層狀硅酸鹽納米粘土/中藥活性單體分子印跡聚合物及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于新型藥物載體和功能材料制備技術領域，特別是涉及一種層狀硅酸鹽納米粘土 /中藥活性單體分子印跡聚合物及其制備方法。
【背景技術】
[0002]分子印跡技術，Molecular Imprinting Technique，縮寫為MIT，是一種獲得特定聚合物的實驗制備技術，因獲得的這種聚合物的空間結(jié)構(gòu)和結(jié)合位點能夠與模板分子完全匹配，故而分子印跡技術也被人們稱作分子模板技術。生物醫(yī)學科學中的免疫學是分子印跡技術思想的起源，最初始于人們對抗體-抗原或酶專一性的認識。分子印跡技術有三大特點，同時也是它的三大優(yōu)點:廣泛實用性、構(gòu)效預定性、特異識別性。采用分子印跡技術制得的聚合物被稱為分子印跡聚合物，即MolecularIy Imprinting Polymers，縮寫為MIPs。近年來，分子印跡聚合物的這種對模板分子具有的立體的專一識別性越來越受到人們的青睞和重視，分子印跡技術也被廣泛應用于催化、傳感器、萃取、藥物輸送、人工抗體、色譜等方面。
[0003]傳統(tǒng)包埋法制得的分子印跡聚合物為三維結(jié)構(gòu)且交聯(lián)度高，存在很多缺點:分子印跡聚合物對模板分子的包埋很深或很緊，印跡位點的利用不完全，很難使模板分子從結(jié)合位點中脫去又造成模板分子洗脫不完全；印跡位點的數(shù)目比預想的少，分子印跡聚合物對模板分子的選擇吸附性能差；制得的分子印跡聚合物需要粉碎或研磨，得到的顆粒形狀和大小不均一降低了印跡效果，材料損耗大增加了科研成本;分子印跡聚合物吸附過程中，由于印跡孔道過深導致傳質(zhì)速度變得非常緩慢、模板分子再次進入印跡空穴的過程非常困難并且削弱了分子印跡聚合物的選擇吸附性能。因此，找到克服傳統(tǒng)包埋法的這些缺點的方法成了近年來分子印跡領域的研究的熱點。
[0004]層狀硅酸鹽礦物是一種具有片層晶體結(jié)構(gòu)特點的硅酸鹽類礦物，通常被用來制備聚合物層狀娃酸鹽納米復合材料。鋰阜石，Hectorite，縮寫為Hec是屬于三八面體2:1型層狀硅酸鹽的一種蒙皂石族礦物，由上下2層硅氧四面體中間夾I層鎂氧八面體構(gòu)成。八面體中部分鎂離子被一價鋰離子置換，部分氫氧離子被氟離子所置換，使Hec形成電負性結(jié)構(gòu)。Hec是具有很多優(yōu)良性質(zhì)的活性物質(zhì)，利用插層方式可制備結(jié)構(gòu)特殊的功能材料。Hec/聚合物納米復合材料、有機改性Hec的剝離和剝離后自組裝等功能超分子材料是最新前沿研究。利用Hec剝離后形成的片層結(jié)構(gòu)，摻雜到分子印跡聚合物中，可有效增加印跡位點、使印跡位點分布更均勻、印跡產(chǎn)物結(jié)構(gòu)疏松，以上優(yōu)勢使制備的分子印跡聚合物的性能得到較大的提升。同時，模板分子為藥物分子時，可有效提高載藥量，有望作為新型藥物傳遞系統(tǒng)。
[0005]中藥青風藤，即Sinomenium scutum Rehd.et Wils.，為防己科防己屬植物青藤和毛青藤的干燥藤莖，具有祛風濕、通經(jīng)絡、利水止痛等功效?；瘜W成分研究表明其主要含生物堿類成分，現(xiàn)代藥理研究發(fā)現(xiàn)青藤堿為青風藤的主要有效成分。目前，國內(nèi)已有正清風痛寧片、鹽酸青藤堿注射液、毛青藤總堿片等制劑應用于臨床，在治療類風濕性關節(jié)炎等各種風濕病以及心律失常方面取得了較好療效。但是，常規(guī)口服制劑生物利用度低，半衰期較短，需多次服藥，使用不便，且頻繁的用藥產(chǎn)生血藥濃度的峰谷現(xiàn)象影響臨床的療效。而緩釋制劑可減少給藥次數(shù)，降低不良反應發(fā)生率，提高用藥順應性。專利CN101396345A公開了鹽酸青藤堿緩釋注射劑及其制備方法，該鹽酸青藤堿緩釋注射劑包括多種類型:合成高分子聚合物納米粒、天然高分子材料微球、脂質(zhì)體、多囊泡脂質(zhì)體和凝膠等，不同方法制得的各種鹽酸青藤堿緩釋注射劑能夠延長藥物作用時間、減少用藥次數(shù)、維持較平穩(wěn)的體內(nèi)血藥濃度，降低藥物毒副作用。此外，專利CN101375949A公開的一種青藤堿或其鹽酸鹽的腸溶控釋片、專利CN102397247A公開的一種制備鹽酸青藤堿緩釋注射劑的方法，及專利CN102151244A公開的鹽酸青藤堿藥物樹脂緩釋混懸制劑及其制備方法均公布了青藤堿或鹽酸青藤堿的緩釋制劑，這些鹽酸青藤堿的緩釋劑均具有良好緩釋作用。但是目前尚未有以分子印跡聚合物的形式作為青藤堿或其鹽酸鹽緩釋制劑的載體，并將其用于藥物傳遞系統(tǒng)或?qū)崿F(xiàn)青藤堿快速分離純化的報道。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于:提供一種層狀硅酸鹽納米粘土/中藥活性單體分子印跡聚合物及其制備方法，該分子印跡聚合物材料可有效改善傳統(tǒng)方法模板分子包埋過深、擴散阻力大、識別位點少等缺點，能提高載藥量，可作為一種新型藥物載體。
[0007]為此，本發(fā)明的技術方案如下:
[0008]一種層狀硅酸鹽納米粘土 /中藥活性單體分子印跡聚合物的制備方法，包括如下步驟:
[0009]I)層狀硅酸鹽納米粘土的預處理:將層狀硅酸鹽納米粘土溶于蒸餾水中，配制濃度為I?4wt.%的層狀硅酸鹽納米粘土水溶液/懸濁液，靜置待用；
[0010]2)層狀硅酸鹽納米粘土 /中藥活性單體分子印跡聚合物的制備:在反應容器中將中藥活性單體溶于溶劑中，然后分別加入功能單體、交聯(lián)劑以及引發(fā)劑;再向反應容器中通入惰性氣體以排除其中的氧氣;然后采用滴加的方式加入步驟I)最終得到的層狀硅酸鹽納米粘土水溶液/懸濁液;常溫攪拌至均勻，在攪拌條件下升溫至60?70°C，恒溫繼續(xù)反應直至反應結(jié)束;抽濾，收集固體，將固體用洗脫劑反復洗滌，直至作為模板分子的中藥活性單體洗脫;再干燥至恒重，即得所述層狀硅酸鹽納米粘土 /中藥活性單體分子印跡聚合物；
[0011]所述中藥活性單體為青藤堿、鹽酸青藤堿、雙青藤堿、異青藤堿、木蘭花堿、尖防己定堿或土藤堿。
[0012]優(yōu)選，所述中藥活性單體在溶劑中的摩爾濃度為I?8%;所述的中藥活性單體:功能單體:交聯(lián)劑添加的摩爾比是1:3?12:20;按摩爾量計，所述引發(fā)劑的添加量為所述中藥活性單體添加量的0.1?0.8倍。
[0013]優(yōu)選，所述層狀硅酸鹽納米粘土為鋰皂石、凹凸棒土、蒙脫土或高嶺土。
[0014]優(yōu)選，所述溶劑為無水乙醇、N，N_ 二甲基甲酰胺、N，N_ 二甲基甲酰胺或者N-甲基-
2-吡咯烷酮。
[0015]優(yōu)選，所述功能單體為甲基丙烯酸或者甲基丙烯酸酯。
[0016]優(yōu)選，所述交聯(lián)劑為二甲基丙烯酸乙二醇酯、四亞甲基二甲基丙烯酸酯或者三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯。
[0017]優(yōu)選，所述洗脫劑為無水甲醇或者無水乙醇。
[0018]優(yōu)選，所述引發(fā)劑為偶氮類引發(fā)劑，更優(yōu)選，偶氮二異丁腈、偶氮二異庚腈或者偶氮二異丁酸二甲酯。
[0019]優(yōu)選，步驟2)中添加功能單體、交聯(lián)劑以及引發(fā)劑的同時還需添加十二烷基硫酸鈉，按摩爾量計，所述十二燒基硫酸鈉的添加量為所述中藥活性單體添加量的3?15倍。
[0020]優(yōu)選，步驟I)中層狀硅酸鹽納米粘土在水中充分溶脹的時間為12?24h。
[0021 ] 優(yōu)選，步驟2)中恒溫繼續(xù)反應的時間為12?30h。
[0022]本發(fā)明涉及一種層狀硅酸鹽納米粘土/中藥活性單體分子印跡聚合物的制備方法，利用層狀硅酸鹽納米粘土，例如鋰皂石，強烈膨脹性的含水層狀硅酸鹽特性，以剝離或部分剝離結(jié)構(gòu)的片層作為摻雜劑；以中藥活性單體分子，如鹽酸青藤堿，為模板分子，加入功能單體、交聯(lián)劑和引發(fā)劑，引發(fā)沉淀聚合反應，將產(chǎn)物經(jīng)過濾、甲醇洗滌、真空干燥，得到層狀硅酸鹽納米粘土 /中藥活性單體分子印跡聚合物。然后通過SEM、EDX、TEM、XRD和FT-1R等現(xiàn)代分析測試儀器表征其物理化學特性。利用靜態(tài)吸附實驗研究其吸附等溫線及動力學，利用體外藥物釋放實驗研究其藥物釋放行為和釋放機理。
[0023]本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
[0024]I)制備方法簡單易行，成本低，所獲得產(chǎn)物兼具分子識別特性和藥物緩釋性能，可作為一種新型藥物載體；
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