1.一種全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：設(shè)有坩堝本體，坩堝本體的內(nèi)底部設(shè)有高效復(fù)合涂層，所述高效復(fù)合涂層由從下往上依次鋪設(shè)的鑄錠阻隔層、復(fù)合形核層和形核保護層構(gòu)成，所述高效復(fù)合涂層的整體厚度在0.3-3mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述的鑄錠阻隔層厚度為0.1-1mm，所述復(fù)合形核層的厚度為0.1-2mm，所述形核保護層的厚度為0.1-0.5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述的鑄錠阻隔層厚度為0.2-0.5mm，所述復(fù)合形核層的厚度為0.5-1mm，所述形核保護層的厚度為0.2-0.3mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述復(fù)合形核層中顆粒的粒度為0.1-5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述復(fù)合形核層中顆粒的粒度為150μm-600μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述的復(fù)合形核層設(shè)有上下兩層，上層為由呈多面體的硅顆粒構(gòu)成的硅顆粒層，下層為由呈多面體的石英砂顆?；蛱蓟桀w粒構(gòu)成的硅化物顆粒層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：所述高效復(fù)合涂層的整體厚度為0.8-2mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：在所述高效復(fù)合涂層的下方設(shè)有由硅顆粒或石英砂顆粒構(gòu)成的高效涂層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全熔多晶硅鑄錠坩堝，其特征在于：在所述坩堝本體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有氮化硅涂層。