專利名稱：反應(yīng)型二氧化硅化合物以及包含其的光學(xué)保護(hù)膜的制作方法
反應(yīng)型二氧化硅化合物以及包含其的光學(xué)保護(hù)膜
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種反應(yīng)型二氧化硅化合物以及光學(xué)保護(hù)膜，且特別涉及一種包含該 反應(yīng)型二氧化硅化合物的光學(xué)保護(hù)膜，其中反應(yīng)型二氧化硅化合物可減低光學(xué)保護(hù)膜的相 位差與增加保護(hù)膜的穿透度。
背景技術(shù)：
納米級(jí)二氧化硅材料被用在高分子材料中當(dāng)透明的填充料，以增加高分子材料的 表面硬度、機(jī)械強(qiáng)度與耐熱性，其被廣泛地應(yīng)用在涂布材料、涂料、薄膜與汽車的表面處理 上。目前，納米級(jí)二氧化硅材料也被應(yīng)用在光學(xué)膜上，但當(dāng)用量增加時(shí)會(huì)造成霧度 (haze)增加。A. Tagaya ,H. Ohkita, M. Mukaoh，R. Sakaguch i,Y. Koike, Science, 301,812, (2003) 披露高分子材料摻入無機(jī)鹽類結(jié)晶化合物可降低Rtl值，但無法降低Rth值。美國專利US 6828006與US 6844033中披露，三醋酸纖維素光學(xué)膜中納米級(jí)二氧 化硅材料的添加量不高于0. 3%,由于高于0. 3%時(shí)，光學(xué)膜的穿透度會(huì)下降，且霧度會(huì)大 幅升高，而無法達(dá)到光學(xué)級(jí)的應(yīng)用要求。目前亟需一種新的光學(xué)保護(hù)膜，其具有低相位差與低霧度。因此在本發(fā)明中，提 供含有反應(yīng)型納米級(jí)二氧化硅的光學(xué)保護(hù)膜，具有低相位差與低霧度。而反應(yīng)型納米級(jí)二 氧化硅材料的表面改性，可以增加與高分子材料的相容性，進(jìn)而提高材料的穿透度，降低霧 度，可達(dá)到光學(xué)級(jí)的應(yīng)用要求。反應(yīng)型二氧化硅化合物可以解決高階偏光保護(hù)膜的雙折射效應(yīng)(out-of-plane)， 減少大角度視角的漏光與色彩漂移，并降低亮態(tài)/暗態(tài)的對(duì)比。另外其可應(yīng)用于塑膠太陽 能集光透鏡等光學(xué)領(lǐng)域。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種反應(yīng)型二氧化硅化合物，其中該反應(yīng)型二氧化硅化合物的分子式 如式⑴所示

權(quán)利要求
1.一種反應(yīng)型二氧化硅化合物，該反應(yīng)型二氧化硅化合物的分子式如式(I)所示
2.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)型二氧化硅化合物，其中在該反應(yīng)型二氧化硅化合物中， 該反應(yīng)性官能團(tuán)的含量為約0. l-95wt%。
3.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)型二氧化硅化合物，其中該反應(yīng)型二氧化硅化合物系由二 氧化硅與含該反應(yīng)性官能團(tuán)的硅烷反應(yīng)所形成。
4.如權(quán)利要求3所述的反應(yīng)型二氧化硅化合物，其中該含該反應(yīng)性官能團(tuán)的硅烷包括3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和/或3-(環(huán)氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷。
5.一種光學(xué)保護(hù)膜，其包括如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)型二氧化硅化合物，其含量為5-50wt% ；以及 三醋酸纖維素，其含量為50-95wt%。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中該反應(yīng)型二氧化硅化合物的粒徑范圍為約 0.l-100nm。
7.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中在該三醋酸纖維素中，醋酸基的含量為約 34-44wt%。
8.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，還包括增塑劑，其中該增塑劑的含量為約4-20wt%。
9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中該增塑劑包括磷酸三苯酯、2-聯(lián)苯基磷酸二 苯酯或鄰苯二甲酸乙酯乙基乙醇酸酯。
10.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中該光學(xué)保護(hù)膜的R0值為約0-3nm；該光學(xué)保 護(hù)膜的Rth值為約O-lOOnm。
11.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中該光學(xué)保護(hù)膜的霧度為約0.1-2. 0。
12.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)保護(hù)膜，其中該光學(xué)保護(hù)膜的厚度為約1-500μ m。
全文摘要
一種反應(yīng)型二氧化硅化合物，其分子式如式(I)所示式(I)，其中每個(gè)R獨(dú)立地為反應(yīng)性官能團(tuán)，如式(II)或(III)所示式(II)式(III)，且其中R1、R2與R3獨(dú)立地包括H或CH3，n1為約1-6的整數(shù)與n2為約0-4的整數(shù)。一種光學(xué)保護(hù)膜，其包括該反應(yīng)型二氧化硅化合物以及三醋酸纖維素。
文檔編號(hào)C08K5/5435GK102050834SQ20091020939
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2009年11月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月6日
發(fā)明者劉佳明, 吳明宗, 張德宜, 陳文俊, 黃國棟 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院