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一種高濃度pc反射片母粒及其制備方法和應(yīng)用的制作方法

文檔序號(hào):3607798閱讀:273來源:國(guó)知局
一種高濃度pc反射片母粒及其制備方法和應(yīng)用的制作方法
【專利摘要】一種高濃度PC反射片光學(xué)母粒及其制備方法其特征在于由以下重量百分比原料組成:PC樹脂30-40%、無(wú)機(jī)粒子50-60%,分散劑4-10%,阻燃劑1-2%,光穩(wěn)定劑1-3%。其制備方法是將計(jì)量的無(wú)機(jī)粒子與分散劑在高混機(jī)中,80℃高速攪拌10分鐘預(yù)處理;然后將上述其他材料與預(yù)處理好的無(wú)機(jī)粒子在低速混合狀態(tài)下充分混合;再用精密計(jì)量的送料裝置將混合的原材料送入雙螺桿擠出機(jī)中,在螺桿的高速剪切,混煉和輸送下,物料得以充分的熔化,復(fù)合,最后擠出,拉條,冷卻,切粒,得到PC反射片光學(xué)母粒。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是所得PC反射片光學(xué)母粒添加比例小、阻燃效果好、光散射反射率高、亮度均勻、紫外穩(wěn)定性好、加工性能好。
【專利說明】-種高濃度PC反射片母粒及其制備方法和應(yīng)用

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及光學(xué)母粒,尤其是用于制造高濃度PC反射片的光學(xué)母粒及其制備方 法。

【背景技術(shù)】
[0002] 通常光反射材料的用途包括顯示器、標(biāo)志牌、廣告牌、照明燈和液晶背光。至今所 用的光反射片材有金屬板、金屬鉛/塑料片、鍛金屬的塑料片、發(fā)泡拉伸PET (聚對(duì)苯二甲酸 己二醇醋)薄膜、二氧化鐵的聚碳酸醋樹脂組合物等。目前存在的問題是:金屬板的加工工 藝復(fù)雜,鍛金屬的塑料片加工工藝繁瑣且對(duì)環(huán)境污染大,發(fā)泡拉伸PET加工工藝要求精度 高且耐溫性不好,二氧化鐵的聚碳酸醋樹脂組合物的耐溫性良好,均是低二氧化鐵含量的 聚碳酸醋組合物,在高濃度反射片光學(xué)母粒方面未見報(bào)道。
[0003] 液晶顯示在電腦、電視、戶外廣告等領(lǐng)域越來越普及,為了提高圖像平面亮度及節(jié) 約能源,使用直下式背光作為光源,用反射片將透過導(dǎo)光板的光源反射回導(dǎo)光板,成為提高 亮度、降低能耗的一個(gè)重要手段。
[0004] 近年來提出許多關(guān)于光反射材料的技術(shù),例如由基材、金屬鍛層、粘結(jié)劑層和保護(hù) 層組成的反射片(例如參見專利201020685606. 0) ;PET微發(fā)泡板(例如日本古河電工產(chǎn)品); 合成聚帰姪紙漿抄紙片材反射片(例如參見專利200680043298. 6);含生物降解的聚醋和聚 帰姪組合物基材反射片(例如參見專利200880009999. 9);與經(jīng)特殊表面處理的二氧化鐵共 混W充分利用聚碳酸醋的優(yōu)異機(jī)械性能(特別是抗沖擊性)、電特性、尺寸穩(wěn)定性和阻燃性 (例如參見日本專利申請(qǐng)公開207092/1994、日本專利申請(qǐng)公開316314/1997和日本申請(qǐng)公 開316315/1997,專利200580025693. 9,專利200480026552. 4);與特定的無(wú)機(jī)填料共混(例 如參見日本專利申請(qǐng)公開242810/1995);與其他聚合物共混(例如參見日本專利申請(qǐng)公開 242781/1995、日本專利申請(qǐng)公開12869/1996、日本專利申請(qǐng)公開302959/2000和日本專利 申請(qǐng)公開12757/2000) W及與發(fā)泡產(chǎn)品混合;二氧化鐵聚碳酸醋樹脂組合物在0. 4-2mm厚 反射片中應(yīng)用(參見日本專利申請(qǐng)公開JP2004/002560)。專利201310006490. 1中提到一種 高聚合物漫反射材料的配方及其生產(chǎn)制備方法,是低二氧化鐵含量的聚碳酸醋組合物。
[0005] 但是,上述反射片材料為PET或是金屬?gòu)?fù)合物,使用聚碳酸醋樹脂的光反射材料 主要研究了在注塑零件中或是熱塑片材中的應(yīng)用,而對(duì)反射片的聚碳酸醋樹脂的高濃度光 學(xué)母粒沒有充分研究。
[0006] 在使用直下型液晶背光或是照明燈的情況下,反射片通常接近光源(冷的陰極管 或是L邸燈),鏡面反射強(qiáng)的材料中的光源位置易產(chǎn)生亮處和暗處,因此當(dāng)通過液晶圖像平 面觀察時(shí),可引起亮度不均勻,故消除反射片的鏡面反射率的同時(shí)需要保持光散射反射率。
[0007] 反射片通常接近多光源,因此反射片在光源的波長(zhǎng)范圍內(nèi)需要有耐光性。從冷的 陰極管發(fā)出的用作液晶光源的光除了可見光區(qū)的光W外,還有波長(zhǎng)為200-400nm的紫外 線,該種紫外線會(huì)導(dǎo)致反射片的變黃,從而降低反射片的反射率,故反射片需要有紫外穩(wěn)定 性。
[0008] 另外,隨著電子電器的阻燃要求的全面推行,要求反射片符合電子電器的阻燃性 能。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題之一是提供一種高濃度PC反射片母粒,W其為原料 制造出來的高反射率PC反射片,具有阻燃性好、耐候性好、光散射反射率高、亮度均勻、紫 外穩(wěn)定性好的優(yōu)點(diǎn)。
[0010] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題之二是提供一種高濃度PC反射片母粒的制備方法, W制備出的母粒為原料制造出來的高密度PC反射鏡,具有阻燃性好、耐候性好、光散射反 射率高、亮度均勻、紫外穩(wěn)定性好的優(yōu)點(diǎn)。
[0011] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題之H是提供一種高濃度PC反射片母粒的應(yīng)用,W母 粒為原料制造出來的高反射率PC反射片,具有阻燃性好、耐候性好、光散射反射率高、亮度 均勻、紫外穩(wěn)定性好的優(yōu)點(diǎn)。
[0012] 為解決上述技術(shù)問題之一,本發(fā)明的技術(shù)方案是;一種高濃度PC反射片母粒,由 W下重量百分比原料組成: PC 樹脂 3〇-40〇/〇 無(wú)機(jī)粒子 50-60% 分散劑 4-10% 阻燃劑 1-2% 光穩(wěn)定劑 1-3%。
[0013] 本發(fā)明利用不同無(wú)機(jī)粒子配合技術(shù)、獨(dú)到的無(wú)機(jī)粒子分散技術(shù)(通過雙親性分散 劑的加入,將無(wú)機(jī)粒子與分散劑在高混機(jī)中高混預(yù)處理,預(yù)處理后,分散劑的一端與無(wú)機(jī)粒 子緊密結(jié)合,形成化學(xué)鍵),在保證無(wú)機(jī)粒子的分散均勻性的基礎(chǔ)上,利用不同無(wú)機(jī)粒子對(duì) 不同波長(zhǎng)光線的不同反射率,選擇性的調(diào)節(jié)對(duì)可見光區(qū)光線的反射,同時(shí)阻燃劑與光穩(wěn)定 劑的加入,在不影響光學(xué)母粒的反射率的前提下,增加其阻燃性及光穩(wěn)定性,從而滿足光反 射片的阻燃、光散射反射率高、亮度均勻的要求。
[0014] 作為改進(jìn),所述PC樹脂為中粘度脂肪族、芳香族聚碳酸醋中的一種或其混合物。
[0015] 作為改進(jìn),所述無(wú)機(jī)粒子為二氧化鐵、硫酸頓、二氧化娃、氧化鋒中的一種或其混 合物。
[0016] 作為改進(jìn),所述阻燃劑為賴酸鹽類阻燃劑、有機(jī)娃系阻燃劑中的一種或其混合物。
[0017] 作為改進(jìn),所述光穩(wěn)定劑為受阻胺基化合物、苯并H哇基化合物、二苯麗基化合物 中的一種或是混合物。
[0018] 作為改進(jìn),所述分散劑為丙帰酸醋離聚物、PE蠟、雙季戊四醇硬脂酸醋中的一種或 其混合物。
[0019] 為解決上述技術(shù)問題之二,本發(fā)明的技術(shù)方案是;一種高濃度PC反射片母粒的制 備方法,包括W下步驟: 第一步、按比例稱取無(wú)機(jī)粒子及分散劑,將二者放入高混機(jī)中,在8(TC溫度下高速攬拌 5?15分鐘預(yù)處理; 第二步、按比例將PC樹脂、阻燃劑、光穩(wěn)定劑加入預(yù)處理好的無(wú)機(jī)粒子中,然后低速攬 拌充分混合; 第H步、用精密計(jì)量的送料裝置將混合的原材料送入雙螺桿擠出機(jī)中,在螺桿的高速 剪切,混煉和輸送下,物料得W充分的烙化,復(fù)合,采用的雙螺桿擠出設(shè)備的長(zhǎng)徑比至少為 32,并帶有精確的溫度控制和真空排氣設(shè)備,螺桿轉(zhuǎn)速在100-600轉(zhuǎn)/分鐘范圍內(nèi),其中雙 螺桿擠出溫度按物料輸送方向包括一區(qū)220-25(TC,二區(qū)230-25(TC,H區(qū)230-25(TC,四區(qū) 230-260°C,五區(qū)230-260°C,六區(qū)230-260°C,走區(qū)220-250°C ;物料在雙螺桿擠出機(jī)內(nèi)停留 時(shí)間2-3分鐘; 第四步、擠出,拉條,冷卻,切粒,最后得到成品。
[0020] 本發(fā)明利用不同無(wú)機(jī)粒子配合技術(shù)、獨(dú)到的無(wú)機(jī)粒子分散技術(shù)(通過雙親性分散 劑的加入,將無(wú)機(jī)粒子與分散劑在高混機(jī)中高混預(yù)處理,預(yù)處理后,分散劑的一端與無(wú)機(jī)粒 子緊密結(jié)合,形成化學(xué)鍵),在保證無(wú)機(jī)粒子的分散均勻性的基礎(chǔ)上,利用不同無(wú)機(jī)粒子對(duì) 不同波長(zhǎng)光線的不同反射率,選擇性的調(diào)節(jié)對(duì)可見光區(qū)光線的反射,同時(shí)阻燃劑與光穩(wěn)定 劑的加入,在不影響光學(xué)母粒的反射率的前提下,增加其阻燃性及光穩(wěn)定性,從而滿足光反 射片的阻燃、光散射反射率高、亮度均勻的要求。
[0021] 為解決上述技術(shù)問題之H,本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種高濃度PC反射片母粒的應(yīng) 用,按重量百分比,將4(T50%的母粒與45^65%的PC基體低速混勻后,加入片材擠出機(jī)中擠 出成型出PC反射片。本發(fā)明利用不同無(wú)機(jī)粒子配合技術(shù)、獨(dú)到的無(wú)機(jī)粒子分散技術(shù)(通過 雙親性分散劑的加入,將無(wú)機(jī)粒子與分散劑在高混機(jī)中高混預(yù)處理,預(yù)處理后,分散劑的一 端與無(wú)機(jī)粒子緊密結(jié)合,形成化學(xué)鍵),在保證無(wú)機(jī)粒子的分散均勻性的基礎(chǔ)上,利用不同 無(wú)機(jī)粒子對(duì)不同波長(zhǎng)光線的不同反射率,選擇性的調(diào)節(jié)對(duì)可見光區(qū)光線的反射,同時(shí)阻燃 劑與光穩(wěn)定劑的加入,在不影響光學(xué)母粒的反射率的前提下,增加其阻燃性及光穩(wěn)定性,從 而滿足光反射片的阻燃、光散射反射率高、亮度均勻的要求。
[0022] 本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比所帶來的有益效果是: 本發(fā)明利用不同無(wú)機(jī)粒子配合技術(shù)、獨(dú)到的無(wú)機(jī)粒子分散技術(shù)(通過雙親性分散劑的 加入,將無(wú)機(jī)粒子與分散劑在高混機(jī)中高混預(yù)處理,預(yù)處理后,分散劑的一端與無(wú)機(jī)粒子緊 密結(jié)合,形成化學(xué)鍵),在保證無(wú)機(jī)粒子的分散均勻性的基礎(chǔ)上,利用不同無(wú)機(jī)粒子對(duì)不同 波長(zhǎng)光線的不同反射率,選擇性的調(diào)節(jié)對(duì)可見光區(qū)光線的反射,同時(shí)阻燃劑與光穩(wěn)定劑的 加入,在不影響光學(xué)母粒的反射率的前提下,增加其阻燃性及光穩(wěn)定性,從而滿足光反射片 的阻燃、光散射反射率高、亮度均勻的要求。

【具體實(shí)施方式】
[0023] -種高濃度PC反射片母粒,由W下重量百分比原料組成;PC樹脂30-40%,無(wú)機(jī)粒 子50-60%,分散劑4-10%,阻燃劑1-2%,光穩(wěn)定劑1-3〇/〇。
[0024]
[00巧]所述的PC樹脂為脂肪族、芳香族聚碳酸醋中的一種或其混合物,優(yōu)選帝人公司的 1250Y或是LG公司的201-10 ;所述無(wú)機(jī)粒子為二氧化鐵、硫酸頓、二氧化娃、氧化鋒中的一 種或其混合物,優(yōu)選杜邦鐵白粉R350和吉必盛二氧化娃皿-630 ;所述分散劑為丙帰酸醋離 聚物、PE蠟、雙季戊四醇硬脂酸醋中的一種或其混合物,優(yōu)選霍尼韋爾C295A、意大利發(fā)基 PETS和科萊恩PE520 ;所述阻燃劑為賴酸鹽類阻燃劑、有機(jī)娃系阻燃劑中的一種或其混合 物,優(yōu)選日本高化學(xué)E42和道康寧DC-8008 ;所述光穩(wěn)定劑為受阻胺基化合物、苯并H哇基 化合物、二苯麗基化合物中的一種或其混合物,優(yōu)選己斯夫770、327、1544。
[002引表1配合實(shí)例

【權(quán)利要求】
1. 一種高濃度PC反射片母粒,由以下重量百分比原料組成: PC 樹脂 30-40% 無(wú)機(jī)粒子 50-60% 分散劑 4-10% 阻燃劑 1-2% 光穩(wěn)定劑 1-3%。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度PC反射片母粒,其特征在于:所述PC樹脂為中 粘度脂肪族、芳香族聚碳酸酯中的一種或其混合物。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度PC反射片母粒,其特征在于:所述無(wú)機(jī)粒子為二 氧化鈦、硫酸鋇、二氧化娃、氧化鋅中的一種或其混合物。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度PC反射片母粒,其特征在于:所述阻燃劑為磺酸 鹽類阻燃劑、有機(jī)硅系阻燃劑中的一種或其混合物。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度PC反射片母粒,其特征在于:所述光穩(wěn)定劑為受 阻胺基化合物、苯并三唑基化合物、二苯酮基化合物中的一種或是混合物。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度PC反射片母粒,其特征在于:所述分散劑為丙烯 酸酯離聚物、PE蠟、雙季戊四醇硬脂酸酯中的一種或其混合物。
7. -種如權(quán)利要求1所述的高濃度PC反射片母粒的制備方法,其特征在于,包括以下 步驟: 第一步、按比例稱取無(wú)機(jī)粒子及分散劑,將二者放入高混機(jī)中,在80°C溫度下高速攪拌 5?15分鐘預(yù)處理; 第二步、按比例將PC樹脂、阻燃劑、光穩(wěn)定劑加入預(yù)處理好的無(wú)機(jī)粒子中,然后低速攪 拌充分混合; 第三步、用精密計(jì)量的送料裝置將混合的原材料送入雙螺桿擠出機(jī)中,在螺桿的高速 剪切,混煉和輸送下,物料得以充分的熔化,復(fù)合,采用的雙螺桿擠出設(shè)備的長(zhǎng)徑比至少為 32,并帶有精確的溫度控制和真空排氣設(shè)備,螺桿轉(zhuǎn)速在100-600轉(zhuǎn)/分鐘范圍內(nèi),其中雙 螺桿擠出溫度按物料輸送方向包括一區(qū)220-250°C,二區(qū)230-250°C,三區(qū)230-250°C,四區(qū) 230-260°C,五區(qū)230-260°C,六區(qū)230-260°C,七區(qū)220-250°C ;物料在雙螺桿擠出機(jī)內(nèi)停留 時(shí)間2-3分鐘; 第四步、擠出,拉條,冷卻,切粒,最后得到成品。
8. -種如利要求1所述的高濃度PC反射片母粒的應(yīng)用,其特征在于:按重量百分比, 將4(T50%的母粒與45?65%的PC基體低速混勻后,加入片材擠出機(jī)中擠出成型出PC反射 片。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高濃度PC反射片母粒的應(yīng)用,其特征在于:母粒的制造 方法,包括以下步驟: 第一步、按比例稱取無(wú)機(jī)粒子及分散劑,將二者放入高混機(jī)中,在80°C溫度下高速攪拌 5?15分鐘預(yù)處理; 第二步、按比例將PC樹脂、阻燃劑、光穩(wěn)定劑加入預(yù)處理好的無(wú)機(jī)粒子中,然后低速攪 拌充分混合; 第三步、用精密計(jì)量的送料裝置將混合的原材料送入雙螺桿擠出機(jī)中,在螺桿的高速 剪切,混煉和輸送下,物料得以充分的熔化,復(fù)合,采用的雙螺桿擠出設(shè)備的長(zhǎng)徑比至少為 32,并帶有精確的溫度控制和真空排氣設(shè)備,螺桿轉(zhuǎn)速在100-600轉(zhuǎn)/分鐘范圍內(nèi),其中雙 螺桿擠出溫度按物料輸送方向包括一區(qū)220-250°C,二區(qū)230-250°C,三區(qū)230-250°C,四區(qū) 230-260°C,五區(qū)230-260°C,六區(qū)230-260°C,七區(qū)220-250°C ;物料在雙螺桿擠出機(jī)內(nèi)停留 時(shí)間2-3分鐘; 第四步、擠出,拉條,冷卻,切粒,最后得到成品。
【文檔編號(hào)】C08L69/00GK104356622SQ201410509062
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月28日
【發(fā)明者】萬(wàn)兆榮, 張勝煬, 針濤, 張揚(yáng), 黃少洲, 黃煥坤, 翟森 申請(qǐng)人:廣州科苑新型材料有限公司
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