氧化鋅除雜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及陶瓷領(lǐng)域，尤其涉及一種氧化鋅除雜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]衛(wèi)浴是供居住者便溺、洗浴、盥洗等日常公共衛(wèi)生活動的空間。陶瓷因其光澤度好，便于清潔的特點，被大量運用于衛(wèi)浴產(chǎn)品。陶瓷產(chǎn)品生產(chǎn)工藝包括淘泥、摞泥、拉坯、印模、修坯、捺水、畫坯、上釉、燒窯、成瓷和修補等步驟。上釉是通過專用工具噴槍噴涂在待上釉的產(chǎn)品上。釉原料中含有釉漿成分，釉漿的細膩度直接影響到制成陶瓷的關(guān)澤度和光滑度，因此不能直接使用，在向產(chǎn)品上噴涂釉漿之前需要對其進行物理除雜。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型意在提供一種氧化鋅除雜裝置，以對釉漿進行物理除雜。
[0004]本方案中的氧化鋅除雜裝置，包括料斗、除雜機構(gòu)和接料池，所述除雜機構(gòu)包括若干斜槽和篩槽，該斜槽傾斜設(shè)置，所有斜槽上下依次排列，相鄰兩個斜槽的傾斜方向相反，各斜槽的底部分別與設(shè)有若干篩孔的篩槽連接，所有篩槽的下方是斜槽的上端部，最底的篩槽下方設(shè)置接料池，最頂?shù)男辈凵隙瞬康纳戏皆O(shè)置料斗。
[0005]本實用新型的技術(shù)原理如下:需要對釉漿除雜的時候，將釉漿倒入料斗內(nèi)，釉漿從料斗的出料口排到最上方的斜槽上端部，然后釉漿沿斜槽的傾斜面下面流動至篩槽，雜質(zhì)在篩孔處被過濾，其余的釉漿通過篩孔流向下面斜槽的上端，通過多級斜槽的過濾，可實現(xiàn)除雜，雜質(zhì)經(jīng)最下方的篩槽后流進接料池。
[0006]本實用新型的技術(shù)效果如下:除雜機構(gòu)上下依次排列設(shè)置，可實現(xiàn)在對釉漿多級充分除雜、除雜徹底的同時，能夠最大可能的節(jié)約空間，整體方案結(jié)構(gòu)簡單，方便加工、節(jié)余成本，正果除雜過程可實現(xiàn)連續(xù)無間斷的進行，保證工作的連續(xù)性，生產(chǎn)效率高。
[0007]進一步，下方篩槽篩孔孔徑小于上方篩槽篩孔孔徑，上面的大孔對大雜質(zhì)進行篩選后，下方的小孔繼續(xù)對小雜質(zhì)進行除雜，一次對釉漿進行多級除雜，除雜效果更加好。
[0008]進一步，在篩槽與斜槽連接的相對端還有雜質(zhì)筒，當雜質(zhì)被篩孔過濾在篩槽的上方后，雜質(zhì)可被沖進雜質(zhì)筒，可防止過多的雜質(zhì)在篩孔處，堵塞篩孔。
[0009]進一步，斜槽下端部與篩槽連接處設(shè)有上端有鋸齒的擋板，當雜質(zhì)流到擋板處純凈的釉漿通過鋸齒建的縫隙流過，雜質(zhì)可被擋在擋板后面，以此，對氧化性進行初步過濾，提高整體的凈化率。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型實施例氧化鋅除雜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2為斜槽和篩槽的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面通過【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細的說明:
[0013]說明書附圖中的附圖標記包括:儲料罐1、料斗2、斜槽3、接料池4、雜質(zhì)筒301、篩槽302、擋板303、斜槽304。
[0014]如附圖1所示:
[0015]實施例氧化鋅除雜裝置包括料斗2、除雜機構(gòu)和接料池4。該料斗2與儲料罐I連通。
[0016]料斗2下方設(shè)有兩個除雜機構(gòu)，除雜機構(gòu)包括斜槽3043和連接斜槽3043下端的篩槽302，結(jié)合圖2所示，斜槽3043和篩槽302結(jié)合處設(shè)有擋板303，該擋板303的上端設(shè)有鋸齒，在篩槽302與斜槽3043連接的相對端設(shè)有雜質(zhì)筒301，該雜質(zhì)筒301的上端口與篩筒底板齊平。
[0017]兩個除雜機構(gòu)的上下設(shè)置，上面的除雜機構(gòu)的斜槽3043上端部在左上方，下端部在右下方與篩槽302連接，下面的除雜機構(gòu)和上面的設(shè)置方向剛好相反，即斜槽3043的上端部在右上方，下端部在左下方與篩槽302連接，上面除雜機構(gòu)的篩槽302的下方剛好是下面的除雜機構(gòu)的上端部，上面的除雜機構(gòu)的上端部剛好位于料斗2下方，接料池4設(shè)置在下面的除雜機構(gòu)的篩槽302的下方。
[0018]以上所述的僅是本實用新型的實施例，方案中公知的具體結(jié)構(gòu)及特性等常識在此未作過多描述。應(yīng)當指出，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型結(jié)構(gòu)的前提下，還可以作出若干變形和改進，這些也應(yīng)該視為本實用新型的保護范圍，這些都不會影響本實用新型實施的效果和專利的實用性。本申請要求的保護范圍應(yīng)當以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準，說明書中的【具體實施方式】等記載可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。
【主權(quán)項】
1.氧化鋅除雜裝置，其特征在于:包括料斗、除雜機構(gòu)和接料池，所述除雜機構(gòu)包括若干斜槽和篩槽，該斜槽傾斜設(shè)置，所有斜槽上下依次排列，相鄰兩個斜槽的傾斜方向相反，各斜槽的底部分別與設(shè)有若干篩孔的篩槽連接，所有篩槽的下方是斜槽的上端部，最底的篩槽下方設(shè)置接料池，最頂?shù)男辈凵隙瞬康纳戏皆O(shè)置料斗。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋅除雜裝置，其特征在于:下方篩槽篩孔孔徑小于上方篩槽篩孔孔徑。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氧化鋅除雜裝置，其特征在于:在篩槽與斜槽連接的相對端還有雜質(zhì)筒。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氧化鋅除雜裝置，其特征在于:斜槽下端部與篩槽連接處設(shè)有上端有鋸齒的擋板。
【專利摘要】本實用新型公開了一種氧化鋅除雜裝置，涉及陶瓷領(lǐng)域，針對釉漿中含有大量大顆粒雜質(zhì)的技術(shù)問題，提出本方案，包括料斗、除雜機構(gòu)和接料池，所述除雜機構(gòu)包括若干斜槽和篩槽，該斜槽傾斜設(shè)置，所有斜槽上下依次排列，相鄰兩個斜槽的傾斜方向相反，各斜槽的底部分別與設(shè)有若干篩孔的篩槽連接，所有篩槽的下方是斜槽的上端部，最底的篩槽下方設(shè)置接料池，最頂?shù)男辈凵隙瞬康纳戏皆O(shè)置料斗，以對釉漿進行物理除雜技術(shù)效果。
【IPC分類】C01G9/02
【公開號】CN204938994
【申請?zhí)枴緾N201520615854
【發(fā)明人】曹華林
【申請人】重慶市鑫圣陶瓷有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年8月17日