本發(fā)明涉及清洗劑技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種研磨液的清洗劑及其制備方法。
背景技術(shù)：
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目前隨著集成線路技術(shù)已經(jīng)得到了迅速發(fā)展，成為了世界上最高新和龐大的產(chǎn)業(yè)之一。集成線路的特征尺寸也在向著更小的尺寸邁進(jìn)。目前全球95％以上的集成線路都要采用硅片作為襯底材料，因此以硅片作為集成線路材料的精細(xì)加工和成型技術(shù)已經(jīng)成為了制約集成線路技術(shù)前進(jìn)的關(guān)鍵因素。
研磨是硅片加工與成型過程中一道重要的工藝。切片之后的硅片沒有合乎半導(dǎo)體制程所需要的曲度、平坦度和平行度，又因?yàn)楣杵瑨伖膺^程中表面磨除量僅約5微米，所以需要大幅度改善硅片的曲度和平行度。
硅片的研磨過程是游離的磨粒通過研具對工件表面進(jìn)行包括物理和化學(xué)綜合作用的微量切削，其速度低，壓力小，經(jīng)過研磨后的工件獲得0.001毫米以內(nèi)的尺寸誤差，表面的粗糙度可以達(dá)到0.1微米甚至更小。
研磨液一般包括增稠劑、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑、表面活性劑和螯合劑等，目前研磨液一般具有良好的懸浮性、分散性和良好的流動性，稀釋能力強(qiáng)，但研磨工藝之后，硅片與研磨臺面清洗較困難，容易造成磨盤印，同時(shí)研磨液中細(xì)小的礦物質(zhì)粉末，容易在研磨過程中殘留在金屬彈簧片上，采用常規(guī)的水基清洗液很難將其剝離，即使是能夠清洗剝離，水基清洗劑容易在完成清洗后造成工件生銹，不能夠滿足生產(chǎn)工藝加工的要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
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本發(fā)明的目的在于提供一種半導(dǎo)體硅材料研磨液清洗劑及其制備方法，該清洗劑能夠有效的清洗研磨液中的微小顆粒殘留，不對工件造成損耗，快速促進(jìn)微小顆粒的剝離同時(shí)延緩工件的生銹速度。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：
一種半導(dǎo)體硅材料研磨液清洗劑,由以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：
強(qiáng)堿：5-7％，復(fù)配絡(luò)合劑：2-4％，乙醇胺：5-6％，
分散劑：3-4％，復(fù)配表面活性劑：12-14％，
?；撬幔?-4％，余量為水。
優(yōu)選的，所述強(qiáng)堿為氫氧化鈉或者氫氧化鉀。
優(yōu)選的，所述復(fù)配絡(luò)合劑為HEDP、ATMP、EDTMPA、PAPEMP、PBTCA中的一種或者幾種。
優(yōu)選的，所述乙醇胺為一乙醇胺或二乙醇胺。
優(yōu)選的，所述分散劑為聚馬來酸、聚馬來鹽酸、聚馬來酸丙烯酸中的一種或者幾種。
優(yōu)選的，所述復(fù)配表面活性劑為RD129B、RD127、脂肪醇聚氧乙烯醚3醚、脂肪醇聚氧乙烯醚9醚中的一種或者多種。
優(yōu)選的，所述?；撬釣榘咨勰?，牛磺酸有效成分含量≥99％。。
上述半導(dǎo)體硅材料研磨液清洗劑的制備方法,也是本發(fā)明要求保護(hù)的內(nèi)容，其包括以下步驟：按照重量分?jǐn)?shù)將復(fù)配絡(luò)合劑、強(qiáng)堿及水混合，水浴恒溫條件下攪拌2-3小時(shí)，然后依次添加乙醇胺、分散劑及復(fù)配表面活性劑，繼續(xù)水浴恒溫下攪拌1-2小時(shí)，最后添加?；撬釘嚢?0-15分鐘得到清洗劑。
本發(fā)明具有以下有益效果：
(1)本發(fā)明清洗劑能夠有效的清洗半導(dǎo)體硅材料研磨液中的微小顆粒殘留，不對工件造成損耗。
(2)本發(fā)明添加?；撬嶙鳛橹饕现?，能夠促進(jìn)微小顆粒的剝離同時(shí)延緩工件的生銹速度，抗生銹的時(shí)間達(dá)到12小時(shí)以上。
(3)本申清洗劑為水基清洗劑，對環(huán)境友好，污染小，綠色高效。
(4)本發(fā)明清洗劑的使用濃度為2-3％，濃度低，清洗效果好，經(jīng)濟(jì)成本低。
具體實(shí)施方式：
為了更好的理解本發(fā)明，下面通過實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明，實(shí)施例只用于解釋本發(fā)明，不會對本發(fā)明構(gòu)成任何的限定。
表一：實(shí)施例及對比例清洗劑組分
上述實(shí)施例例及對比例的制備方法是按照重量分?jǐn)?shù)將復(fù)配絡(luò)合劑、強(qiáng)堿及水混合，水浴恒溫條件下攪拌2.5小時(shí)，然后依次添加乙醇胺、分散劑及復(fù)配表面活性劑，繼續(xù)水浴恒溫下攪拌1-2小時(shí)，最后添加牛磺酸攪拌10-15分鐘得到清洗劑。
清洗工藝：溫度70-75℃，清洗時(shí)間2-3分鐘，瀝液15-20s后吹干，濃度為2-3％。
清洗效果：實(shí)施例1-8清洗后表面均光潔無殘留，能夠防銹12小時(shí)以上；
對比例1及對比例2清洗后表面光潔無殘留，能夠防銹3-5小時(shí)。