的點(diǎn)陣，使涂敷對象物上的液滴干燥，例如，制造濾色鏡、黑底(濾色鏡的框)等的涂敷體。
現(xiàn)有技術(shù)中，提出了一種液滴噴射裝置，在該液滴噴射裝置中，當(dāng)涂敷對象物的干燥時，用真空干燥使墨水快速地干燥(例如見專利文獻(xiàn)1和專利文獻(xiàn)2)。該液滴噴射裝置的干燥部備有排氣部等。該排氣部，將收容涂敷了液滴的涂敷對象物的真空腔室等的收容室內(nèi)的氣體排出，使收容室內(nèi)成為真空。
專利文獻(xiàn)1日本特開2001-235277號公報專利文獻(xiàn)2日本特開2003-234273號公報發(fā)明內(nèi)容但是，若用真空干燥使墨水快速干燥，則會在收容室內(nèi)產(chǎn)生氣流，該氣流使涂敷對象物上的墨水表面干燥。因此，在墨水內(nèi)產(chǎn)生的氣體(例如溶劑、水分和溶解的氣體等)排出前，在墨水表面形成了薄膜、即表層膜。在該狀態(tài)，若氣體從墨水內(nèi)產(chǎn)生，該氣體使墨水表面的表層膜破裂，墨水從該破裂的部分流出，所以，產(chǎn)生了墨水的飛散、墨水的溢出，造成涂敷體的制造不良。
本發(fā)明是鑒于上述問題而作出的，其目的是提供一種能防止因彈射到涂敷對象物上的液滴的表層膜破裂而導(dǎo)致涂敷體制造不良的、液滴噴射裝置及涂敷體的制造方法。
本發(fā)明實(shí)施方式的第1特征是，在液滴噴射裝置中，備有將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上的涂敷部；收容涂敷了液滴的涂敷對象物的收容室；將收容室內(nèi)的氣體排出的排氣部；調(diào)節(jié)排氣部從收容室內(nèi)排出的氣體的排氣流量的調(diào)節(jié)部；以使排氣流量逐步變化的方式控制調(diào)節(jié)部的控制機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明實(shí)施方式的第2特征是，在液滴噴射裝置中，備有涂敷部、收容室和排氣部；涂敷部，將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；收容室具有分散板和遮蔽板；該分散板離開涂敷了液滴的涂敷對象物的收容位置，并設(shè)有若干個貫通孔；該遮蔽板設(shè)在收容位置與分散板之間，能接近或離開收容位置；該收容室將涂敷了液滴的涂敷對象物收容在收容位置；排氣部，排出收容室內(nèi)的氣體；收容室具有開口部，該開口部設(shè)在包括從分散板的表面到頂面?zhèn)鹊膫?cè)面和頂面的面內(nèi)；排氣部，通過開口部排出收容室內(nèi)的氣體。
本發(fā)明實(shí)施方式的第3特征是，涂敷體的制造方法具有以下步驟將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；把涂敷了液滴的涂敷對象物收容到收容室內(nèi)；將收容室內(nèi)的氣體排出；以使從收容室排出的氣體的排氣流量逐步變化。
本發(fā)明實(shí)施方式的第4特征是，涂敷體的制造方法具有以下步驟將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；使涂敷了液滴的涂敷對象物位于收容位置地將其收容到具有分散板和遮蔽板的收容室內(nèi)，使遮蔽板接近收容著的涂敷對象物；分散板離開涂敷了液滴的涂敷對象物的收容位置，并設(shè)有若干個貫通孔；遮蔽板設(shè)在收容位置與分散板之間，能接近或離開收容位置；通過設(shè)在包括從分散板到頂面?zhèn)鹊膫?cè)面和頂面的面內(nèi)的開口部，排出收容室內(nèi)的氣體。
根據(jù)本發(fā)明，能防止因彈射在涂敷對象物上的液滴表層膜的破裂而導(dǎo)致的涂敷體制造不良。


圖1是表示本發(fā)明第1實(shí)施方式的液滴噴射裝置的概略構(gòu)造的俯視圖。
圖2是表示圖1所示液滴噴射裝置備有的涂敷部的概略構(gòu)造的立體圖。
圖3是表示圖1所示液滴噴射裝置備有的干燥部的概略構(gòu)造的立體圖。
圖4是表示圖3所示干燥部的概略構(gòu)造的示意圖。
圖5是說明抽真空時間和真空壓之間關(guān)系的說明圖。
圖6是表示圖1所示液滴噴射裝置的液滴涂敷處理流程的流程圖。
圖7是表示本發(fā)明第2實(shí)施方式的液滴噴射裝置備有的干燥部的概略構(gòu)造的示意圖。
具體實(shí)施例方式
(第1實(shí)施方式)下面，參照圖1至圖6，說明第1實(shí)施方式。
如圖1所示，第1實(shí)施方式的液滴噴射裝置1備有收容作為涂敷對象物的基板2a的基板收容部3、把液滴噴射涂敷到基板2a上的涂敷部4、使涂敷后的基板2a干燥的干燥部5A、收容干燥后的基板2a即涂敷體2b的涂敷體收容部6、和運(yùn)送部7。該運(yùn)送部7在這些基板收容部3、涂敷部4、干燥部5A及涂敷體收容部6之間進(jìn)行基板2a的運(yùn)送。
基板收容部3具有臺架3a和可裝卸地安裝在該臺架3a上的收容架3b。在收容架3b內(nèi)收容著若干個基板2a。這些基板2a被運(yùn)送部7分別運(yùn)送到涂敷部4。
涂敷部4具有墨水涂敷盒4a和墨水供給盒4b。墨水涂敷盒4a把液體墨水作為液滴涂敷到基板2a上。墨水供給盒4b把墨水供給到該墨水涂敷盒4a。在墨水涂敷盒4a上，設(shè)有噴射液滴的若干個液滴噴射頭8。該涂敷部4，借助各液滴噴射頭8，將墨水作為液滴(墨水滴)噴射，在基板2a的表面涂敷例如濾色鏡的框圖形。另外，涂敷后的基板2a，由運(yùn)送部7從涂敷部4運(yùn)送到干燥部5A。
干燥部5A具有收容涂敷后基板2a的真空腔室等的收容室5a等。該干燥部5A將收容室5a內(nèi)的氣體排出，使收容室5a內(nèi)成為真空，使收容在收容室5a內(nèi)的涂敷后基板2a上的液滴干燥。
涂敷體收容部6具有臺架6a和可裝卸地安裝在該臺架6a上的收容架6b。干燥后的基板2a即涂敷體2b，被運(yùn)送部7運(yùn)送到該收容架6b上并加以收容。
運(yùn)送部7具有可沿上下方向移動的升降軸7a，與該升降軸7a的上端部連接并可在水平面(X-Y平面)內(nèi)轉(zhuǎn)動的連桿7b、7c，和安裝在該連桿7b、7c的前端部的臂7d。該運(yùn)送部7，進(jìn)行升降軸7a的升降及連桿7b、7c的轉(zhuǎn)動，從基板收容部3的收容架3b中取出基板2a，運(yùn)送到涂敷部4，再把涂敷后的基板2a從涂敷部4運(yùn)送到干燥部5A，載置在干燥部5A內(nèi)，另外，把干燥后的基板2a即涂敷體2b，從干燥部5A內(nèi)取出，運(yùn)送到涂敷體收容部6，載置在收容架6b內(nèi)。
下面，詳細(xì)說明涂敷部4。
如圖2所示，在涂敷部4，墨水涂敷盒4a和墨水供給盒4b相鄰地配置著，一起固定在臺架11的上面。
在墨水涂敷盒4a的內(nèi)部設(shè)有保持基板2a并使該基板2a在X軸方向及Y軸方向移動的基板移動機(jī)構(gòu)12、分別具有液滴噴射頭8的三個噴墨頭單元13、使這些噴墨頭單元13一體地在X軸方向移動的單元移動機(jī)構(gòu)14、清掃各液滴噴射頭8的頭維護(hù)單元15、收容墨水的三個墨水緩沖容器16。
基板移動機(jī)構(gòu)12，由Y軸方向?qū)б?7、Y軸方向移動臺18、X軸方向移動臺19、和基板保持臺20疊置而成。這些Y軸方向?qū)б?7、Y軸方向移動臺18、X軸方向移動臺19和基板保持臺20形成為平板狀。
Y軸方向?qū)б?7固定在臺架11的上面。在Y軸方向?qū)б?7的上面，沿Y軸方向設(shè)有若干個導(dǎo)引槽17a。
Y軸方向移動臺18，在其下面設(shè)有分別與各導(dǎo)引槽17a卡合的若干個突起部(圖未示)，可在Y軸方向移動地設(shè)在Y軸方向?qū)б?7的上面。另外，在Y軸方向移動臺18的上面，沿X軸方向設(shè)有若干個導(dǎo)引槽18a。該Y軸方向移動臺18，借助采用進(jìn)給螺桿和驅(qū)動馬達(dá)的進(jìn)給機(jī)構(gòu)(圖未示)，沿各導(dǎo)引槽17a在Y軸方向移動。
X軸方向移動臺19，在其下面設(shè)有與各導(dǎo)引槽18a卡合的突起部(圖未示)，可在X軸方向移動地設(shè)在Y軸方向移動臺18的上面。該X軸方向移動臺19，借助采用進(jìn)給螺桿和驅(qū)動馬達(dá)的進(jìn)給機(jī)構(gòu)(圖未示)，沿各導(dǎo)引槽18a在X軸方向移動。
基板保持臺20，固定地設(shè)在X軸方向移動臺19的上面。該基板保持臺20備有吸附基板2a的吸附機(jī)構(gòu)(圖未示)，借助該吸附機(jī)構(gòu)，將基板2a固定保持在上面。吸附機(jī)構(gòu)例如采用空氣吸附機(jī)構(gòu)等。另外，基板保持臺20，與X軸方向移動臺19一起在Y軸方向移動，可移動到對保持著的基板2a進(jìn)行墨滴涂敷的涂敷位置(見圖1和圖2)、和將基板2a裝卸到基板保持臺20上的載置位置。
單元移動機(jī)構(gòu)14，備有立設(shè)在臺架11上面的一對支柱21、連接在這些支柱21的上端部之間并在X軸方向延伸的X軸方向?qū)б?2、和可在X軸方向移動地設(shè)在該X軸方向?qū)б?2上并支承噴墨頭單元13的基板23。
一對支柱21，在X軸方向夾著Y軸方向?qū)б?7地設(shè)置著。在X軸方向?qū)б?2的前面，沿X軸方向設(shè)有導(dǎo)引槽22a。
基板23，其背面設(shè)有與導(dǎo)引槽22a卡合的突起部(圖未示)，可在X軸方向移動地設(shè)在X軸方向?qū)б?2上。該基板23，借助采用給進(jìn)螺桿和驅(qū)動馬達(dá)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(圖未示)，沿導(dǎo)引槽22a在X軸方向移動。在該基板23的前面，安裝著三個噴墨頭單元13。
各噴墨頭單元13垂設(shè)在基板23上，分別備有液滴噴射頭8。這些液滴噴射頭8分別可裝卸地安裝在各噴墨頭單元13的前端。液滴噴射頭8具有若干個噴出液滴的噴嘴，從各噴嘴向基板2a噴射液滴。
在噴墨頭單元13設(shè)有使液滴噴射頭8在垂直于基板2a面的方向、即Z軸方向移動的Z軸方向移動機(jī)構(gòu)13a，使液滴噴射頭8在Y軸方向移動的Y軸方向移動機(jī)構(gòu)13b，使液滴噴射頭8在θ方向旋轉(zhuǎn)的θ方向旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)13c。這樣，液滴噴射頭8可在Z軸方向及Y軸方向移動，可在θ軸方向旋轉(zhuǎn)。
頭維護(hù)單元15，設(shè)在各噴墨頭單元13的移動方向延長線上，離開Y軸方向?qū)б?7。該頭維護(hù)單元15，用于清掃各噴墨頭單元13的液滴噴射頭8。當(dāng)各噴墨頭單元13的液滴噴射頭8移動到與頭維護(hù)單元15相向的待機(jī)位置時，頭維護(hù)單元15自動地清掃各液滴噴射頭8。
墨水緩沖容器16，利用儲存在其內(nèi)部的墨水的液面與液滴噴射頭8的噴嘴面的水頭差(水頭壓)，調(diào)節(jié)噴嘴前端的墨水的液面(彎液面)。這樣，可以防止墨水的漏出、排出不良。
在墨水供給盒4b的內(nèi)部，可裝卸地安裝著分別收容墨水的若干個墨水容器24。各墨水容器24借助供給管25，通過墨水緩沖容器16分別與液滴噴射頭8連接。即，液滴噴射頭8，通過墨水緩沖容器16從墨水容器24接受墨水的供給。
墨水采用水性墨水、油性墨水及紫外線硬化墨水等各種墨水。油性墨水包括例如顏料、溶劑(墨水溶劑)、分散劑、添加劑和表面活性劑等各種成分。在此，要形成濾色鏡的框時，采用黑墨水。該框是設(shè)在光透過區(qū)域(RGB區(qū)域)周圍的遮光區(qū)域。
溶劑，例如是采用以2∶2∶6的比例將PGMEA(丙二醇單乙基醚乙酸酯)、環(huán)己酮、BCTAC(二甘醇一丁醚乙酸酯)混合而成的溶劑。PGMEA和環(huán)己酮的蒸氣壓是500Pa(20℃)，BCTAC的蒸氣壓是1.3Pa(20℃)。
在臺架11的內(nèi)部，設(shè)有控制液滴噴射裝置1的各部的控制部26、和儲存各種程序的存儲部(圖未示)等?？刂撇?6按照各種程序，進(jìn)行Y軸方向移動臺18的移動控制、X軸方向移動臺19的移動控制、基板23的移動控制、Z軸方向移動機(jī)構(gòu)13a的驅(qū)動控制、Y軸方向移動機(jī)構(gòu)13b的驅(qū)動控制、以及θ方向旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)13c的驅(qū)動控制等。這樣，可以使基板保持臺20上的基板2a和各噴墨頭單元13的液滴噴射頭8的相對位置作各種變化。另外，控制部26按照各種程序，進(jìn)行干燥部5A的驅(qū)動控制及運(yùn)送部7的驅(qū)動控制等。
下面，詳細(xì)說明干燥部5A。
如圖3和圖4所示，干燥部5A備有真空腔室等的收容室5a、作為支承部的若干個支承銷5b(見圖4)、排氣部5c和調(diào)節(jié)部5d。收容室5a收容涂敷后的基板2a。支承銷5b可自由突出沒入地設(shè)在該收容室5a的底面M1上，在突出位置支承著基板2a。排氣部5c從收容在收容室5a內(nèi)的基板2a的下方，將收容室5a內(nèi)的氣體排出。調(diào)節(jié)部5d用于調(diào)節(jié)由該排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量(m3/s)。
收容室5a是箱形，具有可開閉的門31(見圖3)。涂敷后的基板2a從該門31被收容到收容室5a內(nèi)。將門31打開，涂敷后的基板2a被收容到收容室5a內(nèi)，然后，將該門31關(guān)閉以成為氣密狀態(tài)。干燥后，再打開門31，取出干燥后的基板2a即涂敷體2b。另外，收容室5a具有設(shè)在其底面M1上的開口部K1。該開口部K1，設(shè)在包括收容室5a的底面M1和從收容著的基板2a的表面到底面M1側(cè)的側(cè)面M2的面內(nèi)。
支承銷5b是桿狀，在收容室5a的底面M1上設(shè)有若干個。這些支承銷5b，可自由突出沒入地形成在收容室5a的底面M1上，在預(yù)定的突出位置、即基板2a的收容位置，共同地支承基板2a。
排氣部5c具有排氣管32、真空容器33和抽吸部34。排氣管32是與收容室5a的底面M1的開口部K1連接的排氣路徑。真空容器33設(shè)在該排氣管32中。抽吸部34通過排氣管32抽吸收容室5a內(nèi)的氣體。
排氣管32，連接在收容室5a的底面M1的大致中央。真空容器33設(shè)在調(diào)節(jié)部5d與抽吸部34之間。該真空容器33，被抽吸部34抽吸為例如5～10kPa的預(yù)定真空壓，成為真空狀態(tài)。抽吸部34借助排氣管32，通過調(diào)節(jié)部5d及真空容器33與收容室5a連接。抽吸部34例如采用抽氣泵等。該抽吸部34由控制部26驅(qū)動控制，通過排氣管32抽吸收容室5a內(nèi)的氣體并排出。
調(diào)節(jié)部5d可以改變排氣管32的開口率。該調(diào)節(jié)部5d由控制部26驅(qū)動控制，改變排氣管32的開口率。調(diào)節(jié)部5d例如采用蝶閥、電磁閥等的雙位閥等。
該調(diào)節(jié)部5d，根據(jù)控制部26的驅(qū)動控制，改變排氣管32的開口率，使排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量逐步變化(逐步開放)，從收容室5a的底面M1的開口部K1排出收容室5a內(nèi)的氣體，使收容室5a內(nèi)成為真空。這時，控制部26控制調(diào)節(jié)部5d，使排氣流量逐步變化，即，使排氣流量比最大排氣流量小，當(dāng)收容室5a內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使排氣流量成為最大排氣流量。
這樣，例如圖5所示，可得到波形A的真空曲線。波形A是改變排氣管32的開口率、使排氣流量逐步變化、將收容室5a內(nèi)的氣體排出時的波形。波形B是將排氣管32的開口率設(shè)定為100％(全開)、不改變排氣流量、快速地將收容室5a內(nèi)的氣體排出時的波形(比較例)。
首先，由控制部26驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，將排氣管32的開口率調(diào)節(jié)為40％。這樣，排氣管32的開口率為40％，以第1階段的排氣流量，將收容室5a內(nèi)的氣體排出(圖5中的100s附近)。
接著，由控制部26驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，當(dāng)真空壓例如成為30～50kPa時(從開始抽吸約100s后)，將排氣管32的開口率調(diào)節(jié)為100％(全開)。這樣，排氣管32的開口率為100％，以第2階段的排氣流量，將收容室5a內(nèi)的氣體排出(圖5中的100s附近以后)。該第2階段的排氣流量比第1階段的排氣流量多。
下面，說明該液滴噴射裝置1的液滴涂敷處理。液滴噴射裝置1的控制部26按照各種程序，執(zhí)行液滴噴射處理。
如圖6所示，控制部26驅(qū)動控制運(yùn)送部7，從基板收容部3的收容架3b中取出基板2a，運(yùn)送到涂敷部4。把該基板2a載置在涂敷部4的基板保持臺20上(步驟S1)。該基板2a借助吸附機(jī)構(gòu)保持在基板保持臺20上。另外，基板保持臺20在載置位置待機(jī)。
接著，控制部26驅(qū)動控制涂敷部4，對基板保持臺20上的基板2a進(jìn)行液滴的涂敷(步驟S2)。具體地說，控制部26驅(qū)動控制涂敷部4，使基板保持臺20從載置位置移動到涂敷位置，使各噴墨頭單元13從待機(jī)位置移動到與基板2a相向的位置。然后，控制部26驅(qū)動控制Y軸方向移動臺18和X軸方向移動臺19，另外，驅(qū)動控制各噴墨頭單元13的液滴噴射頭8，用各液滴噴射頭8將液滴噴射到作為涂敷對象物的基板2a上，進(jìn)行噴射動作。
這樣，各液滴噴射頭8，將墨水作為液滴從各噴嘴分別噴射，將這些液滴彈射到移動的基板2a上，依次形成預(yù)定圖形的點(diǎn)陣。噴射動作結(jié)束后，控制部26使各噴墨頭單元13返回待機(jī)位置，使基板保持臺20從涂敷位置移動到載置位置。
然后，控制部26驅(qū)動控制運(yùn)送部7，從在載置位置待機(jī)的基板保持臺20上取出涂敷后的基板2a，將其運(yùn)送到干燥部5A，將該基板2a載置到干燥部5A的收容室5a內(nèi)(步驟S3)。該基板2a在收容室5a內(nèi)由各支承銷5b支承著。
控制部26驅(qū)動控制干燥部5A，使干燥部5A的收容室5a內(nèi)的涂敷后的基板2a干燥(步驟S4)。具體地說，控制部26驅(qū)動控制排氣部5c，先把真空容器33內(nèi)形成為例如5～10kPa的預(yù)定真空壓，然后，驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，從收容室5a的底面M1的開口部K1排出收容室5a內(nèi)的氣體，使收容室5a內(nèi)成為真空。這時，控制部26驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，使排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量逐步變化，即，將排氣管32的開口率調(diào)節(jié)為40％、使排氣流量小于最大排氣流量，當(dāng)收容室5a內(nèi)的真空壓達(dá)到例如30～50kPa的預(yù)定真空壓時，將排氣管32的開口率調(diào)節(jié)為100％、使排氣流量成為最大排氣流量。這樣，收容室5a內(nèi)的真空壓如圖5所示波形A那樣地變化，收容室5a內(nèi)成為真空狀態(tài)，涂敷后的基板2a的干燥完成。
然后，控制部26驅(qū)動控制運(yùn)送部7，從干燥部5A的收容室5a內(nèi)取出干燥后的基板2a即涂敷體2b，將其運(yùn)送到涂敷體收容部6，將該基板2a載置在涂敷體收容部6的收容架6b內(nèi)(步驟S5)。
接著，控制部26判斷對收容在基板收容部3內(nèi)的全部基板2a的墨滴涂敷是否已完成(步驟S6)。在此，該判斷是通過對涂敷后的基板2a的數(shù)目進(jìn)行計(jì)數(shù)，看該計(jì)數(shù)值是否達(dá)到預(yù)定的值而進(jìn)行的。當(dāng)判斷為已完成對全部基板2a的墨滴涂敷時(步驟S6的“是”)，結(jié)束處理。當(dāng)判斷為未完成對全部基板2a的墨滴涂敷時(步驟S6的“否”)，返回步驟S1的處理，重復(fù)上述處理。
如上所述，根據(jù)第1實(shí)施方式，調(diào)節(jié)部5d調(diào)節(jié)排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量，通過控制調(diào)節(jié)部5d，使該排氣流量逐步變化，可以抑制氣流在收容室5a內(nèi)的產(chǎn)生，所以，可以抑制在彈射到基板2a上的液滴(墨滴)的表面上形成表層膜，可以防止因該表層膜的破裂而導(dǎo)致涂敷體2b的制造不良。
另外，通過控制調(diào)節(jié)部5d，使排氣流量小于最大排氣流量，當(dāng)收容室5a內(nèi)的真空壓成為預(yù)定的真空壓時，使排氣流量成為最大排氣流量，這樣，可以切實(shí)地抑制氣流在收容室5a內(nèi)的產(chǎn)生，可以切實(shí)地抑制在彈射到基板2a上的液滴(墨滴)的表面上形成表層膜。
另外，收容室5a具有開口部K1，該開口部K1設(shè)在包括從收容著的基板2a的表面到底面M1側(cè)的側(cè)面M2和底面M1的面內(nèi)。排氣部5c通過開口部K1排出收容室5a內(nèi)的氣體，所以，可更加切實(shí)地抑制氣流在收容室5a內(nèi)的產(chǎn)生，從而可更加切實(shí)地抑制在彈射到基板2a上的液滴(墨滴)的表面上形成表層膜。
(第2實(shí)施方式)下面，參照圖5和圖7說明本發(fā)明的第2實(shí)施方式。
本發(fā)明的第2實(shí)施方式，基本上與第1實(shí)施方式相同。在第2實(shí)施方式中，只說明與第1實(shí)施方式的不同點(diǎn)。與第1實(shí)施方式中相同的部分注以相同標(biāo)記，其說明從略。
如圖7所示，干燥部5B備有真空腔室等的收容室5a、作為支承部的若干個支承銷5b、排氣部5c和調(diào)節(jié)部5d。收容室5a收容涂敷后的基板2a。支承銷5b可自由突出沒入地設(shè)在該收容室5a的底面M1上，在突出位置支承著基板2a。排氣部5c從收容在收容室5a內(nèi)的基板2a的上方，將收容室5a內(nèi)的氣體排出。調(diào)節(jié)部5d用于調(diào)節(jié)該排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量(m3/s)。
在收容室5a內(nèi)，設(shè)有分散板41、遮蔽板42和移動部43。分散板41離開收容著涂敷后的基板2a的收容位置，并具有若干個貫通孔41a。遮蔽板42設(shè)在收容位置與分散板41之間，可接近或離開收容位置。移動部43使該遮蔽板42朝著接近或離開被各支承銷5b支承著的基板2a的方向移動。另外，收容室5a具有設(shè)在其頂面M3上的開口部K2。該開口部K2，設(shè)在包括收容室5a的頂面M3和從分散板41的表面到頂面M3側(cè)的側(cè)面M2的面內(nèi)。
分散板41將收容室5a內(nèi)分隔為上側(cè)空間和下側(cè)空間。在該分散板41上，形成了例如四邊形的貫通孔41a。分散板41例如采用沖孔板等。在收容室5a的上側(cè)空間，連接著排氣部5d，在下側(cè)空間，收容著涂敷后的基板2a。
遮蔽板42，可在涂敷后的基板2a的收容位置、即被各支承銷5b支承著的基板2a與分散板41之間移動，可以接近或離開該基板2a。遮蔽板42例如采用玻璃板等。排氣部5c進(jìn)行排氣時，遮蔽板42位于接近基板2a的接近位置。這時的遮蔽板42與基板2a的離開距離(間隙)是例如5～10mm左右。
移動部43支承著遮蔽板42，使該遮蔽板42朝著接近或離開基板2a的方向移動。這樣，遮蔽板42在基板2a的收容位置與分散板41之間，沿上下方向移動。該移動部43由控制部26驅(qū)動控制。另外，排氣部5c進(jìn)行排氣時，移動部43使遮蔽板42接近基板2a，使遮蔽板42與基板2a之間的離開距離為例如5～10mm左右。另外，運(yùn)送部7進(jìn)行運(yùn)送時，移動部43使遮蔽板42以不妨礙運(yùn)送部7的運(yùn)送動作的方式離開基板2a。
排氣部5c具有排氣管44、真空容器45和抽吸部46。排氣管44是與收容室5a的頂面M3的開口部K2連接的排氣路徑。真空容器45設(shè)在該排氣管44中。抽吸部46通過排氣管44抽吸收容室5a內(nèi)的氣體。
排氣管44，連接在收容室5a的頂面M3的大致中央。真空容器45設(shè)在調(diào)節(jié)部5d與抽吸部46之間。該真空容器45，被抽吸部46抽吸為例如5～10kpa的預(yù)定真空壓，成為真空狀態(tài)。抽吸部46借助排氣管44，通過調(diào)節(jié)部5d及真空容器45與收容室5a連接。抽吸部46例如采用抽氣泵等。該抽吸部46由控制部26驅(qū)動控制，通過排氣管44抽吸收容室5a內(nèi)的氣體，進(jìn)行排氣。
調(diào)節(jié)部5d可以改變排氣管44的開口率。該調(diào)節(jié)部5d由控制部26驅(qū)動控制，改變排氣管44的開口率。調(diào)節(jié)部5d例如采用蝶閥、電磁閥等的開閉閥等。
該調(diào)節(jié)部5d，根據(jù)控制部26的驅(qū)動控制，將排氣管44的開口率調(diào)節(jié)為100％(全開)，使排氣部5c從收容室5a內(nèi)排出的氣體的排氣流量成為最大排氣流量，從收容室5a的頂面M3的開口部K2快速排出收容室5a內(nèi)的氣體，使收容室5a內(nèi)成為真空。這時，控制部26驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，使排氣流量成為最大排氣流量。這樣，例如圖5所示，可得到波形B的真空曲線。
液滴噴射裝置1的液滴涂敷處理流程與第1實(shí)施方式相同(見圖6)。在圖6中的步驟S4中，控制部26驅(qū)動控制干燥部5B，使干燥部5B的收容室5a內(nèi)的涂敷后的基板2a干燥(步驟S4)。具體地說，控制部26先驅(qū)動控制移動部43，使遮蔽板42接近基板2a，直至收容在收容位置的基板2a與遮蔽板42之間的離開距離為例如5～10mm左右。然后，控制部26驅(qū)動控制排氣部5c，將真空容器45內(nèi)形成為例如5～10kPa的預(yù)定真空壓，然后，驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，從收容室5a的頂面M3的開口部K2排出收容室5a內(nèi)的氣體，使收容室5a內(nèi)形成為真空。這時，控制部26驅(qū)動控制調(diào)節(jié)部5d，將排氣管44的開口率調(diào)節(jié)為100％，使排氣流量成為最大排氣流量。這樣，收容室5a內(nèi)的真空壓，如圖5所示的波形B那樣地變化，收容室5a內(nèi)成為真空狀態(tài)，涂敷后的基板2a的干燥完成。
如上所述，根據(jù)第2實(shí)施方式，把具有若干個貫通孔41a的分散板41設(shè)在收容室5a內(nèi)，在該分散板41的下方設(shè)置遮蔽板42，將涂敷后的基板2a位于遮蔽板42的下方，接近遮蔽板42地收容著，從分散板41的上方排出收容室5a內(nèi)的氣體，這樣，可以抑制氣流在收容室5a內(nèi)的產(chǎn)生，所以，可以抑制在彈射到基板2a上的液滴(墨滴)的表面上形成表層膜，可以防止因該表層膜的破裂而導(dǎo)致涂敷體2b的制造不良。
(其它實(shí)施方式)本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，在不脫離其主旨的范圍內(nèi)，可以作各種變更。
例如，在前述的第1實(shí)施方式中，是如下控制調(diào)節(jié)部5d的使排氣流量小于最大排氣流量，當(dāng)收容室5a內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使排氣流量成為最大排氣流量。但并不限定于此，例如，也可以這樣地控制調(diào)節(jié)部5d使排氣流量反復(fù)變化，當(dāng)收容室5a內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使排氣流量成為最大排氣流量。這時，調(diào)節(jié)部5d先將排氣管32的開口率反復(fù)地變更為100％(全開)和0％(全閉)，然后，將排氣管32的開口率調(diào)節(jié)為100％、使排氣流量成為最大排氣流量。這時，控制部26進(jìn)行例如PWN(脈沖持續(xù)時間調(diào)制)控制等，控制調(diào)節(jié)部5d，使排氣管32的開口率反復(fù)地變更為100％和0％，成為所需的排氣流量曲線。
另外，在前述第1實(shí)施方式中，將排氣流量分為兩個階段地排出收容室5a內(nèi)的氣體，但并不限定于此，例如也可以將排氣流量分為三或四個階段地排出收容室5a內(nèi)的氣體。另外，初期的排氣流量，設(shè)定為比其它的排氣流量少。
另外，在前述第1實(shí)施方式中，調(diào)節(jié)部5d采用開閉閥，但并不限定于此，例如也可以采用雙聯(lián)泵等。
另外，在前述第1實(shí)施方式中，是將排氣管32連接在收容室5a的底面M1上，但并不限定于此，例如，也可以連接在從收容著的基板2a的表面到底面M1側(cè)的側(cè)面M2上。另外，在第1實(shí)施方式中，是將一根排氣管32與收容室5a連接，通過該排氣管32，用抽吸部34排出收容室5a內(nèi)的氣體。但并不限定于此，例如，也可以將兩根排氣管32與收容室5a連接，通過這些排氣管32，用抽吸部34排出收容室5a內(nèi)的氣體。這時，兩根排氣管32配置在不產(chǎn)生促進(jìn)墨水表面形成表層膜的氣流的位置。
另外，在前述第2實(shí)施方式中，是將排氣管44連接在收容室5a的頂面M3上，但并不限定于此，例如，也可以連接在從分散板41的表面到頂面M3側(cè)的側(cè)面M2上。另外，在第2實(shí)施方式中，是將一根排氣管44與收容室5a連接，通過該排氣管44，用抽吸部46排出收容室5a內(nèi)的氣體。但并不限定于此，例如，也可以將兩根排氣管44與收容室5a連接，通過這些排氣管44，用抽吸部46排出收容室5a內(nèi)的氣體。這時，兩根排氣管44，配置在不產(chǎn)生促進(jìn)墨水表面形成表層膜的氣流的位置。
權(quán)利要求
1.一種液滴噴射裝置，其特征在于，備有將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上的涂敷部；收容涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物的收容室；將上述收容室內(nèi)的氣體排出的排氣部；調(diào)節(jié)上述排氣部從上述收容室內(nèi)排出的上述氣體的排氣流量的調(diào)節(jié)部；以使上述排氣流量逐步變化的方式控制上述調(diào)節(jié)部的控制機(jī)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的液滴噴射裝置，其特征在于，上述控制機(jī)構(gòu)控制上述調(diào)節(jié)部，使上述排氣流量小于最大排氣流量，當(dāng)上述收容室內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使上述排氣流量成為上述最大排氣流量。
3.如權(quán)利要求1所述的液滴噴射裝置，其特征在于，上述控制機(jī)構(gòu)控制上述調(diào)節(jié)部，使上述排氣流量反復(fù)變化，當(dāng)上述收容室內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使上述排氣流量成為最大排氣流量。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的液滴噴射裝置，其特征在于，上述收容室具有開口部，該開口部設(shè)在包括從收容著的上述涂敷對象物的表面到底面?zhèn)鹊膫?cè)面和上述底面的面內(nèi)，上述排氣部通過上述開口部排出上述收容室內(nèi)的氣體。
5.一種液滴噴射裝置，其特征在于，備有涂敷部、收容室和排氣部；上述涂敷部，將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；上述收容室具有分散板和遮蔽板；該分散板離開涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物的收容位置，并設(shè)有若干個貫通孔；該遮蔽板設(shè)在上述收容位置與上述分散板之間，能接近或離開上述收容位置；該收容室將涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物收容在上述收容位置；上述排氣部，排出上述收容室內(nèi)的氣體；上述收容室具有開口部，該開口部設(shè)在包括從上述分散板的表面到頂面?zhèn)鹊膫?cè)面和上述頂面的面內(nèi)；上述排氣部，通過上述開口部排出上述收容室內(nèi)的氣體。
6.一種涂敷體的制造方法，其特征在于，具有以下步驟將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；把涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物收容到收容室內(nèi)；將上述收容室內(nèi)的氣體排出；使從上述收容室內(nèi)排出的上述氣體的排氣流量逐步變化。
7.如權(quán)利要求6所述的涂敷體的制造方法，其特征在于，在使上述排氣流量逐步變化的步驟中，使上述排氣流量小于最大排氣流量，當(dāng)上述收容室內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使上述排氣流量成為上述最大排氣流量。
8.如權(quán)利要求6所述的涂敷體的制造方法，其特征在于，在使上述排氣流量逐步變化的步驟中，使上述排氣流量反復(fù)變化，當(dāng)上述收容室內(nèi)的真空壓達(dá)到預(yù)定的真空壓時，使上述排氣流量成為最大排氣流量。
9.如權(quán)利要求6、7或8所述的涂敷體的制造方法，其特征在于，在上述形成真空的步驟中，通過上述收容室的開口部，排出上述收容室內(nèi)的氣體，上述開口部設(shè)在包括從收容在上述收容室內(nèi)的上述涂敷對象物表面到底面?zhèn)鹊膫?cè)面和上述底面的面內(nèi)。
10.一種涂敷體的制造方法，其特征在于，具有以下步驟將液滴噴射涂敷到涂敷對象物上；使涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物位于收容位置地將其收容到具有分散板和遮蔽板的收容室內(nèi)，使上述遮蔽板接近收容著的上述涂敷對象物；上述分散板離開涂敷了上述液滴的上述涂敷對象物的上述收容位置，并設(shè)有若干個貫通孔；上述遮蔽板設(shè)在上述收容位置與上述分散板之間，能接近或離開上述收容位置；通過設(shè)在包括從上述分散板到頂面?zhèn)鹊膫?cè)面和上述頂面的面內(nèi)的開口部，排出上述收容室內(nèi)的氣體。
全文摘要
本發(fā)明提供的液滴噴射裝置，能防止因彈射到涂敷對象物表面的液滴的表層膜破裂而導(dǎo)致的涂敷體的制造不良。本發(fā)明的液滴噴射裝置備有將液滴噴射涂敷到涂敷對象物(2a)上的涂敷部；收容涂敷了液滴的涂敷對象物(2a)的收容室(5a)；將收容室(5a)內(nèi)的氣體排出的排氣部(5c)；調(diào)節(jié)排氣部(5c)從收容室(5a)內(nèi)排出的氣體的排氣流量的調(diào)節(jié)部(5d)；以使排氣流量逐步變化的方式控制調(diào)節(jié)部(5d)的控制機(jī)構(gòu)。
文檔編號B05D3/00GK101041149SQ200610172148
公開日2007年9月26日 申請日期2006年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月22日
發(fā)明者石原治彥, 木名瀨淳 申請人:株式會社東芝