本發(fā)明屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法和應(yīng)用。

背景技術(shù)：

根據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)gb/18915.2的定義，低輻射鍍膜玻璃是一種對4.5μm～25μm波段紅外線有較高反射比的鍍膜玻璃。具體來說，這種玻璃具有較好的隔熱性能和遮陽性能，能夠在保證室內(nèi)采光充足的條件下，有效地屏蔽進(jìn)入室內(nèi)的太陽輻射能，避免室內(nèi)溫度升高，節(jié)約室內(nèi)空調(diào)的能源消耗。

現(xiàn)有的單銀低輻射鍍膜玻璃的膜系結(jié)構(gòu)基本為sinx膜層/nicr膜層/ag膜層/nicr膜層/sinx膜層。這種常規(guī)的結(jié)構(gòu)，設(shè)計簡單，所制造的膜系反射和透過往往互補(bǔ)，也就是，透過越低反射越高或者透過越高反射越低，壓根無法同時滿足低反低透的效果。而現(xiàn)在一些經(jīng)濟(jì)發(fā)達(dá)地區(qū)考慮到光污染的問題，往往要求反射率極低，同時又要做到光線屏蔽的效果，當(dāng)然同時還要考慮到玻璃的性能要求。雙銀低輻射鍍膜和三銀低輻射鍍膜可以做到，但是帶來的是成本的上升。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對目前的低輻射鍍膜玻璃無法實(shí)現(xiàn)低反低透效果的問題，本發(fā)明提供一種低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃。

為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案如下：

一種低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次沉積的第一電介質(zhì)層、反射層、第二電介質(zhì)層、第一阻擋層、紅外線反射層、第二阻擋層及第三電介質(zhì)層；

所述第一電介質(zhì)層為tiox膜層、sinx膜層、sinxoy膜層、znox膜層或znalox膜層中的任一層或任意兩層；

所述反射層為nbox膜層、nbnx膜層、nicr膜層、nicrox膜層、nicrnx膜層或crnx膜層中的任一層；

所述第二電介質(zhì)層為tiox膜層、sinx膜層、sinxoy膜層、znox膜層、znalox膜層、snox膜層、znsnox膜層或azo膜層中的任一層或任意兩層；

所述第一阻擋層、第二阻擋層為nicr膜層、nicrox膜層、crnx膜層中的任一層；

所述紅外線反射層為ag膜層；

所述第三電介質(zhì)層為sinx膜層、siox膜層、sinxoy膜層或tiox膜層中的任一層或任意兩層。

上述實(shí)施例中的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃，采用七層鍍膜層替換了常規(guī)的單銀膜系，鍍膜層與玻璃基板結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻，膜層抗劃傷能力強(qiáng)，外觀呈現(xiàn)低反低透狀，不僅滿足了各大城市對光污染的要求，還具有很好的外觀效果，滿足人們對玻璃顏色的需求，而且也能很好的滿足人們對玻璃性能的要求。

進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了上述低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制造方法。

所述的制造方法至少包括以下步驟：在潔凈的玻璃基板一表面向外依次進(jìn)行第一電介質(zhì)層、反射層、第二電介質(zhì)層、第一阻擋層、紅外線反射層、第二阻擋層和第三電介質(zhì)層的沉積處理，并在所述沉積處理過程中，采用在線光度計測量膜層顏色的參數(shù)。

上述實(shí)施例中，低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制造過程中，采用在線光度計實(shí)時測量膜層顏色參數(shù)，根據(jù)顏色參數(shù)進(jìn)行膜層厚度的調(diào)整與優(yōu)化，使生產(chǎn)的玻璃在保障優(yōu)異膜層質(zhì)量的同時，滿足人們對單銀低輻射鍍膜玻璃的需求。同時，由于生產(chǎn)工藝先進(jìn)，鍍膜層與玻璃基板結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻，膜層抗劃傷能力強(qiáng)，產(chǎn)品良率高，保證了單銀低輻射鍍膜玻璃的可加工性能及使用性能。

更進(jìn)一步地，上述低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃在建筑門窗、建筑幕墻以及建筑物內(nèi)部裝飾領(lǐng)域中的應(yīng)用。

建筑門窗、建筑幕墻及建筑物內(nèi)部裝飾采用本發(fā)明的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃時，可大大降低玻璃的成本。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中：

圖1是本發(fā)明實(shí)施例低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例1提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的玻面反射率光譜曲線；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例1提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的膜面反射率光譜曲線；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例1提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的透過率光譜曲線；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例2提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的玻面反射率光譜曲線；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例2提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的膜面反射率光譜曲線；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例2提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的透過率光譜曲線；

圖8是本發(fā)明實(shí)施例3提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的玻面反射率光譜曲線；

圖9是本發(fā)明實(shí)施例3提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的膜面反射率光譜曲線；

圖10是本發(fā)明實(shí)施例3提供的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的透過率光譜曲線。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1所示，本發(fā)明實(shí)例提供了一種低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃。該低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1，以及自所述玻璃基板1一表面向外依次疊設(shè)的第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7及第三電介質(zhì)層8。

其中，在任一實(shí)施例中，玻璃基板1為浮法玻璃。

優(yōu)選地，浮法玻璃的厚度為3～19mm。

在任一實(shí)施例中，第一電介質(zhì)層2為tiox膜層、sinx膜層、sinxoy膜層、znox膜層或znalox膜層中的任一種，或者由前述任意兩種疊設(shè)而成；

第一電介質(zhì)層2位于玻璃基板1和反射層3之間，能夠阻止玻璃基板1中的na⁺向膜層中滲透，增加膜層和玻璃基片之間的吸附力，提高物理和化學(xué)性能，控制膜系的光學(xué)性能和顏色。

反射層3為nbox膜層、nbnx膜層、nicr膜層、nicrox膜層、nicrnx膜層或crnx膜層中的任一種；

反射層3位于第二電介質(zhì)層4和第一電介質(zhì)層2之間，具有調(diào)節(jié)膜層綜合反射和透過的作用。

第二電介質(zhì)層4為tiox膜層、sinx膜層、sinxoy膜層、znox膜層、znalox膜層、snox膜層、znsnox膜層或azo膜層中的任一層或任意兩層的復(fù)合；

第二電介質(zhì)層4位于第一阻擋層5和反射層3之間，具有控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。

第一阻擋層5為nicr膜層、nicrox膜層、crnx膜層中的任一層；

第一阻擋層5位于紅外線反射層6和第二電介質(zhì)層4之間，具有保護(hù)功能層，控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。

紅外線反射層6為ag膜層；

紅外線反射層6位于第二阻擋層7和第一阻擋層5之間，具有降低輻射率、增強(qiáng)保溫或隔熱性能、控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。

第二阻擋層7為nicr膜層、nicrox膜層、crnx膜層中的任一層；

第二阻擋層7位于第三電介質(zhì)層8與紅外線反射層6之間，具有保護(hù)功能層，減少氧化；控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。

第三電介質(zhì)層8為sinx膜層、siox膜層、sinxoy膜層或tiox膜層中的任一層或由前述任意兩種疊設(shè)而成；

第三電介質(zhì)層8位于第二阻擋層7之上，具有保護(hù)整個膜層結(jié)構(gòu)、減少氧化、提高物理和化學(xué)性能；控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。

上述各層按順序結(jié)合，從而保障了低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的整體性能，能夠?qū)崿F(xiàn)膜系顏色低反低透的效果。

優(yōu)選地，第一電介質(zhì)層2的厚度為32.0nm～58.7nm；反射層3的厚度為2.4nm～4.5nm；第二電介質(zhì)層4的厚度為50.3nm～79.7nm；第一阻擋層5的厚度為2.3nm～3.1nm；紅外線反射層6的厚度為5.8nm～9.2nm；第二阻擋層7的厚度為2.4nm～3.2nm；第三電介質(zhì)層7的厚度為22.5nm～39.9nm。

上述各層按上述順序結(jié)合并且在上述所限定范圍內(nèi)，低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的整體性能更加良好。各個膜層厚度的限定是考慮到整體效果的低反低透，在低反低透的基礎(chǔ)上，外觀顏色做到中性灰色或略微偏藍(lán)，如果超出中性或清爽的顏色的范圍，只能實(shí)現(xiàn)低反低透，而不能保持良好的色澤，無法滿足人們對低反低透低輻射鍍膜玻璃的需求。

優(yōu)選地，本發(fā)明實(shí)施例獲得的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃可以經(jīng)過加熱處理(即鋼化處理)。

鋼化處理的具體操作為：將低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃置于鋼化爐內(nèi)，鍍膜表面的加熱溫度為680～690℃，玻璃基板1非鍍膜表面的加熱溫度較鍍膜表面溫度低，為670～680℃，因?yàn)槟邮堑洼椛溴兡?，其性能決定了膜層的吸熱能力不如非鍍膜面強(qiáng)，為了確保鍍膜面和非鍍膜面面吸熱一致，避免鋼化處理時玻璃被燒彎，鍍膜面的溫度需高于非鍍膜面。鋼化處理時間為570～590s，即可獲得低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃。

經(jīng)過鋼化處理，本發(fā)明實(shí)施例獲得的低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃的各膜層有機(jī)的結(jié)合在一起，玻璃的可加工性能得到進(jìn)一步的提高。

相應(yīng)地，在上文所述的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，本發(fā)明實(shí)施例還提供了本發(fā)明實(shí)施例低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的一種制備方法。

作為本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例，該低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：

步驟s01：前處理，清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板1，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10^-6mbar以上；

步驟s02、膜層沉積處理，控制濺射真空度為2×10^-3mbar～5×10^-3mbar，在所述浮法玻璃基板上依次沉積如下厚度的膜層：32.0nm～58.7nm的第一電介質(zhì)層2、2.42nm～4.5nm的反射層3、50.32nm～79.7nm的第二電介質(zhì)層4、2.32nm～3.1nm的第一阻擋層5、5.82nm～9.2nm的紅外線反射層6、2.42nm～3.2nm的第二阻擋層7和22.52nm～39.9nm的第三電介質(zhì)層8。

具體地，上述步驟s01中，采用benteler清洗機(jī)對浮法玻璃進(jìn)行清洗。

具體地，步驟s02在濺射鍍膜過程中，采用德國馮·阿登那公司生產(chǎn)的磁控濺射鍍膜設(shè)備控制濺射的真空度，并應(yīng)當(dāng)注意膜層厚度的調(diào)整，可使用在線光度計測量膜層顏色參數(shù)，并進(jìn)行膜層厚度的調(diào)整，使顏色參數(shù)呈現(xiàn)低反低透的效果。

具體地，上述步驟s02中膜層沉積處理后的玻璃，應(yīng)采用濃度為1mol/l的hcl溶液和濃度為1mol/l的naoh溶液作為浸漬液，按照《gbt18915.2鍍膜玻璃第2部分低輻射鍍膜玻璃鍍膜玻璃》檢測膜層沉積處理后的玻璃的耐酸性能和耐堿性能。與此同時，還采用臺式光度計、研磨機(jī)、u4100紫外可見紅外分光光度計等測試分析儀器測試獲得低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透過光譜。

需要說明的是，在濺射靶材和鍍膜的各層結(jié)構(gòu)確定之后，決定產(chǎn)品性能特點(diǎn)的核心部分就是各層的厚度，即通過調(diào)整鍍膜工藝，控制各層厚度，最終達(dá)到不同的效果。

本申請的一種優(yōu)選方案中，第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7、第三電介質(zhì)層8的厚度分別為32.0nm～58.7nm、2.4nm～4.5nm、50.3nm～79.7nm、2.3nm～3.1nm、5.8nm～9.2nm、2.4nm～3.2nm和22.5nm～39.9nm。

相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例制備的低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃，可應(yīng)用于建筑門窗、建筑幕墻以及建筑物內(nèi)部裝飾等領(lǐng)域中。

為了更好的說明本發(fā)明的技術(shù)方案，以下通過多個實(shí)施例來舉例說明本發(fā)明實(shí)施例低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的原理、作用以及達(dá)到的功效。

下述各具體實(shí)施示范例中涉及的儀器設(shè)備為：vaatgc330h鍍膜設(shè)備、benteler清洗機(jī)、在線檢測光度計、datacolarcheckⅱ(便攜式測色儀)、colori5透射比測試儀、u4100(紫外可見紅外分光光度計)、bta-5000型耐磨試驗(yàn)機(jī)。

實(shí)施例1

一種低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。

其中，低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外，依次沉積疊設(shè)的第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7和第三電介質(zhì)層8。

其中，第一電介質(zhì)層2為58.7nm的氮化硅膜層、反射層3為4.5nm的鎳鉻合金膜層、第二電介質(zhì)層4為63.4nm的氮化硅膜層、第一阻擋層5為2.3nm的鎳鉻合金膜層、紅外線反射層6為9.2nm的銀膜層、第二阻擋層7為2.4nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層8為39.9nm的氮化硅膜層；所述玻璃基板1為6mm的浮法玻璃。

該低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：

1)前處理，采用benteler清洗機(jī)清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板1，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10^-6mbar以上。

2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板1一表面向外依次沉積第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7、第三電介質(zhì)層8。具體如下：

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板1上磁控濺射氮化硅膜層(即第一電介質(zhì)層2)，厚度為58.7nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即反射層3)，厚度為4.5nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第二電介質(zhì)層4)，厚度為63.4nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第一阻擋層5)，厚度為2.3nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面金屬銀靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射銀膜層(即紅外線反射層6)，厚度為9.2nm。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在銀膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第二阻擋層7)，厚度為2.4nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第三電介質(zhì)層8)，厚度為39.9nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、datacolarcheckii測量本實(shí)施例產(chǎn)品的外觀顏色，同時，對本實(shí)施例1采用的玻璃基板進(jìn)行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖2、3、4所示。在實(shí)施例1獲得的低反低透低輻射地面玻璃的基礎(chǔ)上，對其進(jìn)行加熱處理，即鋼化處理，具體為鍍膜表面加熱溫度為680℃，浮法玻璃表面加熱溫度為670℃，加熱時間580s。并采用相同的方法對加熱處理后的玻璃進(jìn)行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面呈低反低透效果。

實(shí)施例2

一種低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。

其中，低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外，依次沉積疊設(shè)的第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7和第三電介質(zhì)層8.

其中，第一電介質(zhì)層2為40.9nm的氮化硅膜層、反射層3為4.6nm的鎳鉻合金膜層、第二電介質(zhì)層4為79.7nm的氮化硅膜層、第一阻擋層5為2.6nm的鎳鉻合金膜層、紅外線反射層6為8.1nm的銀膜層、第二阻擋層7為2.6nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層8為33.1nm的氮化硅膜層；所述玻璃基板1為6mm的浮法玻璃。

該低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：

1)前處理，采用benteler清洗機(jī)清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板1，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10^-6mbar以上。

2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板1上依次沉積第一電介質(zhì)層2，反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7、第三電介質(zhì)層8。具體如下：

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射氮化硅膜層(即第一電介質(zhì)層2)，厚度為40.9nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即反射層3)，厚度為4.6nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第二電介質(zhì)層4)，厚度為79.7nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第一阻擋層5)，厚度為2.6nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面金屬銀靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射銀膜層(即紅外線反射層6)，厚度為8.1nm。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在銀膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第二阻擋層7)，厚度為2.6nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第三電介質(zhì)層8)，厚度為33.1nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、datacolarcheckii測量本實(shí)施例產(chǎn)品的外觀顏色，同時，對本實(shí)施例2采用的玻璃基板進(jìn)行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖5、6、7所示。在實(shí)施例2獲得的低反低透低輻射地面玻璃的基礎(chǔ)上，對其進(jìn)行加熱處理，即鋼化處理，具體為鍍膜表面加熱溫度為680℃，浮法玻璃表面加熱溫度為670℃，加熱時間580s。并采用相同的方法對加熱處理后的玻璃進(jìn)行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面呈低反低透效果。

實(shí)施例3

一種低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。

其中，低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外，依次沉積疊設(shè)的第一電介質(zhì)層2、反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7和第三電介質(zhì)層8.

其中，第一電介質(zhì)層2為32.0nm的氮化硅膜層、反射層3為1.4nm的鎳鉻合金膜層、第二電介質(zhì)層4為50.3nm的氮化硅膜層、第一阻擋層5為3.1nm的鎳鉻合金膜層、紅外線反射層6為5.8nm的銀膜層、第二阻擋層7為2.9nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層8為22.5nm的氮化硅膜層；所述玻璃基板1為6mm的浮法玻璃。

該低反低透可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：

1)前處理，采用benteler清洗機(jī)清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板1，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10^-6mbar以上。

2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板1上依次沉積第一電介質(zhì)層2，反射層3、第二電介質(zhì)層4、第一阻擋層5、紅外線反射層6、第二阻擋層7、第三電介質(zhì)層8。具體如下：

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射氮化硅膜層(即第一電介質(zhì)層2)，厚度為32.0nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即反射層3)，厚度為1.4nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第二電介質(zhì)層4)，厚度為50.3nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氮化硅膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第一阻擋層5)，厚度為3.1nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面金屬銀靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射銀膜層(即紅外線反射層6)，厚度為5.8nm。

采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在銀膜層上磁控濺射鎳鉻合金膜層(即第二阻擋層7)，厚度為2.9nm；鎳鉻合金靶的質(zhì)量比ni：cr＝8：2。

采用氬氣和氮?dú)鉃楣ぷ鳉怏w，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控濺射氮化硅膜層(即第三電介質(zhì)層8)，厚度為22.5nm；硅鋁靶的質(zhì)量比si：al＝92：8，氬氣與氮?dú)獾牧髁勘葹?：1。

上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、datacolarcheckii測量本實(shí)施例產(chǎn)品的外觀顏色，同時，對本實(shí)施例3采用的玻璃基板進(jìn)行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖8、9、10所示

在實(shí)施例3獲得的低反低透低輻射地面玻璃的基礎(chǔ)上，對其進(jìn)行加熱處理，即鋼化處理，具體為鍍膜表面加熱溫度為680℃，浮法玻璃表面加熱溫度為670℃，加熱時間580s。并采用相同的方法對加熱處理后的玻璃進(jìn)行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面呈低反低透效果。

表1實(shí)施例1～3中低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃外觀顏色

其中，上表1中字母的含義如下

g表示鍍膜玻璃的玻璃面，r*g表示鍍膜玻璃玻璃面的反射值；a*g和b*g表示鍍膜玻璃的玻璃面的顏色值，a*g越正表示顏色越紅，a*g越負(fù)表示顏色越綠，b*g越正表示顏色越黃，b*g越負(fù)表示顏色越藍(lán)；l*g表示鍍膜玻璃的玻璃面的亮度。

f表示鍍膜玻璃的鍍膜面；r*f表示鍍膜玻璃膜面的反射值；a*f和b*f表示鍍膜玻璃膜面的顏色值，a*f越正表示顏色越紅，a*f越負(fù)表示顏色越綠；b*f越正表示顏色越黃，b*f越負(fù)表示顏色越藍(lán)；l*f表示鍍膜玻璃膜面的亮度。

t表示鍍膜玻璃的透過；tr表示鍍膜玻璃的透過率；a*t和b*t表示鍍膜玻璃透過的顏色值，a*t越正表示顏色越紅，a*t越負(fù)表示顏色越綠；b*t越正表示顏色越黃，b*t越負(fù)表示顏色越藍(lán)；l*t表示鍍膜玻璃透過的亮度。

表1的結(jié)果顯示，實(shí)施例的低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃的反射值r*g小于基板，透過tr在40左右，因?yàn)闉榱诉_(dá)到低反低透的效果，反射值要盡量小，為了滿足采光的要求，所以需要控制tr。使產(chǎn)品中空后反射值＜10％，透過值＞35％。實(shí)施例1～3低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃的顏色a*g和b*g均在0～-3之間，考慮到鋼化過程的顏色變化，因此需要控制鋼化前顏色。

另外，對實(shí)施例的低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行加熱處理即鋼化，然后對鋼化的低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行顏色檢測，結(jié)果顯示，實(shí)施例的鋼化的低反低透單銀低輻射鍍膜玻璃a*g在-1～0之間，b*g在-2～-4之間。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包括在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。