1.一種處理包含多核苷酸的樣品的方法，所述方法包括：
將所述樣品固定化在薄層多孔基質中；
使所述薄層多孔基質適形于基材；
從適形于基材的薄層多孔基質除去非多核苷酸分子，同時所述多核苷酸保持固定化在所述薄層多孔基質中；以及
下列至少一者：
(a)將所述多核苷酸用第一標記物標記；或
(b)從所述薄層多孔基質分離所述多核苷酸。
2.權利要求1的方法，其中將所述多核苷酸用所述第一標記物標記。
3.權利要求2的方法，其中將所述多核苷酸在固定化在所述薄層多孔基質中的同時用所述第一標記物標記。
4.權利要求1-3任一項的方法，其中將所述多核苷酸用所述第一標記物酶法標記。
5.權利要求1的方法，其中從所述薄層多孔基質分離所述多核苷酸。
6.權利要求5的方法，其中通過至少一次洗滌從所述薄層多孔基質分離所述多核苷酸。
7.權利要求1的方法，其中將所述多核苷酸用所述第一標記物標記并從所述薄層多孔基質分離。
8.權利要求7的方法，其中將所述多核苷酸在固定化在所述薄層多孔基質中的同時用所述第一標記物標記，并隨后從所述薄層多孔基質分離。
9.權利要求8的方法，其中在從所述薄層多孔基質除去非多核苷酸分子之后并在從所述基質分離所述多核苷酸之前，將所述多核苷酸用所述第一標記物標記。
10.權利要求7的方法，其中將所述多核苷酸從所述薄層多孔基質分離，并隨后用所述第一標記物標記。
11.權利要求7-10任一項的方法，其中通過至少一次洗滌從所述薄層多孔基質分離所述多核苷酸。
12.權利要求7-10任一項的方法，其中將所述多核苷酸用所述第一標記物酶法標記。
13.權利要求1-12任一項的方法，其中將所述樣品固定化在薄層多孔基質中和使所述薄層多孔基質適形于基材同時地進行。
14.權利要求1-12任一項的方法，其中將所述樣品固定化在薄層多孔基質中和使所述薄層多孔基質適形于基材分開地進行。
15.權利要求1-14任一項的方法，其中將所述樣品固定化在薄層多孔基質中包括將所述樣品與所述薄層多孔基質的前體相接觸，并且形成所述薄層多孔基質是從包含所述樣品的所述前體形成的。
16.權利要求1-14任一項的方法，其中在已從所述薄層多孔基質的前體形成所述薄層多孔基質之后，將所述樣品固定化在所述薄層多孔基質中。
17.權利要求1-16任一項的方法，其中形成所述薄層多孔基質包括在所述基材上鋪展所述薄層多孔基質的前體。
18.權利要求1-17任一項的方法，其中形成所述薄層多孔基質包括向所述薄層多孔基質的前體施加真空或來自于氣體的壓力。
19.權利要求1-18任一項的方法，其中形成所述薄層多孔基質包括向所述薄層多孔基質的前體施加離心力。
20.權利要求1-19任一項的方法，其中使所述薄層多孔基質在所述基材與另一個實體之間適形于所述基材，由此限定所述薄層多孔基質的厚度、直徑或體積中的至少一者。
21.權利要求1-19任一項的方法，其中使所述薄層多孔基質適形于基材包括將所述基材包埋在所述薄層多孔基質中。
22.權利要求21的方法，其中所述基材包含網。
23.權利要求22的方法，其中所述網包含多個直徑為0.1μm至10mm的開孔。
24.權利要求1-19任一項的方法，其中使所述薄層多孔基質適形于基材包括將所述薄層多孔基質布置在所述基材上方。
25.權利要求24的方法，其中在從所述薄層多孔基質除去所述非多核苷酸分子時，所述薄層多孔基質保持基本上平坦地布置在所述基材上方。
26.權利要求25的方法，其中使所述薄層多孔基質從所述基材脫離但仍保持緊密貼近于所述基材，使得所述薄層多孔基質在所述基材上方保持基本上平坦。
27.權利要求25的方法，其中通過系鏈、支架、電磁相互作用、摩擦或壓力中的至少一者維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述基材，使得所述薄層多孔基質保持基本上平坦地布置在所述基材上方。
28.權利要求25-27任一項的方法，其中將所述薄層多孔基質置于從所述基材延伸的至少兩個柱狀物之間，以便維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述基材。
29.權利要求25-28任一項的方法，其中將所述薄層多孔基質置于所述基材與表面之間，使得所述薄層多孔基質基本上平坦地布置在所述基材上方。
30.權利要求29的方法，其中所述表面包含第一網。
31.權利要求29或30的方法，其中所述基材包含第二網。
32.權利要求30-31任一項的方法，其中所述第一網包含多個開孔，所述開孔各自具有0.1μm至約10mm的直徑。
33.權利要求30-32任一項的方法，其中所述第二網包含多個開孔，所述開孔各自具有0.1μm至約10mm的直徑。
34.權利要求25-33任一項的方法，其中通過真空維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述基材。
35.權利要求25-34任一項的方法，其中通過來自于氣體的壓力維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述基材。
36.權利要求25和27-35任一項的方法，其中通過系鏈維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述表面。
37.權利要求36的方法，其中所述系鏈包含多孔材料，所述多孔材料被配置成維持所述薄層多孔基質緊密貼近于所述表面，同時允許接近固定化在所述薄層中的所述樣品。
38.權利要求1-37任一項的方法，其中所述基材是剛性的。
39.權利要求1-37任一項的方法，其中所述基材是柔性的。
40.權利要求1-37任一項的方法，其中所述基材包含載片、容器或片材的至少一部分。
41.權利要求1-40任一項的方法，其中將所述樣品固定化在薄層多孔基質中包括形成所述薄層多孔基質，使得所述表面限定所述薄層多孔基質的至少一個側面。
42.權利要求1-41任一項的方法，其中所述基材包含網。
43.權利要求42的方法，其中所述網包含多個直徑為0.1μm至約10mm的開孔。
44.權利要求1-43任一項的方法，其中所述薄層多孔基質具有約1至999微米的厚度。
45.權利要求1-43任一項的方法，其中所述薄層基質具有約80至200微米的厚度。
46.權利要求1-45任一項的方法，其中所述薄層基質在流體裝置內形成。
47.權利要求1-45任一項的方法，其中所述薄層基質在微流體裝置或納米流體裝置外部形成，并隨后放置在所述流體裝置內。
48.權利要求1-47任一項的方法，其中在流體裝置內使所述薄層基質適形于所述基材。
49.權利要求1-48任一項的方法，其中在流體裝置內從所述薄層多孔基質除去所述非多核苷酸分子。
50.權利要求46-49任一項的方法，其中所述流體裝置被配置成在所述處理期間控制體積、溫度或流體移動中的至少一者。
51.權利要求46-49任一項的方法，其中所述流體裝置被配置成自動進行所述處理。
52.權利要求46-51任一項的方法，其中所述流體裝置包含微流體裝置。
53.權利要求46-51任一項的方法，其中所述流體裝置包含納米流體裝置。
54.一種處理包含多核苷酸的樣品的方法，所述方法包括：
在水性環(huán)境中將所述樣品固定化在多孔基質中；
破碎包含固定化的樣品的多孔基質；
從所述多孔基質除去非多核苷酸分子，同時所述多核苷酸保留在所述多孔基質中；以及
從所述多孔基質分離所述多核苷酸。
55.權利要求54的方法，其中在破碎所述多孔基質之后從所述多孔基質除去非多核苷酸分子。
56.權利要求54的方法，其中在破碎所述多孔基質之前從所述多孔基質除去非多核苷酸分子。
57.權利要求54的方法，其還包括在破碎所述基質之后從所述多孔基質除去痕量的非多核苷酸分子，其中多核苷酸分子保留在所述多孔基質中，而所述痕量的非多核苷酸分子被去除。
58.權利要求54-57任一項的方法，其還包括在從所述多孔基質除去非多核苷酸分子之后并在從所述基質分離所述多核苷酸之前，用第一標記物標記所述多核苷酸。
59.權利要求54-58任一項的方法，其中在流體裝置內將所述樣品固定化在所述多孔基質中。
60.權利要求54-59任一項的方法，其中所述多孔基質在微流體裝置或納米流體裝置外部形成，并隨后放置在所述流體裝置內。
61.權利要求54-60任一項的方法，其中在流體裝置內使所述多孔基質適形于所述基材。
62.權利要求54-61任一項的方法，其中在流體裝置內從所述多孔基質除去所述非多核苷酸分子。
63.權利要求54-62任一項的方法，其中所述流體裝置被配置成在所述處理期間控制體積、溫度或流體移動中的至少一者。
64.權利要求54-63任一項的方法，其中所述流體裝置被配置成自動進行所述處理。
65.權利要求54-64任一項的方法，其中所述流體裝置包含微流體裝置。
66.權利要求54-64任一項的方法，其中所述流體裝置包含納米流體裝置。
67.權利要求1-66任一項的方法，其中所述多核苷酸包含至少約200千堿基。
68.權利要求1-67任一項的方法，其中所述多核苷酸包含至少約1兆堿基。
69.權利要求1-68任一項的方法，其中所述樣品包含細胞懸液、核懸液、細胞器懸液、細胞勻漿物、組織勻漿物、全生物體勻漿物和生物流體中的至少一者。
70.權利要求1-69任一項的方法，其中所述樣品包含全細胞。
71.權利要求1-70任一項的方法，其中所述多核苷酸包含單鏈DNA、單鏈RNA、雙鏈DNA或雙鏈RNA。
72.權利要求1-71任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含合成聚合物、天然存在的聚合物或其組合。
73.權利要求1-72任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含基于多糖的基質。
74.權利要求1-73任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含瓊脂糖基質、聚丙烯酰胺基質、明膠基質、膠原蛋白基質、纖維蛋白基質、殼聚糖基質、藻酸鹽基質、透明質酸基質或其任何組合。
75.權利要求1-74任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含瓊脂糖基質。
76.權利要求1-75任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含硅烷基團、帶正電荷的基團、帶負電荷的基團、兩性離子基團、極性基團、親水性基團、疏水性基團或其任何組合。
77.權利要求1-76任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質包含水性環(huán)境。
78.權利要求1-77任一項的方法，其中所述多孔基質或薄層多孔基質被布置在水性溶液中。
79.權利要求1-78任一項的方法，其中非多核苷酸分子包含蛋白質、脂類、糖類、細胞器和細胞碎片中的至少一者。
80.權利要求1-79任一項的方法，其中除去非多核苷酸分子包括將所述多孔基質或薄層多孔基質與蛋白酶、彈性蛋白酶、膠原蛋白酶、脂肪酶、糖水解酶、果膠酶、果膠溶解酶、淀粉酶、RNA酶、透明質酸酶、幾丁質酶、gluculase、溶壁酶、酵母裂解酶、溶菌酶、labiase、消色肽酶或其組合相接觸。
81.權利要求1-80任一項的方法，其中除去非多核苷酸分子包括將所述多孔基質或薄層多孔基質與蛋白酶相接觸。
82.權利要求1-81任一項的方法，其中除去非多核苷酸分子包括將所述多孔基質或薄層多孔基質與去污劑、離液劑、緩沖劑、螯合劑、有機溶劑、聚合物、醇、鹽、酸、堿、還原劑或其組合相接觸。
83.權利要求82的方法，其中所述聚合物包含聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇或乙二醇之一。
84.權利要求82的方法，其中所述有機溶劑在基于水的溶液中可混溶。
85.權利要求1-83任一項的方法，其中除去非多核苷酸分子包括施加電場以除去至少一些非多核苷酸分子。
86.權利要求1-85任一項的方法，其還包括在除去非多核苷酸分子之前進行基質內核富集。
87.權利要求1-86任一項的方法，其中所述標記包括非位點特異性標記。
88.權利要求1-87任一項的方法，其中所述標記包括位點特異性標記。
89.權利要求1-88任一項的方法，其中標記包括將所述多核苷酸與染料或染色劑相接觸。
90.權利要求1-89任一項的方法，其中所述標記包括非光學標記。
91.權利要求88-90任一項的方法，其中所述多核苷酸是雙鏈的，并且其中位點特異性標記包括：
在第一序列基序處切刻所述多核苷酸，由此形成至少一個切口，其中所述DNA在與所述至少一個切口相鄰處保持雙鏈；并且
用所述第一標記物標記所述至少一個切口。
92.權利要求91的方法，其中將所述多核苷酸在被切刻時固定化在所述基質中。
93.權利要求88-92任一項的方法，其中所述位點特異性標記包括將至少一個核苷酸摻入到所述至少一個切口中。
94.權利要求93的方法，其中所述至少一個核苷酸包含可逆終止子。
95.權利要求93-94任一項的方法，其中所述至少一個核苷酸包含所述第一標記物。
96.權利要求91-95任一項的方法，其還包括：
在第二序列基序處切刻所述多核苷酸，由此形成至少一個第二切口，其中所述DNA在與所述至少一個第二切口相鄰處保持雙鏈；并且
用第二標記物標記所述至少一個第二切口，其中所述第一標記物與所述第二標記物相同或不同。
97.權利要求1-93任一項的方法，其中所述標記包括通過第一甲基轉移酶將所述標記物轉移到所述多核苷酸。
98.權利要求88-97任一項的方法，其中所述位點特異性標記包括通過第一甲基轉移酶將所述第一標記物轉移到第一序列基序。
99.權利要求98的方法，其中所述位點特異性標記包括：
將第一反應性基團轉移到所述第一序列基序；以及
將所述第一標記物偶聯(lián)到所述第一反應性基團。
100.權利要求98或99任一項的方法，其還包括通過第二甲基轉移酶將第二標記物轉移到第二序列基序，其中所述第二序列基序不同于所述第一序列基序，并且其中所述第二標記物與所述第一標記物相同或不同。
101.權利要求88-100任一項的方法，其中位點特異性標記包括將固定化在所述基質中的所述多核苷酸的第一序列基序與特異性結合所述第一序列基序的第一結合組成部分相接觸。
102.權利要求101的方法，其中所述第一結合組成部分包含以下一種：三螺旋寡核苷酸、肽、核酸、聚酰胺、鋅指DNA結合結構域、轉錄激活物樣(TAL)效應物DNA結合結構域、轉錄因子DNA結合結構域、限制性酶DNA結合結構域、抗體或其任何組合。
103.權利要求1-102任一項的方法，其中所述第一標記物或第二標記物中的至少一者選自熒光團、量子點或非光學標記物。
104.權利要求1-103任一項的方法，其還包括用非序列特異性標記物標記所述多核苷酸，其中所述非序列特異性標記物不同于所述第一標記物和第二標記物。
105.權利要求1-104任一項的方法，其中分離包括以下至少一者：融化所述多孔基質、消化所述多孔基質、降解所述多孔基質、溶解所述多孔基質、電洗脫、通過篩的離心、轉印到膜上、透析步驟或其組合。
106.權利要求1-105任一項的方法，其中分離包括向包含所述多核苷酸和所述基質的至少一種組分的混合物添加溶劑。
107.權利要求1-106任一項的方法，其還包括檢測所述多核苷酸特征性的位點特異性標記的模式。
108.權利要求107的方法，其中檢測包括將所述多核苷酸在流體通道中線性化。
109.權利要求107-108任一項的方法，其還包括將所述第一標記物、第二標記物或其任何組合的模式與參比DNA上的標記物模式進行比較。
110.權利要求107-109任一項的方法，其還包括在位點特異性標記的重疊模式的基礎上組裝多個模式，由此構建多核苷酸圖譜。
111.一種多核苷酸制備物，其包含：
適形于基材的薄層多孔基質；
固定化在所述多孔基質中的多核苷酸，其中所述多核苷酸基本上與非多核苷酸細胞組分分離，并且其中所述多核苷酸當在所述基質中時已被位點特異性標記或酶法修飾。
112.權利要求111的制備物，其中所述薄層多孔基質被基本上平坦地布置在所述基材上方。
113.權利要求111的制備物，其中所述基材被包埋在所述薄層多孔基質中。
114.權利要求111或112的制備物，其中將所述基材放置在所述薄層多孔基質的第一側面上，并且其中將表面放置在所述薄層多孔基質的第二側面上。
115.權利要求111-114任一項的制備物，其中所述基材包含網。
116.權利要求115的制備物，其中所述網包含多個開孔，每個開孔具有0.1μm至10mm的直徑。
117.權利要求114-116任一項的制備物，其中所述表面包含第二網。
118.權利要求117的制備物，其中所述第二網包含多個開孔，每個開孔具有0.1μm至10mm的直徑。
119.權利要求111-118任一項的制備物，其中所述多核苷酸當在所述基質中時與細胞組分分離。
120.權利要求119的制備物，其中所述多核苷酸在與細胞組分分離之前被標記。
121.權利要求119的制備物，其中所述多核苷酸在與細胞組分分離之后被標記。
122.權利要求111-121任一項的制備物，其中所述多核苷酸包含至少約200千堿基。
123.權利要求111-122任一項的制備物，其中所述多核苷酸包含至少約1兆堿基。
124.權利要求111-123任一項的制備物，其中所述多核苷酸包含單鏈DNA、單鏈RNA、雙鏈DNA或雙鏈RNA。
125.權利要求111-124任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質包含合成聚合物、天然存在的聚合物或其組合。
126.權利要求111-125任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質包含聚丙烯酰胺基質、明膠基質、膠原蛋白基質、纖維蛋白基質、殼聚糖基質、藻酸鹽基質、透明質酸基質或其任何組合。
127.權利要求111-126任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質包含瓊脂糖基質。
128.權利要求111-127任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質包含基于多糖的基質。
129.權利要求111-128任一項的制備物，其中所述多孔基質包含硅烷、帶正電荷的基團、帶負電荷的基團、兩性離子基團、極性基團、親水性基團、疏水性基團或其任何組合。
130.權利要求111-129任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質以延伸的構型布置在所述表面上方。
131.權利要求111-130任一項的制備物，其中所述薄層基質具有約1至999微米的厚度。
132.權利要求111-130任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質具有約80至200微米的厚度。
133.權利要求111-132任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質被固定化在所述表面上。
134.權利要求111-133任一項的制備物，其中使所述薄層多孔基質從所述表面脫離但仍保持緊密貼近于所述表面，使得所述層在整個所述處理中保持基本上延伸。
135.權利要求111-134任一項的制備物，其中所述表面是剛性的。
136.權利要求111-135任一項的制備物，其中所述表面是柔性的。
137.權利要求111-136任一項的制備物，其中所述表面是載片、容器或片材的表面。
138.權利要求111-137任一項的制備物，其中所述薄層多孔基質基本上不含非多核苷酸細胞組分。
139.權利要求138的制備物，其中所述非多核苷酸細胞組分包含蛋白質、脂類、糖類、細胞器和細胞碎片中的至少一者。
140.權利要求111-139任一項的制備物，其中所述位點特異性標記或酶法修飾包括至少用與第一序列基序結合的第一標記物進行標記。
141.權利要求140的制備物，其中所述位點特異性標記或酶法修飾還包括用與第二序列基序結合的第二標記物進行標記，其中所述第二標記物與所述第一標記物相同或不同。
142.權利要求111-141任一項的制備物，其中所述位點特異性標記包括至少用摻入到雙鏈DNA或RNA中的切口內的標記的寡核苷酸進行標記。
143.權利要求111-142任一項的制備物，其還包含結合到所述第一基序的至少一種結合組成部分，其中所述結合組成部分包含以下至少一者：三螺旋寡核苷酸、肽核酸、聚酰胺、鋅指DNA結合結構域、轉錄激活物樣(TAL)效應物DNA結合結構域、轉錄因子DNA結合結構域、限制性酶DNA結合結構域、抗體或其組合。
144.權利要求111-143任一項的制備物，其中所述位點特異性標記包括用選自熒光團、量子點和非光學標記物的標記物進行標記。
145.一種處理樣品的方法，所述方法包括：
將所述樣品固定化在布置在表面上方的薄層多孔基質中；
處理捕獲在表面結合層中的所述樣品以除去不想要的組分，同時至少一種所需組分保持固定化在所述樣品中；
從所述多孔基質分離所述至少一種所需組分；以及
表征所述至少一種所需組分。
146.權利要求145的方法，其中所述所需組分包含以下至少一者：核酸、蛋白質、糖類、脂類、多糖、代謝物、小分子、抗體或其組合。
147.權利要求145的方法，其中所述所需組分是DNA，并且其中所述表征包括確定濃度、質量度量、物理圖譜、序列含量、表觀遺傳信息、SNP、單體型、RFLP、尺寸、拷貝數變體或其任何組合。
148.權利要求145的方法，其中所述所需組分是RNA，并且其中所述表征包括確定濃度、質量度量、序列含量、表達水平、穩(wěn)定性、剪接事件或其任何組合。
149.權利要求145的方法，其中所述所需組分是蛋白質，并且其中所述表征包括確定濃度、純度、序列含量、結構性質、抗體反應性、酶活性、抑制活性、翻譯后修飾、毒性效應或其任何組合。
150.權利要求145的方法，其還包括在所述多核苷酸處于所述基質中時標記所述多核苷酸或共價修飾所述多核苷酸。
151.一種用于處理含有至少一種多核苷酸的樣品的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包含：
多孔基質，其被配置為形成包含所述樣品的薄層多孔基質；
用于形成所述薄層多孔基質的基材；以及
用于維持所述薄層多孔基質適形于基材的工具。
152.權利要求151的系統(tǒng)，其還包括用于在基本上布置在所述基材上方的所述薄層多孔基質周圍形成孔的工具。
153.權利要求151-152任一項的系統(tǒng)，其還包含用于將所述薄層多孔基質維持在所需溫度下的工具。
154.權利要求151-153任一項的系統(tǒng)，其還包含：
用于除去所述至少一種多核苷酸之外的樣品組分的純化試劑；
用于用第一標記物標記所述至少一種多核苷酸的序列基序的第一標記試劑；以及
用于從所述薄層多孔基質分離標記的多核苷酸的分離試劑，其中分離的多核苷酸的序列基序標記的模式能夠被表征。
155.權利要求150-153任一項的系統(tǒng)，其中所述基材包含第一網，并且其中用于維持所述薄層多孔基質適形于基材的工具包含第二網。
156.權利要求155的系統(tǒng)，其中所述第一網和第二網各自包含多個開孔，其中每個開孔具有0.1μm至10mm的直徑。
157.權利要求151-156任一項的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)包含流體系統(tǒng)。
158.權利要求151-157任一項的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)被配置成自動形成所述薄層多孔基質。
159.權利要求151-158任一項的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)被配置成自動從所述薄層多孔基質分離標記的多核苷酸。
160.權利要求151-159任一項的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)包含微流體系統(tǒng)。
161.權利要求151-160任一項的系統(tǒng)，其中所述多孔基質與納米通道流體連通。
162.一種用于形成薄層多孔基質的試劑盒，所述試劑盒包含：
基材；以及
形成孔的裝置，其包含一個或多個開孔，所述一個或多個開孔被配置成當緊靠所述基材放置時，限定垂直或基本上垂直于所述基材的一個或多個表面。
163.權利要求162的試劑盒，其還包含薄層多孔基質前體。
164.權利要求162或163的試劑盒，其中所述形成孔的裝置包含密封元件，所述密封元件被配置成針對所述基材形成密封。
165.權利要求162-164任一項的試劑盒，其還包含加壓板，所述加壓板被配置成將所述形成孔的裝置緊靠所述基材固定。
166.權利要求162-165任一項的試劑盒，其還包括加熱元件，所述加熱元件被配置成加熱所述基材和所述形成孔的裝置。
167.權利要求162-166任一項的試劑盒，其還包含網。
168.權利要求162-167任一項的試劑盒，其中所述基材包含PTFE涂層，所述涂層形成多個特征，所述特征被配置成維持薄層多孔基質布置在所述基材上方。
169.權利要求162-168任一項的試劑盒，其還包含流體裝置。
170.權利要求1-110任一項的方法，其中從所述薄層多孔基質或多孔基質除去非多核苷酸分子在不存在電場的情況下進行。
171.權利要求1-110任一項的方法，其中從所述薄層多孔基質或多孔基質除去非多核苷酸分子不包括電泳。
172.權利要求1-110或170-171任一項的方法，其中所述基材包括松或緊的網，由此將所述前體材料形成為插入在所述網的纖維的一個或多個表面之間或之上的薄層，從而將所述樣品固定化在薄層多孔基質中。
173.權利要求1-110或170-171任一項的方法，其中將所述薄層多孔基質固定化成插入在網的纖維的一個或多個表面之間或所述網的纖維的一個或多個表面上的薄層，以便于洗滌或標記來自于所述網的第一和第二表面的多核苷酸。
174.權利要求1-110或170-171任一項的方法，其中所述基材包含特征，由此將所述前體材料形成為插入在所述特征之間的薄層，從而將所述樣品固定化在薄層多孔基質中。
175.權利要求174的方法，其中所述特征包含柱狀物。
176.權利要求1-110或170-171任一項的方法，其中所述薄層多孔基質通過與空氣壓力變化例如壓縮空氣或真空的接觸來形成，由此將所述前體材料形成為薄層，從而將所述樣品固定化在薄層多孔基質中。
177.權利要求176的方法，其中與空氣壓力變化的接觸包括壓縮空氣或真空。
178.權利要求1-110或170-171任一項的方法，其中所述薄層多孔基質通過與離心力例如來自于離心機的離心力的接觸來形成，由此將所述薄層多孔基質的前體形成為薄層，從而將所述樣品固定化在薄層多孔基質中。
179.權利要求178的方法，其中與離心力的接觸包括來自于離心機的力。