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氣相沉積制備單晶Ag摻雜氧化鋅六方微米管的裝置的制作方法

文檔序號(hào):12498375閱讀:214來(lái)源:國(guó)知局



背景技術(shù):
:半導(dǎo)體納米材料由于其獨(dú)特的物理特性,在各種光電器件上有很廣泛的應(yīng)用前景。直接帶隙半導(dǎo)體ZnO,帶隙能為3.37 eV,大的結(jié)合能為60 meV,具有重要的應(yīng)用前景,是構(gòu)造異質(zhì)結(jié)或超晶格的物質(zhì),可以獲得高性能的激光二極管和光發(fā)射二極管裝置,因而引起了廣泛的關(guān)注。各種形貌的ZnO已經(jīng)被成功的制備出,如:納米線(xiàn),納米帶,納米管,納米環(huán)等等。由于納米材料具有微小的尺度,不易操作等特點(diǎn),造成納米器件的組裝成本非常的高。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
:本實(shí)用新型的目的是提供成本較低、可控性好的氣相沉積制備單晶Ag摻雜氧化鋅六方微米管的裝置,本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,它是由管式電阻爐、陶瓷舟、硅片和石英管組成,在管式電阻爐的中間有石英管,石英管的高溫區(qū)放置有陶瓷舟,石英管較低的溫區(qū)放有硅片。

所述的陶瓷舟,其內(nèi)有反應(yīng)前驅(qū)體。

本實(shí)用新型的意義是:本裝置工藝簡(jiǎn)單,對(duì)設(shè)備要求低,可控程度高,是單晶摻雜氧化鋅六方微米管制備好裝置。

附圖說(shuō)明:圖1為氣相沉積制備單晶Ag摻雜氧化鋅六方微米管的裝置示意圖,圖中1、管式電阻爐 2、陶瓷舟 3、 硅片 4、石英管 5、反應(yīng)前驅(qū)體。

具體實(shí)施方式:

實(shí)施例1、本實(shí)用新型是由管式電阻爐1、陶瓷舟2、硅片3和石英管4組成,在管式電阻爐1的中間有石英管4,石英管4的高溫區(qū)放置有陶瓷舟2,石英管4較低的溫區(qū)放置有硅片3。

實(shí)施例2、所述的陶瓷舟2,其內(nèi)有反應(yīng)前驅(qū)體5。

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