本實(shí)用新型涉及手機(jī)玻璃生產(chǎn)加工領(lǐng)域，具體地，涉及一種可改善四邊熱彎產(chǎn)品質(zhì)量的兩板模具。

背景技術(shù)：

現(xiàn)如今，手機(jī)玻璃屏已經(jīng)由單一的平板玻璃向多類型的曲面玻璃發(fā)展，如2.5D玻璃、3D玻璃等，這些玻璃均是通過(guò)高溫加熱普通玻璃并施力使其四邊彎曲成型。常用熱彎模具的外表面大多為平滑的平面結(jié)構(gòu)，在熱彎過(guò)程中受力情況簡(jiǎn)單、散熱效果差，還存在如模具印、凹點(diǎn)、麻點(diǎn)、面壓印、倒三角等質(zhì)量缺陷，這些質(zhì)量缺陷是相互關(guān)聯(lián)的，而就業(yè)內(nèi)目前的技術(shù)水平很難做到多種缺陷兼顧處理，例如解決了倒三角和面壓印問(wèn)題，就會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品的模具印加重。

在上述問(wèn)題中，最難解決同時(shí)也是導(dǎo)致產(chǎn)品良率低下的主要原因就是產(chǎn)品弧邊殘留的模具印，雖然可以通過(guò)不斷拋光石墨模具的內(nèi)壁達(dá)到減輕印痕的效果，但是由于在拋光過(guò)程中很容易出現(xiàn)模具弧邊塌裂，從而導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)輪廓度問(wèn)題，而且由于模具拋光導(dǎo)致模具壽命縮短，不利于廠家控制生產(chǎn)成本。雖然可以用其它材料如陶瓷等來(lái)制作模具，以改善產(chǎn)品弧邊的模具印缺陷問(wèn)題，但此類模具又受限于材料性能，生產(chǎn)出來(lái)的產(chǎn)品不可避免的存在面壓印、倒三角等質(zhì)量缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可有效減輕產(chǎn)品弧邊模具印、且避免產(chǎn)生其他質(zhì)量缺陷問(wèn)題的兩板模具，以解決背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種可改善四邊熱彎產(chǎn)品質(zhì)量的兩板模具，所述四邊熱彎產(chǎn)品包括中心的平面部分和四周的四條弧邊，所述兩板模具包括卡合連接的上模和下模，且所述上模和下模間相對(duì)設(shè)置的兩側(cè)面為產(chǎn)品成型面、相背設(shè)置的兩側(cè)面為非產(chǎn)品成型面，在所述下模的產(chǎn)品成型面上設(shè)置有用于容置熱彎產(chǎn)品的型腔；在所述上模的非產(chǎn)品成型面上，沿?zé)釓澁a(chǎn)品平面部分的邊沿設(shè)置有一個(gè)凸環(huán)，且在該非產(chǎn)品成型面上沿上模長(zhǎng)度方向的兩側(cè)各設(shè)置有一個(gè)長(zhǎng)條形的上凸臺(tái)，在所述下模的非產(chǎn)品成型面上，在其中心位置設(shè)置有方形的下凸塊，且在該非產(chǎn)品成型面上沿下模長(zhǎng)度方向的兩側(cè)各設(shè)置有一個(gè)長(zhǎng)條形的下凸臺(tái)。

優(yōu)選地，所述上凸臺(tái)和下凸臺(tái)的寬度相同且二者間的位置上下對(duì)應(yīng)，所述上凸臺(tái)和下凸臺(tái)均與熱彎產(chǎn)品長(zhǎng)弧邊的水平距離為5～10mm。

優(yōu)選地，在所述上模的非產(chǎn)品成型面上，在與熱彎產(chǎn)品平面部分的中心位置對(duì)應(yīng)處還設(shè)置有方形的上凸塊。

優(yōu)選地，所述凸環(huán)、上凸塊和上凸臺(tái)的高度相同且均為0.2～0.5mm，且所述凸環(huán)的寬度為3～5mm。

優(yōu)選地，所述下凸塊和下凸臺(tái)的高度相同且均為3～5mm。

優(yōu)選地，所述下凸塊的形狀大小與熱彎產(chǎn)品的平面部分一致。

優(yōu)選地，所述上模和下模的材料為石墨。

本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案具有如下有益效果：所述兩板模具通過(guò)改善模具結(jié)構(gòu)來(lái)改變產(chǎn)品的受力方式，有效的保證了產(chǎn)品在不出現(xiàn)其他質(zhì)量缺陷的同時(shí)又減輕了產(chǎn)品的弧邊模具印，提高了產(chǎn)品的加工質(zhì)量；同時(shí)增加了散熱效果，減少了產(chǎn)品的成型和冷卻時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率；而且還省略了對(duì)模具的拋光步驟，增加了模具的使用壽命，降低了生產(chǎn)成本。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：

圖1是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例卡合連接時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1所示實(shí)施例拆分時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖(俯視視角)；

圖3是圖1所示實(shí)施例拆分時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖(仰視視角)；

圖中：1上模，2下模，3型腔，4凸環(huán)，5上凸塊，6上凸臺(tái)，7下凸塊，8下凸臺(tái)。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

參見(jiàn)圖1～圖3，一種可改善四邊熱彎產(chǎn)品質(zhì)量的兩板模具，所述四邊熱彎產(chǎn)品包括中心的平面部分和四周的四條弧邊，所述兩板模具包括卡合連接的上模1和下模2，且所述上模1和下模2間相對(duì)設(shè)置的兩側(cè)面為產(chǎn)品成型面、相背設(shè)置的兩側(cè)面為非產(chǎn)品成型面，在所述下模2的產(chǎn)品成型面上設(shè)置有用于容置熱彎產(chǎn)品的型腔3。

在所述上模1的非產(chǎn)品成型面上，沿?zé)釓澁a(chǎn)品平面部分的邊沿設(shè)置有一個(gè)凸環(huán)4，且在與熱彎產(chǎn)品平面部分的中心位置對(duì)應(yīng)處還設(shè)置有方形的上凸塊5，可通過(guò)增加產(chǎn)品平面邊部的受力來(lái)減少倒三角等質(zhì)量缺陷的出現(xiàn)；同時(shí)，在該非產(chǎn)品成型面上沿上模1長(zhǎng)度方向的兩側(cè)各設(shè)置有一個(gè)長(zhǎng)條形的上凸臺(tái)6，可以減輕產(chǎn)品弧邊所受到的壓力，同時(shí)由于模具的凸起位置與發(fā)熱板或壓力接觸點(diǎn)間直接接觸，可以到增加模具傳熱的效果。

在所述下模2的非產(chǎn)品成型面上，在其中心位置設(shè)置有方形的下凸塊7，以解決產(chǎn)品平面部分出現(xiàn)面壓印等質(zhì)量缺陷；同時(shí)，在該非產(chǎn)品成型面上沿下模2長(zhǎng)度方向的兩側(cè)各設(shè)置有一個(gè)長(zhǎng)條形的下凸臺(tái)8，可以減輕產(chǎn)品弧邊所受到的壓力，并增加模具傳熱的效果。

在本實(shí)施例中，所述上凸臺(tái)6和下凸臺(tái)8的寬度相同且二者間的位置上下對(duì)應(yīng)，所述上凸臺(tái)6和下凸臺(tái)8均與熱彎產(chǎn)品長(zhǎng)弧邊的水平距離為5～10mm。

在本實(shí)施例中，所述凸環(huán)4、上凸塊5和上凸臺(tái)6的高度相同且均為0.2～0.5mm，且所述凸環(huán)4的寬度為3～5mm；所述下凸塊7和下凸臺(tái)8的高度相同且均為3～5mm。

在本實(shí)施例中，所述下凸塊7的形狀大小與熱彎產(chǎn)品的平面部分一致。

在本實(shí)施例中，所述上模1和下模2的材料為石墨。

將本實(shí)施例中提供的模具與傳統(tǒng)模進(jìn)行對(duì)比試驗(yàn)，所得數(shù)據(jù)見(jiàn)表1：

表1

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的任何改進(jìn)或等同替換，直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。