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一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法與流程

文檔序號(hào):11124402閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

第一、先將模板分子溶解在離子液體1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽和四氫呋喃溶劑中,再加入功能單體與模板分子相互作用30min,形成模板-離子液體-功能單體復(fù)合物,再加入交聯(lián)劑、引發(fā)劑混合均勻;

其中,模板分子為氯霉素,功能單體為2-乙烯基吡啶,溶劑為離子液體1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽和四氫呋喃,交聯(lián)劑為乙二醇二甲基丙烯酸酯,引發(fā)劑為偶氮二異丁腈。

2.1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽和四氫呋喃的體積之比為1:1-1:2;所述模板分子、功能單體、交聯(lián)劑的物質(zhì)摩爾之比為1:4:20;溶劑的體積用量與模板分子氯霉素的摩爾量之比為6 mL/mmol -12 mL/mmol;引發(fā)劑質(zhì)量與模板分子的摩爾量比為40 mg/mmol;

第二、上步混合均勻后,超聲脫氣,超聲作用時(shí)間為5min;通入氮?dú)?,時(shí)間為10-15min;抽真空,在60℃恒溫水浴中,發(fā)生熱引發(fā)聚合24小時(shí),得到分子印跡聚合物;

第三、將上步得到的分子印跡聚合物取出研磨、過篩,用有機(jī)溶劑除去模板分子,通過紫外檢測器直至檢測不出模板分子;真空干燥,得到氯霉素分子印跡聚合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述第三步研磨過篩后形成平均粒徑為300-700 nm的聚合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述第三步中使用的有機(jī)溶劑為甲醇和乙酸的體積比為90:10的混合溶液。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述第三步中真空干燥前的聚合物用乙腈清洗三至五次,除去殘余的甲醇和乙酸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氯霉素分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述第三步中真空干燥溫度為60℃,控制時(shí)長為24小時(shí)。

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