專利名稱：分散漿料的涂敷裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種利用涂敷輥將使固體顆粒分散在分散介質(zhì)中的分散漿料涂敷在連續(xù)行進的基材表面上的涂敷裝置，特別是涉及一種改進的涂敷裝置，無論是具有易于附著在涂敷輥表面上的性質(zhì)的分散漿料，還是使易于沉淀的以固相組分分散的分散漿料，都能將分散漿料穩(wěn)定且均勻地涂敷在連續(xù)行進的基材上。
作為上述分散漿料的一個例子，有使高吸水性樹脂(以下稱為SAP)分散在分散介質(zhì)中的分散漿料，通過將該分散漿料涂敷在非編織物基材上，可以獲得薄層吸收體。
背景技術：
伴隨著吸收體產(chǎn)品的超薄型化，使SAP薄層化的技術變得非常重要。其中，作為有效的方法，利用CMC、MFC、PEO等粘度調(diào)整劑，使SAP分散在水、有機溶劑或有機溶劑/水的混合溶劑中，調(diào)制漿料，并將其涂敷在支持體上的方法被嘗試。例如在特開平10-168230號公報中，公開了使用柵格狀的涂敷機和吻合式涂敷機的例子，在特開平11-34200號公報中，公開了利用管狀的噴嘴進行涂敷的例子，在特開平11-128825號公報中，公開了模具涂敷機、幕簾式涂敷機、刮刀式涂敷機、噴射式涂敷機的例子，在特開平11-22646號公報中，公開了從緩沖罐導向溢流噴嘴的例子，在特開2000-5674號公報中，公開了利用接觸頭進行構圖涂敷的例子。
在對各種基材表面進行涂敷處理時，與待涂敷的液體是均勻的溶液的情況不同，使固體顆粒分散在分散介質(zhì)中的分散漿料容易由于相分離、沉淀、凝集等而發(fā)生部分濃度變化。在涂敷分散漿料時，在各種涂敷裝置中，優(yōu)選利用結構比較簡單、價格便宜的輥涂敷裝置，但也容易發(fā)生分散漿料中的固體顆粒的沉淀、或者附著在涂敷輥表面上的現(xiàn)象。當發(fā)生沉淀或附著現(xiàn)象時，涂敷表面變得不均勻，或者在行進過程中發(fā)生阻塞，從而難以進行均勻、穩(wěn)定的涂敷處理。
為了減輕這樣的分散漿料的沉淀或附著現(xiàn)象，進行了如下嘗試，即用剝離性好的硅酮、特氟隆等材料對涂敷輥表面進行表面處理，或者用刮板進行刮除，或者使輥向正方向或反方向旋轉(zhuǎn)，使之處于易于剝離的狀態(tài)。
與這樣的固相組分分散漿料相比，SAP分散漿料的流動性差，并且為淤泥狀，所以難以進行穩(wěn)定且均勻的涂敷，實現(xiàn)工業(yè)化的方法尚未開發(fā)出來。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能在涂敷基重(單位面積重量)較大的范圍內(nèi)不發(fā)生阻塞、在較大速度范圍內(nèi)進行寬度方向和長度方向均勻的SAP分散漿料的涂敷的涂敷裝置。
本發(fā)明的涂敷裝置的特征在于，具有行進裝置，使上述非編織物基材在水平方向上連續(xù)行進；上部開放的水頭槽，位于行進中的上述非編織物基材的上方，在上述非編織物基材的上表面形成貯留上述分散漿料的槽；液體密封板，位于上述水頭槽的下方，使得上述分散漿料不從上述非編織物基材的下表面泄漏而進行密封；以及涂敷輥，做相對上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉(zhuǎn)，上述涂敷輥被構成為，調(diào)整對上述非編織物基材以及涂敷在其表面上的分散漿料的擠壓力，同時使上述分散漿料的涂敷表面平滑。
本發(fā)明優(yōu)選實施方式的涂敷裝置還具有覆蓋薄膜，在從上述涂敷輥圓周面的最上端附近的位置到最下端附近的位置的范圍內(nèi)，覆蓋上述涂敷輥圓周面而設置，并且上述分散漿料被供給在上述覆蓋薄膜的前端部與上述非編織物基材表面之間。
本發(fā)明的涂敷裝置可以具有支持輥，配置在與上述涂敷輥相向的位置上，在上下方向上與上述涂敷輥一起將上述非編織物基材夾在中間，并且做相對上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉(zhuǎn)。
上述覆蓋薄膜的前端部可以不固定，或者可以除了上述覆蓋薄膜的前端部之外上述覆蓋薄膜的其余部分在上述涂敷輥的軸向的兩端部被側(cè)面密封部固定，使得被保持在沿上述涂敷輥圓周面的規(guī)定位置上。
上述覆蓋薄膜可以由將物理性質(zhì)彼此不同的2片薄膜重疊的疊層薄膜構成。
在上述2片薄膜中，優(yōu)選第一薄膜延伸到越過上述側(cè)面密封部的位置，并且被上述側(cè)面密封部固定，第二薄膜具有僅覆蓋上述側(cè)面密封部內(nèi)側(cè)的寬度。
上述第一薄膜配置在與上述涂敷輥相向的位置上，并且上述第二薄膜配置在其外側(cè)的位置上。
或者，上述第二薄膜配置在與上述涂敷輥相向的位置上，并且上述第一薄膜配置在其外側(cè)的位置上。
在上述非編織物基材的行進方向上，上述第一薄膜可以比第二薄膜短。
上述第一和第二薄膜可以在其至少一部分上相互接合。
優(yōu)選上述第一薄膜為厚度50μm以上的PET薄膜，上述第二薄膜由厚度50μm以下的PET薄膜構成。
在上述非編織物基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部可以從上述涂敷輥圓周面的最下端起向下游側(cè)僅延伸所要求的長度。
另一方面，上述涂敷輥的直徑優(yōu)選在100～500mm的范圍內(nèi)，并且在上述基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部優(yōu)選從上述最下端位置起向下游側(cè)僅延伸1～50mm。
在希望防止上述覆蓋薄膜的前端部與上述涂敷輥圓周面接觸的情況下，還具有分離器。
為了在上述非編織物基材的表面上形成涂敷圖案，還設有圖案墊片。由此，在上述基材的行進方向上，限制從上述覆蓋薄膜的前端起向著下游側(cè)供給上述基材表面的上述分散漿料，使不供給上述基材的表面，從而形成所希望的涂敷圖案。
上述涂敷輥在其表面上具有凹凸。由此，在上述涂敷輥表面與上述覆蓋薄膜之間局部地存在非接觸部分，從而可以避免兩者間過度的接觸摩擦。
上述固相成分可以包括粒子狀、粉末狀或薄片狀的SAP，此時優(yōu)選的上述分散介質(zhì)是有機溶劑與水的混合溶劑。
上述固相成分可以是具有1000μm以下粒徑的SAP，上述分散介質(zhì)可以是對SAP具有膨潤抑制作用的有機溶劑與水的混合溶劑。
上述基材無論其種類如何，只要是非編織物即可，并且是多孔性非編織物。
根據(jù)上述的本發(fā)明，在進行基重范圍較大的非編織物基材的涂敷時，不會發(fā)生分散漿料的阻塞，并且能在較大速度范圍內(nèi)在寬度方向和長度方向上以均勻的厚度進行分散漿料的涂敷。從而所獲得的涂敷膜的厚度均勻，表面平滑。
此外，在使用覆蓋薄膜的情況下，在不使涂敷裝置本身復雜化以及設備成本大幅上升的情況下，不僅能解決輥式涂敷機的分散漿料附著在涂敷輥表面上的問題，而且對條形涂敷機和刀刃狀涂敷機等基材與涂敷機直接接觸的涂敷機也是通用的。特別是在使吸收性固相粒子分散在水/有機溶劑混合液的分散介質(zhì)中的分散漿料的情況下，即使吸水性固相粒子的表面粘著性大，也能進行均勻、穩(wěn)定的涂敷處理。


圖1是表示本發(fā)明的接觸涂敷裝置的基本結構的圖。
圖2是用于說明由水頭槽所供給的SAP分散漿料形成SAP承載薄板的過程的示意圖。
圖3A～3C是表示水頭槽的水頭長度(L)的效果的圖。
圖4A～4C是表示涂敷輥和支持輥的配置狀態(tài)的圖。
圖5A～5B是表示本發(fā)明的代表性的涂敷系統(tǒng)的構成的圖，5A是側(cè)視圖，5B是俯視圖。
圖6是表示在涂敷裝置的下游側(cè)設置了第一吸收脫溶劑裝置和第二吸收脫溶劑裝置的圖。
圖7a～7B是以內(nèi)插式插入梳齒的實施例的圖，7A是側(cè)視圖，7B是俯視圖。
圖8A～8B是以外插式插入梳齒的實施例的圖，8A是側(cè)視圖，8B是俯視圖。
圖9是表示棉紙和棉網(wǎng)的復合基材的制造、一邊用高壓水流交織裝置對該復合基材進行交織結合，一邊進行SAP分散漿料涂敷、以及脫溶劑、干燥等處理的整個流程的圖。
圖10是表示使用覆蓋薄膜的本發(fā)明的涂敷裝置的實施方式的剖視圖。
圖11A～11B示出了使用覆蓋薄膜的本發(fā)明另一個實施方式的涂敷裝置，11A是剖視圖，11B是正視圖。
圖12A～12B示出了使用覆蓋薄膜的本發(fā)明另一個實施方式的涂敷裝置，12A是剖視圖，12B是正視圖。
圖13A～13C是表示涂敷輥最下端的位置與從該最下端位置起沿基材行進方向而向下游側(cè)延伸的覆蓋薄膜的自由端之間的各個不同位置關系的說明圖。
圖14A～14C是表示本發(fā)明的涂敷裝置中的涂敷輥、覆蓋薄膜和圖案墊片的關系的說明圖。
圖15A～15C是表示將涂敷輥和覆蓋薄膜的自由端之間的距離保持為所要求的數(shù)值的裝置的各個不同的具體實施例的說明圖。
圖16A～16C是在本發(fā)明的涂敷裝置中應用的雙層覆蓋薄膜的各個不同覆蓋范圍的說明圖。
圖17A～17B是表示在使用2片覆蓋薄膜時，彼此長度的關系的說明圖。
圖18A～18B是表示在本發(fā)明的涂敷裝置中應用的雙層覆蓋薄膜的各個覆蓋范圍的說明圖。
具體實施例方式
以下參照附圖，對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行詳細說明。
在此之前，為了理解本發(fā)明，首先需要了解SAP和SAP分散漿料的性質(zhì)、非編織物基材的性質(zhì)。
將高粘度且流動性好的漿料涂敷在平滑的薄膜或金屬箔上的技術在工業(yè)上已經(jīng)是成熟的技術，該技術大致分為模型涂敷、幕簾式涂敷、噴嘴涂敷這樣的擠出方式和具有涂敷頭槽的涂敷頭溢流方式兩類。作為具有涂敷頭的方式，唇式直接涂敷頭、間歇式直接涂敷頭、間歇式反轉(zhuǎn)涂敷頭、底區(qū)反轉(zhuǎn)輥式涂敷頭、直接凹版涂敷頭、吻合式涂敷頭、擠壓式涂敷頭等以及應用于各種用途的涂敷頭被提出。
但是，在將SAP分散漿料涂敷在凹凸不平的非編織物基材上的工序中，即使應用這些現(xiàn)有的涂敷裝置，也極難實現(xiàn)穩(wěn)定且均勻的涂敷。
因此，在實施本發(fā)明時，應考慮以下條件。
(1)SAP和SAP分散漿料的性質(zhì)SAP分為利用聚合法而呈現(xiàn)球狀的SAP和薄片狀的SAP，如果設兩方近似為球狀，并測定粒徑，會發(fā)現(xiàn)其具有30～1000μm的廣泛分布，形狀不規(guī)則，并且膨松。當然，其對水分極其敏感。
當使SAP在分散介質(zhì)中分散為懸浮狀時，它容易自己凝集(紙漿技術雜志1079、第52卷、第8號(1998))，而極不穩(wěn)定，但在有機溶劑/水的混合溶劑中可以懸浮化。但是，如果攪拌，則在瞬間就會沉淀，所以利用粘度調(diào)節(jié)劑或粘結材料使?jié){料穩(wěn)定。其結論是，現(xiàn)在最優(yōu)選的條件是與MFC(微纖維狀纖維素)共存。
即使這樣穩(wěn)定的漿料，也與通常在工業(yè)中使用的漿料不同，由于易沉淀，并且成為砂狀或淤泥狀而流動性差，所以需要總是在攪拌狀態(tài)下使用。
(2)非編織物基材的性質(zhì)在本發(fā)明中使用的非編織物基材，有紡粘型織物、紡粘型/熔噴法織物復合體、射流噴網(wǎng)法織物、熱粘合織物、氣流法織物、縐紙、絨毛編織物、毛巾狀編織物，它優(yōu)選具有多孔、承載漿料中的固相物質(zhì)、并且容易使分散介質(zhì)透過的結構。
優(yōu)選的非編織物基材具有能將SAP承載在其組織中的結構，并且膨松，如后所述，將棉網(wǎng)重疊在例如縐紙上，使兩者部分交織接合，得到基重為20g/m2、厚度為1.5mm左右的輕軟的、圖9所示的非編織物基材。當利用已有的涂敷機對這樣的基材進行涂敷時，厚度變形較大，成為基重不均勻性較大的基材。
(3)對干燥狀態(tài)的非編織物進行直接涂敷以及對分散介質(zhì)飽和的非編織物進行涂敷為了進一步理解SAP和非編織物的特性，表1示出了對干燥狀態(tài)的非編織物和利用分散介質(zhì)填充空隙的狀態(tài)的非編織物進行的兩種涂敷例子的比較。
為了進行該實驗，準備了如下的基材和SAP分散漿料。
表1基材和分散漿料的詳細非編織物基材<紡粘型/熔噴法織物復合體薄板>
·紡粘型 12g/m2(Avgol公司制造)織物·棉網(wǎng)PET(6d×51mm)、25g/m2·厚度 2mm漿料條件·SAP 三菱化學制造的？6(ァクァパ一ル)(粒徑500μm)·分散介質(zhì) 乙醇/水＝70/30·漿料組成 SAP 20％MFC 0.5％分散介質(zhì) 75％
利用圖5A～5B所示的流程進行涂敷。設置的涂敷機的間隙，在上游入口側(cè)固定為1.5mm，在下游出口側(cè)在1.0～1.6mm間變動，并且以20m/min進行涂敷加工。干燥狀態(tài)的棉網(wǎng)直接進行涂敷加工，飽和狀態(tài)的棉網(wǎng)把乙醇/水＝70/30的分散介質(zhì)利用預涂敷部添加變?yōu)樽灾氐?00％的量進行涂敷加工。
表2示出了其實驗結果。在對干燥狀態(tài)的非編織物基材進行直接涂敷的情況下，SAP的涂敷基重接近為300g/m2，間隙幾乎不變。該基重相當于將SAP分散漿料浸入干棉網(wǎng)中，然后將棉網(wǎng)作為過濾器而除去的分散介質(zhì)的量。另一方面，在分散介質(zhì)飽和的非編織物基材的情況下，涂敷量隨間隙而變化。
表2涂敷條件 如表2所示，本發(fā)明提出了如下的裝置和方法，該裝置和方法將①在基材干燥狀態(tài)下進行涂敷、②以分散介質(zhì)使基材飽和后進行涂敷、③活用基材的過濾器效應、④以利用涂敷輥進行表面涂敷加工為主，亦這4種狀態(tài)巧妙地接合起來。
以下，利用附圖進行詳細說明。
(本發(fā)明的涂敷裝置的基本結構)圖1示出了本發(fā)明的接觸涂敷裝置的基本結構。
該涂敷裝置由以下部分構成后攔板7，具有適當?shù)暮髷r板間隙(C)而配置在用于運送非編織物基材1的網(wǎng)狀運送機6上；涂敷輥4；支持輥5，通過網(wǎng)狀運送機6而被配置在與上述涂敷輥4相向的位置上；以及護板3，設在網(wǎng)狀運送機6的下方，用于在后攔板7和涂敷輥4之間對形成于非編織物基材1上方的水頭槽2的下表面進行密封。
水頭槽2被形成在后攔板7和涂敷輥4之間。水頭槽2提供一次貯留漿料液的空間。如果非編織物基材1的寬度一定，則水頭槽2的容積由其長度方向的距離(以下稱為水頭槽長度(L))確定，貯留在該水頭槽2中的漿料的貯留量由水頭槽2的高度(H)確定。該貯留量是根據(jù)所要求的涂敷基重和非編織物基材1的行進速度等條件而被適當控制的。
在涂敷作業(yè)中，根據(jù)所使用的非編織物基材的表觀上的厚度(即松密度)而使后攔板7上下移動，調(diào)節(jié)后攔板間隙(C)。一般，將非編織物基材1的松密度設定得稍低。例如，在4mm膨松的棉網(wǎng)的情況下，調(diào)節(jié)為3mm左右。后攔板間隙(C)不受速度變化、基重變化影響。間隙(D)是重要的控制要素，它與水頭槽2的高度(H)相關連，根據(jù)基重、基材的性能、其行進速度、以及涂敷圖案等多種條件來進行微調(diào)。但是其變化范圍為1.0～2.0mm左右。將支持輥5的位置固定，測量與支持輥5的距離，使涂敷輥4上下移動，來進行間隙(D)的調(diào)節(jié)。
護板3的作用是通過網(wǎng)狀運送機6來對水頭槽2的下表面進行密封，它在上游側(cè)覆蓋從后攔板7的位置或其上游側(cè)到接近支持輥5的位置。在下游側(cè)，支持輥5的前端變薄，使得能盡可能地接近支持輥，以利于密封。優(yōu)選護板3的寬度方向的兩端部與側(cè)面密封件(未圖示)連動而進行密封。
涂敷輥4的作用是，向相對非編織物基材1的行進方向做順方向旋轉(zhuǎn)，推壓容易發(fā)生阻塞的SAP分散漿料。
通常的涂敷機為了提高測量精度，一般如間歇式涂敷機那樣固定涂敷輥4，或者如反轉(zhuǎn)輥式涂敷機那樣使涂敷輥反轉(zhuǎn)。與此相對，本發(fā)明使涂敷輥4向順方向旋轉(zhuǎn)，從而積極地對SAP分散漿料進行推壓。如果將基材的行進速度作為100，則涂敷輥4的旋轉(zhuǎn)速度根據(jù)情況而在0～200％范圍內(nèi)變化。通常優(yōu)選在100％±20％的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。
涂敷輥4的另一個功能是提高限定漿料的涂敷厚度，將SAP漿料強制地壓入非編織物基材1的纖維組織的空隙內(nèi)，同時使涂敷表面平滑。在現(xiàn)有的方法中，由于該部分為固定邊緣，所以即使混入了少量SAP小塊，也立刻發(fā)生阻塞，當發(fā)生阻塞時，涂敷面成為羽毛狀，從而不僅使產(chǎn)品的品質(zhì)下降，而且在干燥工序中成為使干燥輥表面產(chǎn)生污損的原因。在該意義上，通過使作為出口輥的涂敷輥4旋轉(zhuǎn)，在順利地將SAP分散漿料擠出的同時，可使表面平滑。
由于上述原因，涂敷輥4的結構優(yōu)選表面精加工成為鏡面狀態(tài)，但也可以使用進行用于降低附著性的聚四氟乙烯〔特氟隆(注冊商標)〕涂敷、硅酮涂敷或者褶皺加工的涂敷輥。此外，為了除去涂敷輥4表面的污垢或防止纏繞，還可以設置刮板。
圖2是表示利用由水頭槽2提供的SAP分散漿料來形成SAP承載薄板的過程的示意圖。
象薄膜或金屬箔那樣，漿料不浸透基材的物質(zhì)中，雖然基材上的涂敷量不由間隙(D)唯一限定，但在非編織物基材特別是本發(fā)明優(yōu)選的膨松基材的情況下，首先同時產(chǎn)生向基材組織內(nèi)的浸透作用和由基材完成的過濾作用，SAP分散漿料被承載在基材中，同時根據(jù)間隙而在其上形成進行了表面涂敷的漿料層。圖2示出了該浸透、過濾作用成為主體、SAP被承載在基材中的A區(qū)(浸透過濾區(qū))和進行了表面涂敷的B區(qū)(表面涂敷區(qū))的位置關系。這些區(qū)域是彼此重疊而產(chǎn)生的現(xiàn)象，不能明確的進行區(qū)別，在圖2中部分重疊。
該A區(qū)、B區(qū)哪一個為主體，在很大程度上受基材的性能、涂敷速度以及水頭槽的形狀等條件的影響。圖3A～3B示出了水頭槽2的水頭長度(L)對涂敷效果的影響。如圖3A所示，如果增大水頭長度(L)，則形成浸透過濾區(qū)(A區(qū))主體的SAP承載層，如果縮短水頭長度(L)，則如圖3B所示，則形成A區(qū)和B區(qū)相互組合的SAP承載層，如果進一步縮短水頭長度(L)，則形成表面涂敷區(qū)(B區(qū))主體的SAP承載層。在希望進一步縮短水頭長度(L)的情況下，可以如圖3C所示，將后攔板7傾斜配置，使得其下端向下游側(cè)位移。
圖4A～4C示出了涂敷輥和支持輥的配置狀態(tài)。
圖4A是使涂敷輥4的直徑大于支持輥5的直徑，從而使水頭槽2中的涂敷層形成區(qū)擴大的例子。它適用于以較快的速度進行生產(chǎn)的情況，與涂敷輥4的線速度大于基材1的移動速度的條件匹配。
圖4B是使涂敷輥4的直徑與支持輥5的直徑大致相等的一般情況。
圖4C是使涂敷輥4的直徑小于支持輥5的直徑，并且設置用于確保水頭槽2的空間的前攔板8的例子。在該實施例的情況下，與圖4A的情況相比，它與使涂敷輥4以較低的速度旋轉(zhuǎn)的情況匹配。
(組裝了涂敷裝置的涂敷系統(tǒng))以上對涂敷裝置的基本結構進行了說明，但為了構成涂敷系統(tǒng)，還需要組裝預涂敷裝置、吸收脫溶劑裝置等其他重要的單元裝置。
圖5A～5B示出了本發(fā)明的代表性的涂敷系統(tǒng)的構成。從基材流動的方向看，該涂敷系統(tǒng)自上游起由預涂敷裝置、涂敷裝置和吸收脫溶劑裝置構成。預涂敷裝置主要具有以下3個功能。
第一，在非編織物基材1為膨松的例如起毛棉網(wǎng)等的情況下，預先將分散介質(zhì)涂敷在該基材上，使其填充空隙，然后通過采用涂敷漿料的步驟，可以進行與象棉紙或紡粘型織物那樣的具有較薄、平滑表面的基材同樣均勻的涂敷。
第二，通過用溶劑使該基材的微凹凸平滑，或者用溶劑置換基材內(nèi)部含有的空氣，實現(xiàn)基材整體即從內(nèi)部到表面的狀態(tài)的均一化。
第三，使運送機6與該基材1緊密接觸并成為一體，從而在涂敷裝置中確保均勻的接壓狀態(tài)。
在象棉紙或紡粘型織物那樣較薄、均勻且松密度低的非編織物的情況下，第一的空隙填充效果不是很重要，而第二、第三的功能很重要。
因此，在本發(fā)明中，預涂敷的分散介質(zhì)的量依賴于基材的性質(zhì)，但在對任何一種基材進行涂敷的情況下，都優(yōu)選應用預涂敷。作為預涂敷的方法，有噴射、轉(zhuǎn)印等各種方法，但由于在與輥接觸后起毛狀態(tài)和松密度狀態(tài)會發(fā)生變化，所以優(yōu)選如圖5A～5B所示，使用溢流式預涂敷裝置。在添加預涂敷的分散介質(zhì)過程中，不必使基材的空隙接近100％飽和，50％左右的空隙率就足夠了。
對于象本發(fā)明的SAP分散漿料那樣的易沉淀、易變?yōu)橛倌酄畹臐{料，對水頭槽2內(nèi)的漿料進行攪拌是非常重要的，當發(fā)生流速下降這樣的情況時，由于會立刻沉淀、堆積，所以應特別注意。
刮板不是必要的，但在需要防止污損或防止纏繞的情況下應設置。吸收脫溶劑裝置能使SAP與非編織物成為一體，同時能降低對后續(xù)工序即干燥工序的負擔，從這個意義上講，吸收脫溶劑裝置是很重要的。吸收脫溶劑裝置采用將吸收箱配置在網(wǎng)狀運送機的下方的形式。借助于該吸收箱的真空度，SAP分散漿料中所含的液狀分散介質(zhì)的大部分被除去，然后利用后續(xù)工序的干燥機除去殘留的溶劑和水分，從而得到干燥狀態(tài)的薄板狀SAP。
在生產(chǎn)速度慢并且全表面涂敷的情況下，可以設置1臺該吸收脫溶劑裝置，而在圖案涂敷或全表面涂敷但生產(chǎn)速度快的情況下，有時需要設置2臺吸收脫溶劑裝置。
圖6示出了在涂敷裝置的下游側(cè)設置第一吸收脫溶劑裝置和第二吸收脫溶劑裝置的涂敷系統(tǒng)的構成。在該涂敷系統(tǒng)中，為了容易地調(diào)節(jié)，將運送機傾斜配置。
以下對吸收脫溶劑裝置進一步說明，在設置第一和第二這2臺吸收脫溶劑裝置的情況下，優(yōu)選將第一吸收脫溶劑裝置的真空度設定得高、風量較少，將第二吸收脫溶劑裝置的真空度設定得低、風量較多。作為第一吸收用的真空泵，采用納什泵或羅茨泵那樣的真空度保持得較高的真空泵，作為第二吸收用的真空泵，采用如離心式鼓風機那樣的真空度低但風量較多的泵。
以下對脫溶劑裝置的具體性能的一個例子進行說明，該裝置由第一吸收部和第二吸收部構成，第一吸收部的真空度為26.6kPa～53.2kPa(200mmHg～400mmHg)，第二吸收部的真空度為6.65kPa～33.3kPa(50mmHg～250mmHg)，并且第一吸收部的真空度比第二吸收部的真空度高。
(涂覆圖案的變化)在對全表面進行涂敷的情況下，可以利用上述的涂敷裝置進行SAP漿料的涂敷。但是，在希望設置線狀圖案、橫條圖案或厚部分和薄部分的情況下，需要進行一些研究。一般，如本發(fā)明人在特開2000-5674號公報中提出的那樣，插入梳齒的方法是簡便的。在該情況下，選擇圖7A～7B那樣的內(nèi)插式的情況以及圖8A～8B那樣的外插式的情況中的一個。圖7A～7B和圖8A～8B的情況是存在SAP的部分和不存在SAP的僅為非編織物的部分明確地被區(qū)分為帶狀。在形成SAP層的厚薄圖案時，作為涂敷輥，可以使用在其表面刻有縱溝或橫溝的涂敷輥，在涂敷的最后階段，進行圖案形成。
(組裝了涂敷裝置的薄板狀SAP的制造工序)以下對組裝了本發(fā)明的涂敷裝置的薄板狀SAP的制造工序進行說明。圖9示出了棉紙與棉網(wǎng)的復合基材的制造以及利用高壓水流交織裝置使該復合基材交織接合，同時進行SAP分散漿料的涂敷和脫溶劑、干燥工序的全部流程。即，該流程由以下7個工序單位構成。
1.調(diào)制未結合棉網(wǎng)的工序。
2.向網(wǎng)狀運送機運送上述棉網(wǎng)的工序。
3.在上述網(wǎng)狀運送機上，用至少2.06Mpa(20kgf/cm2)的高壓水，以5mm以上的水束間隔對上述棉網(wǎng)進行水流交織處理的工序。
4.用預涂敷裝置，利用由有機溶劑·水混合溶劑構成的SAP的分散介質(zhì)使被進行了水流交織處理的上述棉網(wǎng)飽和的工序。
5.對上述棉網(wǎng)進行涂敷加工的工序，上述棉網(wǎng)是利用上述分散介質(zhì)使由上述有機溶劑·水混合溶劑作為上述分散介質(zhì)的上述SAP分散漿料飽和的棉網(wǎng)。
6.利用吸收式脫溶劑裝置對由上述涂敷加工而獲得的SAP涂敷棉網(wǎng)進行脫溶劑處理的工序。
7.利用干燥機對被進行了上述脫溶劑處理的上述SAP涂敷棉網(wǎng)進行熱干燥處理的工序。
(應用覆蓋薄膜的本發(fā)明的涂敷裝置的基本結構)以上對本發(fā)明的涂敷裝置及其組裝過程進行了說明，但為了根本解決固相組分附著在涂敷輥上的方法是用薄膜覆蓋涂敷輥的表面。以下對此進行詳細說明。
圖10示出了應用覆蓋薄膜的本發(fā)明的涂敷裝置實施方式的一個例子。其構成為，具有軸心沿水平方向配置、并以其軸心為中心以所要求的速度旋轉(zhuǎn)而構成的涂敷輥11，在該涂敷輥11的下方，基材12在涂敷輥11的旋轉(zhuǎn)過程中，通過其圓周面的最下端附近的位置，并且利用未圖示的行進裝置，在相對于涂敷輥圓周面的切線方向上連續(xù)地行進。
此外，待涂敷在基材12表面上的分散漿料24在涂敷輥11的旋轉(zhuǎn)過程中，經(jīng)由根據(jù)需要而設置的貯留部14，相對上述基材行進方向，從上述涂敷輥圓周面的最下端附近的位置向限定在接近下游側(cè)的位置的吐出位置，連續(xù)地被供給至基材12的表面。
此外，還配置有覆蓋薄膜15，使得從貯留部14供給的分散漿料24與涂敷輥11的圓周面不接觸，該覆蓋薄膜15覆蓋涂敷輥11的圓周面，并且其前端部超過涂敷輥11圓周面的最下端。分散漿料被供給至該覆蓋薄膜15的前端部和基材12的表面之間的空間內(nèi)，該空間成為分散漿料的吐出位置。
在圖10所示的例子中，覆蓋薄膜15的最上端被薄膜固定件17固定在規(guī)定位置上，而其另一端具有從從涂敷輥11的最下端沿基材12的行進方向而到達接近下游側(cè)的位置的長度，該另一端在被夾在涂敷輥11和基材12之間的狀態(tài)下而構成自由端。
以下對具有上述結構的分散漿料的涂敷裝置的構成要素進一步說明。
第一，涂敷輥11在其圓周面的最下端部分，與在其下方連續(xù)行進的基材12表面之間形成規(guī)定距離的間隙，由此，可以將涂敷在基材12表面上的分散漿料24的厚度限定為所要求的值。第二，借助于與一端被固定的覆蓋薄膜15之間的摩擦阻力，可以產(chǎn)生以下功能，即對覆蓋薄膜15提供適當?shù)貜埩?，防止產(chǎn)生褶皺或混入空氣而導致產(chǎn)生凹凸，從而使薄膜與涂敷輥圓周面緊密接觸。如果涂敷輥11和覆蓋薄膜15之間的摩擦阻力過大，則會導致覆蓋薄膜15變形或破損，或者制動過大而導致涂敷輥的旋轉(zhuǎn)能量損失，所以優(yōu)選設定為適當?shù)闹怠?br> 以下，對分散漿料24用的貯留部14進行說明。該貯留部14具有水頭槽的功能，用于在均勻、均質(zhì)的狀態(tài)下暫時貯留分散漿料24，使得在為了獲得寬度方向、長度方向均勻的涂敷狀態(tài)的準備階段，分散漿料24不產(chǎn)生濃度分布和凝集。一般，在該貯留部14中，為了防止固體顆粒的凝集或沉淀導致的濃度分布、以及確保寬度方向的均勻性，有時也需要設置攪拌裝置。但是，如果使用清除這些條件的漿料供給裝置，則可以省略貯留部14。
在具有上述結構的本發(fā)明的分散漿料的涂敷裝置中，象一般的輥涂敷的情況一樣，分散漿料24向基材12表面的供給以及涂敷不在涂敷輥和基材表面之間的間隙內(nèi)進行，而是在覆蓋薄膜15和基材12之間進行，涂敷輥11僅是為了限制該覆蓋薄膜15相對于基材12表面的位置，并不與分散漿料24接觸。因此，根本不會發(fā)生分散漿料附著在涂敷輥表面上的問題。
與通常的輥涂敷裝置同樣，在本發(fā)明的分散漿料的涂敷裝置中，有時也希望相對連續(xù)行進的基材的寬度方向限制涂敷范圍。圖11A～11B示出了本發(fā)明另一個實施方式的涂敷裝置，它示出了具有作為這樣的涂敷寬度限制裝置的側(cè)面密封部13′的涂敷裝置的一個例子，11A是垂直于涂敷輥11的軸心的平面上的剖視圖，11B是正視圖。圖11A～11B的裝置被構成為，設置有與涂敷輥11相向地將涂敷輥11的最下端部分附近的吐出位置夾在中間的支持輥21，基材12通過該涂敷輥11和支持輥21之間。此外，在基材12的行進方向上，在吐出位置的上游側(cè)，設有用于防止液體向基材12下方泄漏的液體密封部22。
標號13′所表示的本實施例的側(cè)面密封部，由作為貯留部14兩個側(cè)面的護板的左右一對板構成，為了對涂敷輥11表面和后板部13進行密封，防止液體泄漏，它被設在覆蓋薄膜15兩側(cè)部分的內(nèi)側(cè)，由焊接或粘結等的裝置相對于貯留部14的后板部13而固定。
該側(cè)面密封部13′為了防止分散漿料24通過它與涂敷輥11的圓周面之間的間隙而泄漏到外側(cè)，優(yōu)選設計成與涂敷輥11的圓周面接觸。但是，在該情況下，要求它對涂敷輥11圓周面有密封性，而且摩擦阻力小，不易摩擦。為了滿足這樣的要求，優(yōu)選側(cè)面密封部13′由從合成橡膠、發(fā)泡泡沫、特氟隆(注冊商標)等中選擇的樹脂材料構成。
供給至貯留部14的分散漿料，在后部由后板部13密封，在兩側(cè)由側(cè)面密封部13′密封，從而通過在貯留部14和覆蓋薄膜15之間形成的唯一出口，對連續(xù)行進的基材12進行涂敷。
圖12A～12B示出了本發(fā)明的另一個實施方式的涂敷裝置。該裝置被構成為，將分散漿料在基材上涂敷成直線圖案，在來自貯留部14的分散漿料的出口和在其下方連續(xù)行進的基材12的表面之間，配置有沿基材12行進方向上延伸的至少一個圖案墊片31。該圖案墊片31通過在圖案墊片31的位置將在兩側(cè)的側(cè)面密封部13′之間的整個區(qū)域上均勻供給的分散漿料24的液流分斷，從而使涂敷在基材12表面上的分散漿料24的涂敷圖案成為多個線狀。該線狀圖案的數(shù)量由所設置的圖案墊片31的數(shù)量決定，如圖12B的例子所示，在設置10個圖案墊片31的情況下，將形成由9條線構成的線狀圖案。
以下對在本發(fā)明的分散漿料的涂敷裝置中使用的覆蓋薄膜15進行研究。
首先，列舉如下覆蓋薄膜15的主要功能。
(1)通過把涂敷輥11與分散漿料24接觸的的部分覆蓋，來阻止分散漿料24與輥表面接觸，從而防止附著。
(2)覆蓋薄膜15的一端被固定，另一端為自由端，所以借助于其自由端的邊緣效應，使分散漿料24從覆蓋薄膜15表面的脫離變得容易。
在上述功能中，在本發(fā)明中最重要的是(2)所示的具有自由端的功能。以下詳細說明。
(尾端部分的顯著的邊緣效應的發(fā)現(xiàn))在一部分沉淀在基材12上的同時，也與覆蓋薄膜15接觸的分散漿料24在成為覆蓋薄膜15自由端的前端部從覆蓋薄膜15上分離，移動到基材12上，從而完成涂敷。如果在前端部的分散漿料的移動，即分散漿料的邊緣分離惡化，則分散漿料滯留在覆蓋薄膜的前端部，進而沉淀在涂敷輥11的沒有被覆蓋薄膜15覆蓋的露出表面上，從而產(chǎn)生被稱為“凝塊”的塊體，其結果是涂敷表面不光滑，而且不均勻的情況發(fā)生。如果這樣的情況進一步發(fā)展，就會發(fā)生分散漿料的阻塞，無法進行連續(xù)的涂敷。此外，容易在寬度方向上產(chǎn)生波紋狀的凹凸，從而發(fā)生寬度方向上的厚度不均勻等缺陷。
因此，覆蓋薄膜15應具有適度的剛性，并且前端應具有銳利度。其原因是覆蓋薄膜15的前端部承擔與間歇涂敷機和邊緣涂敷機中的銳利邊緣同樣的作用。特別對這些性能產(chǎn)生影響的是覆蓋薄膜的材質(zhì)和其厚度。作為覆蓋薄膜15的優(yōu)選材質(zhì)，可以列舉聚酯、延伸PP、特氟隆(注冊商標)、LDPE、氯乙烯等有代表性的材質(zhì)。
此外，覆蓋薄膜15可以由1片上述材質(zhì)的薄膜構成，也可以層疊2片相同材質(zhì)的薄膜而使用，或者層疊2片不同材質(zhì)的薄膜來使用。例如，在使用PET薄膜的情況下，優(yōu)選第一薄膜是厚度50μm以上的PET薄膜，第一薄膜是不足厚度50μm的PET薄膜。此外，在可以是30μm薄膜和100μm薄膜的組合、PET薄膜/特氟隆(注冊商標)薄膜的組合、PP薄膜/金屬箔的組合等。其中最優(yōu)選的是聚酯薄膜，例如“ルミラ一”(商品名、東レ(株)制造)或者其表面加工品。
構成覆蓋薄膜的薄膜的厚度隨其剛性而不同，但如果過薄，則會由于剛性不足而容易彎曲變形。合適的厚度是30μm以上。相反，如果過厚，則與涂敷輥11的貼合性變差，所以在300μm以下即可。優(yōu)選的厚度是40～200μm。該厚度也隨材質(zhì)而不同，但也適用于象上述那樣層疊2片的薄膜的厚度。
覆蓋薄膜15的兩個表面都平滑即可，但為了降低與涂敷輥11的接觸面的摩擦阻力，可以使用進行了凹凸加工的覆蓋薄膜、或者用硅酮、特氟隆(注冊商標)等剝離劑進行了表面處理的覆蓋薄膜。此外，由于電氣吸附作用，分散漿料24容易附著在與分散漿料24接觸的覆蓋薄膜表面上，所以優(yōu)選對覆蓋薄膜15的與分散漿料24的接觸面進行防靜電加工或者金屬蒸鍍。
(覆蓋薄膜自由端的位置及其控制)涂敷輥11最下端的位置與從該位置沿基材12的行進方向向下游側(cè)延伸的覆蓋薄膜15的自由端之間的位置關系，受到涂敷輥11的污染或分散漿料24的邊緣分離的影響，所以是很重要的因素。圖13A是在涂敷輥11的下方?jīng)]有圖案墊片、對基材12進行全表面涂敷的實施例，在該情況下，覆蓋薄膜15的位置被從涂敷輥11的軸心垂直下降的點即從涂敷輥11的最下端到沿基材12的行進方向向下游側(cè)延伸的點的距離a以及覆蓋薄膜15的前端與涂敷輥11圓周面之間的鉛直方向的分離距離b限定。
在設置圖案形成用的圖案墊片31的情況下，如圖13B和圖13C所示，對從涂敷輥11圓周面的最下端到圖案墊片31的前端的距離c以及圖案墊片31的前端與覆蓋薄膜15的前端的距離d需要與上述距離a和距離b同時考慮。
圖13B示出覆蓋薄膜15的前端比圖案墊片31更向下游方向延長的情況下，圖13C示出了圖案墊片31的前端比覆蓋薄膜15更向下游方向延長的情況。
從涂敷輥11的最下端到覆蓋薄膜15的前端的距離a優(yōu)選為至少1mm以上，較好為3～30mm，最好為5～25mm。在不足3mm的情況下，如果邊緣效應顯著，則可能分散漿料容易附著在覆蓋薄膜15的前端部和與之接近的涂敷輥11的圓周面上。相反，在超過30mm的情況下，分散漿料固化并固著在覆蓋薄膜15的表面上，可能使涂敷表面不光滑或不均勻。另一方面，覆蓋薄膜15前端與涂敷輥11圓周面之間的鉛直方向的分離距離b的值在理論上越大越好，但合適的數(shù)值為1～10mm左右。
距離c和d的值根據(jù)待涂敷的基材12或者所要求的涂敷圖案而適當?shù)剡x擇，圖14A～14C示出了幾個具體實施例。在這些具體實施例中，作為固體顆粒，使用平均粒徑300μm的高吸水性樹脂(“ァクァパ一ルAP211(商品名)”、サンダィャポリマ一制造)，作為分散介質(zhì)，使用EtOH/H2O＝65/35(份/份)，調(diào)制分散漿料使高吸水性樹脂20份、纖維素粉2份分散在該分散介質(zhì)100份中，采用在50g/m2的PE/PET纖維熱結合非編織物上進行涂敷的條件。
以下，對使用本發(fā)明的分散漿料的涂敷裝置，為了將分散漿料涂敷在基材上的主要條件進行說明。
首先，分散漿料是例如使高吸水性樹脂(SAP)分散在分散介質(zhì)中的物質(zhì)。該SAP在水中高膨潤，但如果添加可與水混合的甲醇、乙醇、異丙醇、丙二醇等有機溶劑，則可以抑制膨潤，所以能進行分散漿料的調(diào)整?？梢韵蛟摶旌衔锾砑覥MC、乙基纖維素、PEO、MFC等作為粘度調(diào)整劑或凝集防止劑。該SAP中有纖維狀、團粒狀、粒子狀或薄片狀的形態(tài)，但粒子狀、粉狀或薄片狀的SAP適于作漿料。優(yōu)選的是平均直徑在1000μm以下的，較好的是平均直徑在100μm以下的顆粒狀的SAP。
待涂敷該分散漿料的基材使用棉紙紙、通用的非編織物、布吊類，優(yōu)選的是可在其組織中包含SAP粒子的膨松非編織物、褶皺加工裝置等膨松且多孔性的基材。
以下使用圖12A～12B所示的本發(fā)明的分散漿料的涂敷裝置，對將上述分散漿料涂敷在基材上的工序的一個例子進行具體說明。
在圖12A～12B中，分散漿料24沿涂敷輥11的軸向以均勻的流量而供給貯留部14，為了防止沉淀，優(yōu)選一邊緩慢地地流動，一邊對基材12表面進行涂敷。在該實施例中，涂敷裝置采用圖14A所示的條件。
使用具有上述結構的涂敷裝置進行涂敷，以10mm間隔的線狀圖案，獲得涂敷基重為200g/m2的SAP涂敷基材。在涂敷處理過程中，在最初的數(shù)分鐘期間不會有問題，但隨后在涂敷輥的前端和與覆蓋薄膜接近的涂敷輥部分上，有分散漿料附著而形成凝塊的趨勢，但通過增大速度至30m/min，可以減小凝塊的大小，減少產(chǎn)生凝塊的區(qū)域。
同樣，在圖14B的條件下，在10m/min的速度下，也不會產(chǎn)生凝塊，從而能進行長時間穩(wěn)定的涂敷。即使將速度升至30m/min，也沒有觀察到較大的變化。也幾乎沒有觀察到向涂敷輥表面的附著。
在圖14C的條件下，在10/min的速度和30m/min的速度下都沒有觀察到向涂敷輥表面的附著和凝塊的產(chǎn)生。但是，在10m/min下，隨著時間的推移，會觀察到在圖案墊片的最前端表面和覆蓋薄膜之間產(chǎn)生固化的分散漿料的附著物，從而覆蓋薄膜下表面逐漸被污染的現(xiàn)象。當使速度為30m/min時，附著物的量減少。
在圖13A～13C和圖14～14C中，為了作圖的方便，使a、b、c、d的尺寸比實際的尺寸放大而繪出。因此，相對于涂敷輥的直徑，a、b、c、d的長度被畫得較長。
圖15A～15C示出了將涂敷輥11與覆蓋薄膜15的自由端之間的距離b保持為所要求的值的裝置的具體實施例。根據(jù)上述原因，該距離b優(yōu)選保持為約1～10mm，因此，優(yōu)選在涂敷輥11的出口部分設置用于限制兩者間的距離的分離裝置。圖15A是設置固定在涂敷輥11上的條板41的例子，通過適當改變該條板41的高度，可以根據(jù)要求自由地設定涂敷輥11與覆蓋薄膜15之間的距離，從而確保在該值。但是，該條板41只能在涂敷輥11不旋轉(zhuǎn)的結構中采用。
圖15B示出了在涂敷輥11與覆蓋薄膜15之間設置與涂敷輥11的軸心平行并且使得圓周面彼此接近或接觸而配置的小徑例如直徑10mm左右的旋轉(zhuǎn)輥51的例子。在涂敷輥11靜止的情況下，可以使旋轉(zhuǎn)輥51靜止，或者使兩者非接觸，而僅使旋轉(zhuǎn)輥51旋轉(zhuǎn)。而在涂敷輥11旋轉(zhuǎn)的情況下，可以在使旋轉(zhuǎn)輥51與涂敷輥11接觸的狀態(tài)下，使它們同步旋轉(zhuǎn)。為了提高旋轉(zhuǎn)輥51表面的平滑性，優(yōu)選用硅酮橡膠等覆蓋它。利用該旋轉(zhuǎn)輥51的存在，鉛直方向的分離距離b被確保。
此外，圖15C的例子適用于涂敷輥11時常旋轉(zhuǎn)的情況，它設有與涂敷輥11圓周面接近的刀刃狀刮板61。在該情況下，即使發(fā)生覆蓋薄膜15與涂敷輥11接觸這樣的移動，也會被刮板61剝離，所以覆蓋薄膜15不會與涂敷輥11接觸，從而鉛直方向的分離距離b被確保。
涂敷輥11以其軸心為中心，沿一個方向連續(xù)地旋轉(zhuǎn)而構成情況，把基材的行進速度與涂敷輥的線速度之間的相對速度差被設定在-10％～+10％范圍內(nèi)的條件下的情況表現(xiàn)為等速?；牡男羞M速度與涂敷輥的旋轉(zhuǎn)速度的關系隨薄膜的厚度和速度、所要求的基重而不同，但在輥的旋轉(zhuǎn)速度為0，即靜止的情況下，由于薄膜上不被施加張力，薄膜松弛，所以必須研究對薄膜施加張力的固定的方法，裝置將變得復雜。優(yōu)選通過使輥旋轉(zhuǎn)，薄膜與輥緊密接觸，末端部也穩(wěn)定，所以優(yōu)選使其旋轉(zhuǎn)。
但是，由于該旋轉(zhuǎn)的速率與行進速度不同，所以難以限定其范圍。通常以如下方式運轉(zhuǎn)，即，使輥的旋轉(zhuǎn)速度一定，對薄膜施加的張力也一定，適當改變基材的行進速度。表3、表4示出了該條件設定例子。
表3示出了使基材的行進速度為50m/min時與輥的旋轉(zhuǎn)速度的關系。如果超過5m/min(10％)左右，則變得穩(wěn)定。如果將與基材的速度幾乎等速的90％以上、100％以下的區(qū)域作為等速區(qū)，則將10％以上、不足90％稱為減速區(qū)，將比110％高、300％以下的范圍稱為加速區(qū)。
由于輥是在薄膜上旋轉(zhuǎn)的，所以與輥的旋轉(zhuǎn)有關的因素是薄膜的緊密接觸程度和薄膜前端部的微小變化。如果超過75m/min(150％)，則可能張力變大，同時薄膜前端部上產(chǎn)生振動。如果該振動劇烈，明知會使涂覆紊亂，相反，還具有防止凝塊附著的效果。該振動效果可以通過在涂敷輥表面設置淺網(wǎng)格來加強。
在使基材行進速度在較大范圍內(nèi)變化的情況下，如表4所示，將涂敷輥的旋轉(zhuǎn)速度固定在30m/min左右，在此條件下，通過使薄膜的材質(zhì)、厚度等最優(yōu)化，可以使基材與涂敷輥的旋轉(zhuǎn)速度無關地行進。
表3涂敷輥的條件設定例及其結果(1)

表4涂敷輥的條件設定例及其結果(2)

(覆蓋薄膜相對于涂敷輥的固定)覆蓋薄膜15相對于涂敷輥11的定位是這樣進行的，即如圖10、圖11A～11B和圖12A～12B所示，在上方端部，利用薄膜固定件17將覆蓋薄膜15的一端固定在涂敷輥11的上方位置，在兩端部，被固定在側(cè)面密封部13′上。
覆蓋薄膜15利用側(cè)面密封部13′的固定，除了自身的定位之外，還同時具有防止分散漿料泄漏的功能，所以優(yōu)選根據(jù)涂敷輥11是否旋轉(zhuǎn)，或者覆蓋薄膜15的厚度等各種條件來選擇合適的固定裝置。
圖16A～16C示出了涂敷輥11的寬度與覆蓋薄膜15的寬度的關系，下面以輥寬460mm、側(cè)面密封寬度280mm的測試輥的情況為例進行說明。
圖16A示出了覆蓋薄膜15僅存在于側(cè)面密封部13′內(nèi)側(cè)的情況，在側(cè)面密封部13′及其外側(cè)，涂敷輥11的圓周面處于露出的狀態(tài)。在該構成中，在使涂敷輥11靜止的狀態(tài)下進行涂敷時，覆蓋薄膜15的固定點僅存在于入口部，所以分散漿料進入覆蓋薄膜15與涂敷輥11之間，成為污損和阻塞等較大故障的原因，因此需要使用粘著劑或接合劑等，使兩者間成為無間隙的狀態(tài)。
此外，在涂敷輥11旋轉(zhuǎn)的情況下，由于覆蓋薄膜15總是被施加張力，所以如果在最初裝填時，將少量的PEG等涂敷在覆蓋薄膜15上，防止進入空氣，則可以實現(xiàn)穩(wěn)定的工作。
圖16A方式的優(yōu)點是由于薄膜不被側(cè)輥固定，所以覆蓋薄膜15端部的自由度高。
另一方面，在圖16B的情況下，覆蓋薄膜15在其寬度方向上越過側(cè)面密封部13′，除了涂敷輥11的邊緣之外，幾乎覆蓋其整個表面。由于覆蓋薄膜15被側(cè)面密封部13′固定，所以不必擔心分散漿料進入涂敷輥11與覆蓋薄膜15之間，無論涂敷輥11靜止還是旋轉(zhuǎn)，都能適應。但是，由于覆蓋薄膜15的前端部的移動自由度低，所以隨著覆蓋薄膜15變厚，局部的凹凸容易導致涂敷的不均勻，因而需要加以注意。
此外，在圖16C的情況下，覆蓋薄膜15的兩個邊緣越過側(cè)面密封部13′，并且進而越過涂敷輥11的兩端，而覆蓋涂敷輥11的整個表面。無論涂敷輥11靜止還是旋轉(zhuǎn)，該情況也都能適應，并且分散漿料不會附著在涂敷輥11上。但是，由于覆蓋薄膜15的約束大，所以自由度變小。在希望更大的自由度的情況下，如圖16C所示，通過在覆蓋薄膜15上設置從其前端到側(cè)面密封部13′部分的切口71，可以解決該問題。
(雙層覆蓋薄膜)在前面已經(jīng)說明，覆蓋薄膜可以是單層，也可以使用2片薄膜作為雙層。該雙層覆蓋薄膜不單純包括在整個表面上貼附的情況，還包括在長度方向上將較長薄膜和較短薄膜進行組合的情況，以及在寬度方向上將較寬薄膜和較窄薄膜進行組合的情況等變形。
圖17A～17B示出了在垂直于涂敷輥的軸心的方向上(長度方向)將第一薄膜15a和第二薄膜15b進行組合的例子。首先，圖17A示出了將較厚的加強用的第一薄膜15a相對于涂敷輥11而配置在外側(cè)，即與分散漿料接觸的一側(cè)，而將較薄的第二薄膜15b配置在涂敷輥11一側(cè)的例子，圖17B示出了將較短的加強用的第二薄膜15b相對于涂敷輥11而配置在外側(cè)，即與分散漿料接觸的一側(cè)，而將比第二薄膜15b長的第一薄膜15a配置在其內(nèi)側(cè)的例子。
圖18A～18B示出了覆蓋涂敷輥11的軸向的整個區(qū)域而獲得的、將寬度方向上寬的第一薄膜15a和僅存在于側(cè)面密封部13′內(nèi)側(cè)的寬度窄第二薄膜15b組合在一起的例子。在圖18A的例子中，寬度窄的第二薄膜15b具有從應設置覆蓋薄膜的區(qū)域的一端到另一端的長度，在與第一薄膜15a重合的部分與其接合在一起。在與第一薄膜15a重合的部分，第二薄膜15b為單層，相對于涂敷輥11保持較大的自由度。此外，在圖18B的例子中，寬度窄的第二薄膜15b僅其前端部分與第一薄膜15a在重合部分接合，從而形成自由度大的前端部。
在本發(fā)明中，對涂敷輥的直徑?jīng)]有特別限制，但一般在100～500mm的范圍內(nèi)，在該情況下，第二薄膜的前端優(yōu)選從涂敷輥圓周面的最下端位置開始沿基材行進方向向下游側(cè)延伸的長度為1～50mm。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述的本發(fā)明的裝置，在對較大范圍基重的非編織物基材行進涂敷時，不會發(fā)生分散漿料的阻塞，能在較大速度范圍內(nèi)在寬度方向、長度方向上以均勻的厚度進行分散漿料的涂敷。在使用覆蓋薄膜的情況下，在不使涂敷裝置本身復雜化以及設備成本大幅上升的情況下，不僅能解決輥式涂敷機的分散漿料附著在涂敷輥表面上的問題，而且對條形涂敷機和刀刃狀涂敷機等基材與涂敷機直接接觸的涂敷機也是通用的。因此，本發(fā)明的裝置適用于非編織物基材的涂敷。
權利要求
1.一種涂敷裝置，將使固相成分分散在分散介質(zhì)中的分散漿料涂敷在非編織物基材上，其特征在于，具有行進裝置，使上述非編織物基材在水平方向上連續(xù)行進；上部開放的水頭槽，位于行進中的上述非編織物基材的上方，在上述非編織物基材的上表面形成貯留上述分散漿料的槽；液體密封板，位于上述水頭槽的下方，使得上述分散漿料不從上述非編織物基材的下表面泄漏而進行密封；以及涂敷輥，做相對于上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉(zhuǎn)，上述涂敷輥被構成為，調(diào)整對上述非編織物基材以及涂敷在其表面上的分散漿料的擠壓力，同時使上述分散漿料的涂敷表面平滑。
2.根據(jù)權利要求1所述的分散漿料的涂敷裝置，其特征在于，還具有覆蓋薄膜，在從上述涂敷輥圓周面的最上端附近的位置到最下端附近的位置的范圍內(nèi)，覆蓋上述涂敷輥圓周面而設置，并且上述分散漿料被供給在上述覆蓋薄膜的前端部與上述非編織物基材表面之間。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的分散漿料的涂敷裝置，其特征在于，具有支持輥，配置在與上述涂敷輥相向的位置上，在上下方向上與上述涂敷輥一起將上述非編織物基材夾在中間，并且做相對于上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的涂敷裝置，其特征在于，上述覆蓋薄膜的前端部不固定。
5.根據(jù)權利要求2至4任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，除了上述覆蓋薄膜的前端部之外，上述覆蓋薄膜的其余部分在上述涂敷輥的軸向的兩端部被側(cè)面密封部固定，使得被保持在沿上述涂敷輥圓周面的規(guī)定位置上。
6.根據(jù)權利要求5所述的涂敷裝置，其特征在于，上述覆蓋薄膜由將物理性質(zhì)彼此不同的2片薄膜重疊的疊層薄膜構成。
7.根據(jù)權利要求6所述的涂敷裝置，其特征在于，在上述2片薄膜中，第一薄膜延伸到越過上述側(cè)面密封部的位置，并且被上述側(cè)面密封部固定，第二薄膜具有僅覆蓋上述側(cè)面密封部內(nèi)側(cè)的寬度。
8.根據(jù)權利要求7所述的涂敷裝置，其特征在于，上述第一薄膜配置在與上述涂敷輥相向的位置上，并且上述第二薄膜配置在其外側(cè)的位置上。
9.根據(jù)權利要求7所述的涂敷裝置，其特征在于，上述第二薄膜配置在與上述涂敷輥相向的位置上，并且上述第一薄膜配置在其外側(cè)的位置上。
10.根據(jù)權利要求8或9所述的涂敷裝置，其特征在于，在上述非編織物基材的行進方向上，上述第一薄膜比第二薄膜短。
11.根據(jù)權利要求8至10任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，上述第一和第二薄膜在其至少一部分上相互接合。
12.根據(jù)權利要求8至11任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，上述第一薄膜為厚度50μm以上的PET薄膜，上述第二薄膜由厚度50μm以下的PET薄膜構成。
13.根據(jù)權利要求2至12任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，在上述非編織物基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部從上述涂敷輥圓周面的最下端起向下游側(cè)僅延伸所要求的長度。
14.根據(jù)權利要求13所述的涂敷裝置，其特征在于，上述涂敷輥的直徑在100～500mm的范圍內(nèi)，并且在上述基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部從上述最下端位置起向下游側(cè)僅延伸1～50mm。
15.根據(jù)權利要求14所述的涂敷裝置，其特征在于，還具有分離器，用于防止上述覆蓋薄膜的前端部與上述涂敷輥圓周面接觸。
16.根據(jù)權利要求1至15任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，還設有用于在上述非編織物基材的表面上形成涂敷圖案的圖案墊片，由此，在上述基材的行進方向上，限制從上述覆蓋薄膜的前端起向著下游側(cè)供給上述基材表面的上述分散漿料，使之不供給上述基材的表面。
17.根據(jù)權利要求1至16任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，上述涂敷輥被構成為，在其表面上具有凹凸，由此，在上述涂敷輥表面與上述覆蓋薄膜之間局部地存在非接觸部分。
18.根據(jù)權利要求1至17任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，上述固相成分包括粒子狀、粉末狀或薄片狀的SAP，上述分散介質(zhì)是有機溶劑與水的混合溶劑。
19.根據(jù)權利要求1至18任意一項所述的涂敷裝置，其特征在于，上述固相成分是具有1000μm以下粒徑的SAP，上述分散介質(zhì)是對SAP具有膨潤抑制作用的有機溶劑與水的混合溶劑，并且上述非編織物基材是多孔性非編織物。
全文摘要
本發(fā)明的涂敷裝置是一邊使待涂敷的分散漿料與非編織物基材接觸一邊對非編織物基材進行涂敷的裝置，它具有運送非編織物基材的網(wǎng)狀運送機、向該網(wǎng)狀運送機上供給分散漿料的供給裝置以及從上方擠壓被供給到非編織物基材上的分散漿料從而形成所要求的厚度的涂敷層的涂敷輥。該涂敷輥在其圓周面上，可以與非編織物基材上的分散漿料直接接觸，也可以在兩者間設置薄膜。
文檔編號B05C11/02GK1543377SQ0281620
公開日2004年11月3日 申請日期2002年8月26日 優(yōu)先權日2001年8月27日
發(fā)明者鈴木磨, 森真吾 申請人:株式會社日本吸收體技術研究所