專利名稱：一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適用于塑膠產(chǎn)品表面裝飾的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法。
背景技術(shù)：
目前市場上針對塑膠產(chǎn)品表面裝飾的真空鍍膜主要為導(dǎo)電性鍍膜，其產(chǎn)品在屏蔽電磁波上存在不良，對電子原件有一定影響。

發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種適用于塑膠產(chǎn)品表面裝飾的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，它制得的不導(dǎo)電金屬膜不但外觀亮麗，且膜層不導(dǎo)電，能有效屏蔽電磁波干擾，保護(hù)電子原件。 本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，它包括以下步驟 步驟一，選取塑膠產(chǎn)品并對其表面進(jìn)行超聲波清洗，干燥；
步驟二，在經(jīng)過清洗，干燥后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV底涂層；
步驟三，將經(jīng)噴涂后的塑膠產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜； 步驟四，最后在經(jīng)鍍膜后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV保護(hù)層得到不導(dǎo)電金屬膜。
所述步驟一中采用頻率為28khz的超聲波發(fā)聲器，清洗液與純水比例為1:3-1: 5;所述步驟二中塑膠產(chǎn)品表面UV底涂層的膜厚控制在2-25um;所述步驟三采用適用于塑膠產(chǎn)品NCVM鍍膜的蒸發(fā)鍍膜機(jī)進(jìn)行真空鍍膜，膜厚控制在30nm以內(nèi)，所述鍍膜材料采用錫絲(99.9995% )、銦錫合金絲(1 : 9)及銦絲(99.9995% );所述的步驟四中塑膠產(chǎn)品表面UV保護(hù)層的膜厚控制在8-16um ;所述UV材料均采用在線往復(fù)噴涂線進(jìn)行噴涂。 本發(fā)明具有以下有益效果本發(fā)明的鍍膜材料采用錫絲、銦錫合金絲及銦絲等可融的電阻值較大的金屬，通過加熱蒸發(fā)附著于塑膠件產(chǎn)品表面，成形后膜表面電阻值》5MQ大于原塑膠產(chǎn)品表面阻抗約2MQ。同時通過UV層對金屬膜層進(jìn)行保護(hù)，以防止氧化現(xiàn)象產(chǎn)生。本發(fā)明提高了產(chǎn)品穩(wěn)定性，降低生產(chǎn)成本，同時整個生產(chǎn)過程達(dá)到環(huán)保要求。
具體實施例方式
本發(fā)明公開了一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，它包括以下步驟步驟一，對塑膠產(chǎn)品表面進(jìn)行超聲波清洗，干燥；超聲波采用頻率為28khz的超聲波發(fā)聲器，清洗液與純水比例為1 : 3-1 : 5。步驟二，在經(jīng)過清洗，干燥后的塑膠產(chǎn)品表面用在線往復(fù)噴涂線噴涂UV底涂層，UV底涂層的膜厚控制在2-25um。步驟三，將經(jīng)噴涂后的塑膠產(chǎn)品采用適用于塑膠產(chǎn)品NCVM鍍膜的蒸發(fā)鍍膜機(jī)進(jìn)行真空鍍膜，膜厚控制在30nm以內(nèi)，鍍膜材料采用錫絲(99. 9995% )、銦錫合金絲(1:9)及銦絲(99. 9995% )。步驟四，最后在經(jīng)鍍膜后的塑膠產(chǎn)品表面用在線往復(fù)追蹤噴涂線噴涂UV保護(hù)層，得到不導(dǎo)電金屬膜，UV保護(hù)層的膜厚控制在8-16umc
權(quán)利要求
一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是它包括以下步驟步驟一，選取塑膠產(chǎn)品并對其表面進(jìn)行超聲波清洗，干燥；步驟二，在經(jīng)過清洗，干燥后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV底涂層；步驟三，將經(jīng)噴涂后的塑膠產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜；步驟四，最后在經(jīng)鍍膜后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV保護(hù)層得到不導(dǎo)電金屬膜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是所述步驟一中采用頻率為28khz的超聲波發(fā)聲器，清洗液與純水比例為1 : 3-1 : 5。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是所述步驟二中塑膠產(chǎn)品表面UV底涂層的膜厚控制在2-25um。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是所述步驟三采用適用于塑膠產(chǎn)品NCVM鍍膜的蒸發(fā)鍍膜機(jī)進(jìn)行真空鍍膜，膜厚控制在30nm以內(nèi)，所述鍍膜材料采用錫絲(99. 9995% )、銦錫合金絲(1:9)及銦絲(99. 9995% )。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是所述的步驟四中塑膠產(chǎn)品表面UV保護(hù)層的膜厚控制在8-16um。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或3或5所述的一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是所述UV材料均采用在線往復(fù)噴涂線進(jìn)行噴涂。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，它包括以下步驟一種用于塑膠產(chǎn)品表面的不導(dǎo)電金屬膜的制作方法，其特征是它包括以下步驟步驟一，選取塑膠產(chǎn)品并對其表面進(jìn)行超聲波清洗，干燥；步驟二，在經(jīng)過清洗，干燥后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV底涂層；步驟三，將經(jīng)噴涂后的塑膠產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜；步驟四，最后在經(jīng)鍍膜后的塑膠產(chǎn)品表面噴涂UV保護(hù)層得到不導(dǎo)電金屬膜。本發(fā)明制得的不導(dǎo)電金屬膜不但外觀亮麗，且膜層不導(dǎo)電，能有效屏蔽電磁波干擾，保護(hù)電子原件。
文檔編號C08J7/04GK101781751SQ20101012969
公開日2010年7月21日 申請日期2010年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月23日
發(fā)明者張斌, 陳堯 申請人:張斌