本發(fā)明涉及一種陶瓷釉料，尤其涉及到一種新型超細自潔釉料及其制備工藝，屬于陶瓷材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
“釉”是指覆蓋在陶瓷坯體表面上的一層薄薄的玻璃態(tài)物質(zhì)，其厚度通常為0.2～0.8mm。釉層可改善陶瓷坯體的表面性能，如降低表面氣孔率，使表面變得光滑并增大制品的機械強度和提高表面的抗化學(xué)腐蝕能力，同時美化了產(chǎn)品的外觀。通常要求釉能適應(yīng)不同類型的坯體，并且能在不同溫度下成熟，且能展示出各種不同的特殊性能。
傳統(tǒng)陶瓷釉面在放大鏡下是凹凸不平的，使得污垢易于積淀，細菌易于繁殖。有些廠家在傳統(tǒng)陶瓷燒制成品后，后期在表面施以高分子涂膜，由于沒有經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)，涂膜穩(wěn)定性差，易剝落，最終失去了防污與抗菌效果。
中國專利號CN200910040630.0公開了一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法與陶瓷產(chǎn)品，自潔抗菌陶瓷釉關(guān)鍵于含有Ti元素和Ag元素，其特征是陶瓷本體表面有一層自潔抗菌陶瓷釉，適合于采用一次施釉工藝，陶瓷釉釉面平整度高，晶質(zhì)細致精密、光潔度好、無針孔、玻璃感極柔極佳，觸摸感覺非常平滑，并且達到超平滑釉面的自潔抗菌的永久效果。
另外，納米自潔潔具是納米科學(xué)引入到陶瓷行業(yè)后的新型衛(wèi)生潔具，有抗菌、易清潔等特點，可以解決普通衛(wèi)生潔具易沾附污垢問題，對改善居室衛(wèi)生環(huán)境起到積極的推動作用。這種易潔產(chǎn)品主要分為三類：一是引入納米涂料直接涂于陶瓷表面，有效防止污染物的粘附；二是在產(chǎn)品表面施一層納米液體聚合硅，在經(jīng)低溫二次燒烤粘附于產(chǎn)品表面，從而使產(chǎn)品易清潔。三是在產(chǎn)品底釉上再施一層納米釉料，經(jīng)高溫一次燒烤，獲得高平滑釉面使產(chǎn)品變得易清洗。由于現(xiàn)有易潔潔具表面硬度低，其制品在檢驗、包裝、運輸和使用過程中很容易因摩擦而產(chǎn)生劃痕，嚴重影響產(chǎn)品的使用效果和外表美觀度。因此提高易潔潔具釉面硬度對于改善易潔陶瓷產(chǎn)品的使用質(zhì)量和外觀是至關(guān)重要的。
中國專利號CN201010230337.3公開了一種一種高硬度自潔釉及制備方法，用于解決提高自潔潔具釉面硬度問題。引入適量耐高溫熔塊及超細硅酸鋯，調(diào)整釉面化學(xué)成分，來調(diào)整釉中石英、硅酸鋯、玻璃相等礦物組成。使(-Si-O-)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)更加致密，達到提高釉面硬度的目的。此外，通過改變顆粒級配，將釉漿粒度(≤10um)控制在70％～80％，使自潔釉更加趨于光滑平整。但是通過降低釉料粒徑的準納米釉料存在釉面易開裂、成品率低的缺點。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
為克服現(xiàn)有自潔釉料存在的釉料存在釉面易開裂、成品率低的缺點，本發(fā)明的目的旨在提供一種新型超細自潔釉料及其制備工藝。
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其特征在于，在不改變傳統(tǒng)有料配方的情況下，通過增加研磨時間獲得粒徑較小的超細釉料漿液，其中位粒徑D50≦1μm；通過傳統(tǒng)釉漿與本發(fā)明的超細釉料漿液復(fù)配，復(fù)配釉漿干燥焙燒后在坯體表面無縫堆積，釉面光滑細膩，污漬不易粘附，細菌也不易生長繁殖。同時，抗收縮劑聚合氯化鋁在失水后未燒結(jié)的釉料表面形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)使得釉面不易開裂，燒結(jié)后的釉面硬度高；另外，載銀抗菌劑在焙燒后納米氧化銀可均勻分布于釉面中，使得釉面永久抗菌。
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其組成為：傳統(tǒng)陶瓷釉漿80～120份，納米陶瓷釉漿80～120份，抗收縮劑0.3～1.5份，載銀抗菌劑2～8份。
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其制備工藝如下：
a)研磨傳統(tǒng)陶瓷釉料至超細級：將傳統(tǒng)陶瓷釉漿經(jīng)傳統(tǒng)球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復(fù)配超細釉漿：取傳統(tǒng)陶瓷釉漿80～120份、超細釉漿80～120份、抗收縮劑0.3～1.5份、載銀抗菌劑2～8份，攪拌至混合完全均勻，即為新型超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1100～1300℃溫度下對該釉料層焙燒7～9h后出窯。
所述的傳統(tǒng)陶瓷釉漿為傳統(tǒng)陶瓷釉料的水溶液，固含為64％～70％、中位粒徑D50為14～17μm；所述的傳統(tǒng)陶瓷釉料組成為：SiO2 55～65％、Al2O3 8～15％、CaO 5～10％、K2O 1～8％、Na2O 1～2％、ZnO 1～2％、Li2O 1～2％、MgO 0.1～5％、B2O31～5、V2O5 1～3％、其它金屬氧化物0～8％。
所述的抗收縮劑為聚合氯化鋁、丙烯酸改性天然化合物類吸水型樹脂、羧甲基殼聚糖中的一種或兩種以上；進一步地，優(yōu)選為聚合氯化鋁。
所述的載銀抗菌劑為絡(luò)合型載銀抗菌劑、載銀沸石抗菌劑、可溶性玻璃載銀抗菌劑、磷酸鋯載銀抗菌劑、納米二氧化鈦載銀抗菌劑中的一種或兩種以上；進一步地，優(yōu)選為磷酸鋯載銀抗菌劑。
具體實施方式
下面結(jié)合實施例對本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料做進一步的描述?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋相關(guān)發(fā)明，而非對該發(fā)明的限定。
實施例1
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其制備應(yīng)用工藝如下：
a)研磨傳統(tǒng)納米釉料至超細級：將傳統(tǒng)陶瓷釉漿經(jīng)傳統(tǒng)球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復(fù)配超細釉漿：取傳統(tǒng)陶瓷釉漿90份、超細釉漿50份、聚合氧化鋁0.6份、載銀抗菌劑4份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1250℃溫度下對該釉料層焙燒8h后出窯。
實施例2
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其制備應(yīng)用工藝如下：
a)研磨傳統(tǒng)納米釉料至超細級：將傳統(tǒng)陶瓷釉漿經(jīng)傳統(tǒng)球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復(fù)配超細釉漿：取傳統(tǒng)陶瓷釉漿120份、超細釉漿80份、丙烯酸改性天然化合物類吸水型樹脂1.5份、磷酸鋯載銀抗菌劑4份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1300℃溫度下對該釉料層焙燒9h后出窯。
實施例3
本發(fā)明的一種新型超細自潔釉料，其制備應(yīng)用工藝如下：
a)研磨傳統(tǒng)納米釉料至超細級：將傳統(tǒng)陶瓷釉漿經(jīng)傳統(tǒng)球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復(fù)配超細釉漿：取傳統(tǒng)陶瓷釉漿40份、超細釉漿60份、聚合氯化鋁0.3份、可溶性玻璃載銀抗菌劑8份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1300℃溫度下對該釉料層焙燒7h后出窯。
在實施例1、2、3中，所述的傳統(tǒng)陶瓷釉漿為傳統(tǒng)陶瓷釉料的水溶液，固含為67.5％、中位粒徑D50為14～15μm；所述的傳統(tǒng)陶瓷釉料組成為：SiO2 60％、Al2O3 10％、CaO 8％、K2O 8％、Na2O 1％、ZnO 1％、Li2O 1％、MgO 1％、B2O3 3％、V2O5 2％、ZrO2 5％。
在相同條件下，用實施例中所得的超細釉料與傳統(tǒng)釉料在衛(wèi)生潔具上施釉，使用60天后，觀察潔具釉面污漬程度和清洗的容易程度，實施例中潔具表面幾乎無污漬，而傳統(tǒng)釉料的潔具表面有嚴重污漬，用洗潔精難以去除。
抗菌性試驗：按照相關(guān)標準對實施例中的釉面與傳統(tǒng)的釉面進行對比，其抗菌性能測試結(jié)果如表1所示：
表1實施例中釉面與傳統(tǒng)釉面的抗菌性能試驗結(jié)果
以上描述僅為本申請的較佳實施例以及對所運用技術(shù)原理的說明。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當理解，本申請中所涉及的發(fā)明范圍，并不限于上述技術(shù)特征的特定組合而成的技術(shù)方案，同時也應(yīng)涵蓋在不脫離所述發(fā)明構(gòu)思的情況下，由上述技術(shù)特征或其等同特征進行任意組合而形成的其它技術(shù)方案。例如上述特征與本申請中公開的(但不限于)具有類似功能的技術(shù)特征進行互相替換而形成的技術(shù)方案。