本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體外延技術(shù)，特別是涉及一種外延反應(yīng)室專(zhuān)用蓋板及外延反應(yīng)室。

背景技術(shù)：

在外延生產(chǎn)過(guò)程中，溫度穩(wěn)定是外延機(jī)臺(tái)穩(wěn)定運(yùn)行的保證，而鐘罩觀(guān)察窗在外延過(guò)程中的潔凈程度直接影響了溫度的穩(wěn)定。現(xiàn)有技術(shù)中的外延反應(yīng)腔組件，譬如，意大利LPE(Liquid Phase Epitaxial，液相外延)公司的PE3061D外延爐的反應(yīng)腔組件，其由鐘罩、熱壁、基座、測(cè)溫裝置、激光探頭等組成。熱壁在激光探頭處留有圓孔，用于基座的定位；鐘罩留有觀(guān)察窗，用于基座溫度的檢測(cè)和控制。現(xiàn)有反應(yīng)腔組件如圖1所示。

外延生長(zhǎng)時(shí)，反應(yīng)氣體易從熱壁圓孔流出，與鐘罩內(nèi)側(cè)接觸。隨著鐘罩維護(hù)清洗次數(shù)的增多，其內(nèi)側(cè)粗糙度逐漸變差。在溫度為1000℃以上，流出的反應(yīng)氣體易在內(nèi)側(cè)淀積，導(dǎo)致鐘罩觀(guān)察窗處模糊，直接影響了溫度的控制，進(jìn)而導(dǎo)致外延產(chǎn)品參數(shù)超標(biāo)，甚至報(bào)廢。

鐘罩觀(guān)察窗模糊，測(cè)溫裝置檢測(cè)到的溫度低，為達(dá)到設(shè)定溫度，功率將不斷升高，反應(yīng)腔內(nèi)實(shí)際溫度隨之升高，反應(yīng)氣體在鐘罩觀(guān)察窗處淀積加劇，進(jìn)而導(dǎo)致機(jī)臺(tái)溫度報(bào)警。

鐘罩觀(guān)察窗模糊，激光探頭探測(cè)路線(xiàn)受到干擾，影響了基座的“找零點(diǎn)”定位，導(dǎo)致機(jī)臺(tái)報(bào)警，增加了維護(hù)成本。

因此，亟待解決上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

實(shí)用新型目的：本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠防止反應(yīng)氣體從熱壁圓孔流出的外延反應(yīng)室專(zhuān)用蓋板及外延反應(yīng)室。

技術(shù)方案：本實(shí)用新型所述的外延反應(yīng)室專(zhuān)用蓋板，包括蓋板本體，蓋板本體上設(shè)有定位機(jī)構(gòu)，定位機(jī)構(gòu)用于將蓋板本體固定在外延反應(yīng)室的熱壁上。

進(jìn)一步，所述定位機(jī)構(gòu)與蓋板本體相垂直。

進(jìn)一步，所述定位機(jī)構(gòu)為三個(gè)定位腳。

進(jìn)一步，所述定位腳與蓋板本體的總厚度為2.5mm～5mm。

進(jìn)一步，所述蓋板本體厚度不超過(guò)2mm。

本實(shí)用新型所述的外延反應(yīng)室，采用所述的蓋板，蓋板蓋設(shè)在外延反應(yīng)室的熱壁圓孔處，定位機(jī)構(gòu)與熱壁之間固定連接。

進(jìn)一步，所述定位機(jī)構(gòu)設(shè)于蓋板本體上遠(yuǎn)離激光探頭的一端。這樣蓋板正對(duì)激光探頭的區(qū)域就只有蓋板本體，比較薄，能夠有效減小激光折射的角度，不影響激光對(duì)基座的定位。

進(jìn)一步，所述定位機(jī)構(gòu)為三個(gè)定位腳，熱壁上設(shè)有與三個(gè)定位腳相適配的三個(gè)孔，三個(gè)定位腳插入三個(gè)孔中。

有益效果：本實(shí)用新型的蓋板能夠蓋住外延反應(yīng)室的熱壁圓孔，能夠極大減少反應(yīng)氣體在鐘罩觀(guān)察窗上的接觸與淀積，從而穩(wěn)定了機(jī)臺(tái)溫度功率的控制，杜絕了外延片電阻率異常的產(chǎn)生，減少了機(jī)臺(tái)溫度報(bào)警。通過(guò)定位機(jī)構(gòu)能夠防止蓋板在熱壁上滑動(dòng)。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的外延反應(yīng)室的剖視圖；

圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式的蓋板的俯視圖；

圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式的蓋板的側(cè)視圖；

圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式的外延反應(yīng)室的剖視圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的介紹。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的外延反應(yīng)室的剖視圖，包括外延反應(yīng)腔，基座7安裝于外延反應(yīng)腔內(nèi)，外延反應(yīng)腔的熱壁8上設(shè)有熱壁圓孔81，外延反應(yīng)室上還設(shè)有鐘罩觀(guān)察窗9，鐘罩觀(guān)察窗9上方設(shè)有激光探頭10和測(cè)溫探頭13。

本具體實(shí)施方式公開(kāi)了一種外延反應(yīng)室專(zhuān)用蓋板，如圖2和圖3所示，包括蓋板本體11和三個(gè)定位腳12，定位腳12設(shè)于蓋板本體11一端，并垂直于蓋板本體11。蓋板本體11采用石英制成，厚度為1.5mm。蓋板本體11加上定位腳12的總厚度為5mm。

本具體實(shí)施方式還公開(kāi)了一種外延反應(yīng)室，如圖4所示，包括外延反應(yīng)腔，基座3安裝于外延反應(yīng)腔內(nèi)，外延反應(yīng)腔的熱壁2上設(shè)有熱壁圓孔21，外延反應(yīng)室上還設(shè)有鐘罩觀(guān)察窗4，鐘罩觀(guān)察窗4的上方設(shè)有激光探頭5和測(cè)溫探頭6。熱壁圓孔21處設(shè)有蓋板1，蓋板1的三個(gè)定位腳12位于蓋板1遠(yuǎn)離激光探頭5的一端，這樣定位腳12就不會(huì)影響激光定位。熱壁2上設(shè)有三個(gè)孔，三個(gè)定位腳12插入三個(gè)孔中，這樣蓋板1就與熱壁2之間固定了，蓋板1就不會(huì)在熱壁2上滑動(dòng)。

雖然本發(fā)明通過(guò)實(shí)施例進(jìn)行了描述，但實(shí)施例并非用來(lái)限定本發(fā)明。本領(lǐng)域技術(shù)人員可在本發(fā)明精神的范圍內(nèi)，做出各種變形和改進(jìn)，所附的權(quán)利要求應(yīng)包括這些變形和改進(jìn)。本發(fā)明針對(duì)平板外延爐反應(yīng)腔用蓋板裝置進(jìn)行了描述，但不局限于平板外延爐用，也可用于外延等相關(guān)領(lǐng)域。