一種防滑瓷磚的制造方法,屬于建筑陶瓷技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
建筑裝飾用的地磚和墻磚早已被廣泛應(yīng)用,相比于其它地面裝飾材料,瓷磚在裝飾效果、衛(wèi)生等方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)。瓷磚生產(chǎn)廣泛應(yīng)用了噴墨打印技術(shù)之后,瓷磚的裝飾圖案、紋理和花色更加逼真、生動(dòng),極大的滿足了消費(fèi)者對(duì)裝飾效果的追求。在有老人、小孩活動(dòng)的場(chǎng)所,還需要瓷磚具有良好的防滑性能。
現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)的防滑磚,對(duì)于防滑耐磨功能,通常使用干粒材料,通過(guò)干粒機(jī)布料,在磚面形成均勻的小顆粒表面,該表面有防滑耐磨功能。或者使用特殊印油制成淋釉釉料,通過(guò)淋釉工藝在磚面形成均勻的小顆粒的仿石磚面,具有防滑耐磨功能。但是干粒機(jī)布料需要增加干粒機(jī),和與生產(chǎn)溫度、防滑耐磨性合適的干粒材料。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種防滑等級(jí)高、工藝簡(jiǎn)單的的防滑瓷磚的制造方法。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:該防滑瓷磚的制造方法,其特征在于:包括制底坯、淋底釉、淋面釉、噴墨印花、印防滑釉和燒制步驟;其中所述印防滑釉步驟中所用的防滑釉的原料重量份組成為:?jiǎn)」馔该魅蹓K70~80份,輥筒印油90~105份,懸浮劑1.5~2.5份,干粉27~33份;
所述的啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英8~12份、方解石35~42份、氧化鋅4.6~6.3份、硼酸2~3.5份、硅酸鋯 2~3份、生滑石1.8~2.2份和碳酸鈣2.7~3.2份;
所述的燒制步驟中先將窯溫升至835℃~840℃,保溫1.5h~2.5h,然后升溫至1200℃~1210℃,保溫3h~4h,再冷卻降溫。
本發(fā)明提供了一種防滑等級(jí)高、易擦拭、制備工藝簡(jiǎn)單的防滑瓷磚的制造方法,首先本發(fā)明的防滑釉采用特定成分的啞光透明熔塊,保證釉料耐磨擦性能的同時(shí),粉碎后通過(guò)輥筒印油調(diào)制成釉漿后,還能控制釉料的流動(dòng)性,使得添加的懸浮劑和干粉能夠均勻的分散在釉漿內(nèi)。本發(fā)明在釉料中添加懸浮劑,使得添加的干粉能夠均勻的懸浮在釉漿內(nèi),不會(huì)產(chǎn)生集聚和沉淀,同時(shí)干粉又不會(huì)漂浮在釉漿的表面。這使得在燒制后,釉料內(nèi)的干粉外都包裹著釉層,瓷磚的表面在干粉的作用會(huì)出現(xiàn)一層細(xì)小凸起和凹坑,又由于表面的釉料包裹而不會(huì)在觸碰時(shí)有明顯的顆粒感,防滑的同時(shí)保證能夠舒適度和美觀。本發(fā)明的燒制過(guò)程中先在835℃~840℃的較低溫度下激活碳酸鈣組份,使其分解,適量氣泡在外溢的過(guò)程將干粉鼓到表層,增加防滑性能;而氣泡形成的氣路在升溫后的保溫過(guò)程會(huì)逐漸閉合,不會(huì)保留氣孔,保證防滑釉層的密封性,防止灰塵的沾固。
優(yōu)選的,所述的印防滑釉步驟中形成的防滑釉層的厚度為0.5 mm ~1.2mm。本發(fā)明的防滑釉的釉層內(nèi)包裹有干粉,能夠較舒適的起到防滑效果,不會(huì)在釉層厚度較大時(shí)出現(xiàn)因顆粒的沉淀造成防滑材料的浪費(fèi),所以釉層的厚度的可行范圍較寬,可大可小。
優(yōu)選的,所述的啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英9~10份、方解石38~39份、氧化鋅5.0~5.3份、硼酸2.7~3.1份、硅酸鋯 2.5~2.8份、生滑石1.9~2.0份和碳酸鈣2.9~3.0份。該優(yōu)選條件下自身所具有的流動(dòng)性能更充分均勻的包覆在干粉表面。
優(yōu)選的,所述的懸浮劑是丙烯酸酯共聚物乳液。懸浮劑選用丙烯酸酯共聚物乳液,與干粉的適應(yīng)性更好,與干粉有一定的結(jié)合性,能攜帶干粉更均勻的分散在釉漿內(nèi)。
優(yōu)選的,所述的印防滑釉步驟中所述防滑釉的制備方法為:先將啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入輥筒印油、懸浮劑和干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上。啞光透明熔塊破碎在上述大小的顆粒時(shí),能夠在懸浮劑的作用下和干粉一起保持均勻的懸浮狀態(tài),從而在施釉、燒結(jié)后形成細(xì)小凸起和凹坑更均勻。
優(yōu)選的,所述的燒制步驟中先將窯溫升值835℃~838℃,保溫2.2 h ~2.5h,然后升溫至1200℃~1205℃,保溫3.5h~4h,再冷卻降溫。優(yōu)選的燒制工藝條件,能夠保證形成的細(xì)小凸起和凹坑更均勻,完全避免大的凸起或凹坑的產(chǎn)生。
優(yōu)選的,所述的碳酸鈣為粒徑為0.02μm~0.06μm的超細(xì)碳酸鈣。超細(xì)碳酸鈣在本保護(hù)釉釉料中會(huì)表現(xiàn)出超強(qiáng)的自動(dòng)均勻分散能力,不會(huì)產(chǎn)生物料聚集,使得形成凹凸效果更均勻。
優(yōu)選的,所述的氧化鋅顆粒大小為10nm~50nm的納米氧化鋅。本發(fā)明優(yōu)選的納米氧化鋅能夠表現(xiàn)出宏觀物體所不具有的高分散性,同時(shí)能夠引導(dǎo)懸浮劑的均勻分散,甚至還能利用其自身所具備的抗菌性,達(dá)到抗菌的效果。
本發(fā)明在噴墨印花之前淋底釉和面釉,保證噴墨印花的圖案清晰,鮮明。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的一種防滑瓷磚的制造方法所具有的有益效果是:本發(fā)明提供了一種防滑等級(jí)高、易擦拭、制備工藝簡(jiǎn)單的防滑瓷磚的制造方法,首先本發(fā)明的防滑釉采用特定成分的啞光透明熔塊,保證釉料耐磨擦性能的同時(shí),粉碎后通過(guò)輥筒印油調(diào)制成釉漿后,還能控制釉料的流動(dòng)性,使得添加的懸浮劑和干粉能夠均勻的分散在釉漿內(nèi)。本發(fā)明在釉料中添加懸浮劑,使得添加的干粉能夠均勻的懸浮在釉漿內(nèi),不會(huì)產(chǎn)生集聚和沉淀,同時(shí)干粉又不會(huì)漂浮在釉漿的表面。這使得在燒制后,釉料內(nèi)的干粉外都包裹著釉層,瓷磚的表面在干粉的作用會(huì)出現(xiàn)一層細(xì)小凸起和凹坑,又由于表面的釉料包裹而不會(huì)在觸碰時(shí)有明顯的顆粒感,防滑的同時(shí)保證能夠舒適度和美觀。本發(fā)明的燒制過(guò)程中先在835℃~840℃的較低溫度下激活碳酸鈣組份,使其分解,適量氣泡在外溢的過(guò)程將干粉鼓到表層,增加防滑性能;而氣泡形成的氣路在升溫后的保溫過(guò)程會(huì)逐漸閉合,不會(huì)保留氣孔,保證防滑釉層的密封性,防止灰塵的沾固。總之,本發(fā)明的制備方法可以得到一種防滑等級(jí)高、易擦拭、制備工藝簡(jiǎn)單的防滑瓷磚。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的一種防滑瓷磚的制造方法做進(jìn)一步說(shuō)明,其中實(shí)施例1為最佳實(shí)施例。
實(shí)施例1
制備步驟包括:坯體原料精選-球磨制漿-噴霧干燥制粉-壓制成型-干料生坯-釉成-淋底釉-淋面釉-噴墨印花-加印保護(hù)釉-進(jìn)窯燒成-成品;
將稱量好的高嶺土、石英和長(zhǎng)石按照質(zhì)量百分比為 48:32:18的比例混合后放入球磨機(jī)中濕法球磨 30h,經(jīng)噴霧造粒、陳腐 20h 后得到坯體料粒 ;將坯體料粒放入模具中,在 200MPa 壓力下進(jìn)行壓制成型后得到瓷磚生坯;
先后淋底釉和面釉的釉漿;
噴墨打印機(jī)按照預(yù)選圖案噴墨施于瓷磚面釉上;
先將75份啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入98份輥筒印油、2.0份懸浮劑和30份干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上;其中啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英9.5份、方解石38.5份、氧化鋅5.1份、硼酸2.8份、硅酸鋯 2.7份、生滑石1.95份和碳酸鈣2.95份;制成防滑釉釉漿后施于噴墨層上,防滑釉層的厚度為0.8mm;
將上述工藝制成的磚體轉(zhuǎn)移至燒制窯內(nèi),先將窯溫升至836℃,保溫2.3h,然后升溫至1205℃,保溫3.5h,再冷卻降溫,出窯即得。
實(shí)施例2
制備步驟包括:坯體原料精選-球磨制漿-噴霧干燥制粉-壓制成型-干料生坯-釉成-淋底釉-淋面釉-噴墨印花-加印保護(hù)釉-進(jìn)窯燒成-成品;
將稱量好的高嶺土、石英和長(zhǎng)石按照質(zhì)量百分比為 48:32:18的比例混合后放入球磨機(jī)中濕法球磨 36h,經(jīng)噴霧造粒、陳腐 24h 后得到坯體料粒 ;將坯體料粒放入模具中,在 200MPa 壓力下進(jìn)行壓制成型后得到瓷磚生坯;
先后淋底釉和面釉的釉漿;
噴墨打印機(jī)按照預(yù)選圖案噴墨施于瓷磚面釉上;
先將78份啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入101份輥筒印油、1.8份懸浮劑和29份干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上;其中啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英9份、方解石39份、氧化鋅5.0份、硼酸3.1份、硅酸鋯 2.5份、生滑石2.0份和碳酸鈣2.9份;制成防滑釉釉漿后施于噴墨層上,防滑釉層的厚度為0.6mm;
將上述工藝制成的磚體轉(zhuǎn)移至燒制窯內(nèi),先將窯溫升至838℃,保溫2.2h,然后升溫至1208℃,保溫3.2h,再冷卻降溫,出窯即得。
實(shí)施例3
制備步驟包括:坯體原料精選-球磨制漿-噴霧干燥制粉-壓制成型-干料生坯-釉成-淋底釉-淋面釉-噴墨印花-加印保護(hù)釉-進(jìn)窯燒成-成品;
將稱量好的高嶺土、石英和長(zhǎng)石按照質(zhì)量百分比為 48:32:18的比例混合后放入球磨機(jī)中濕法球磨 36h,經(jīng)噴霧造粒、陳腐 24h 后得到坯體料粒 ;將坯體料粒放入模具中,在 200MPa 壓力下進(jìn)行壓制成型后得到瓷磚生坯;
先后淋底釉和面釉的釉漿;
噴墨打印機(jī)按照預(yù)選圖案噴墨施于瓷磚面釉上;
先將72份啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入93份輥筒印油、2.2份懸浮劑和31份干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上;其中啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英10份、方解石38份、氧化鋅5.3份、硼酸2.7份、硅酸鋯2.8份、生滑石1.9份和碳酸鈣3.0份;制成防滑釉釉漿后施于噴墨層上,防滑釉層的厚度為0.9mm;
將上述工藝制成的磚體轉(zhuǎn)移至燒制窯內(nèi),先將窯溫升至837℃,保溫2.5h,然后升溫至1202℃,保溫3.7h,再冷卻降溫,出窯即得。
實(shí)施例4
制備步驟包括:坯體原料精選-球磨制漿-噴霧干燥制粉-壓制成型-干料生坯-釉成-淋底釉-淋面釉-噴墨印花-加印保護(hù)釉-進(jìn)窯燒成-成品;
將稱量好的高嶺土、石英和長(zhǎng)石按照質(zhì)量百分比為 48:32:18的比例混合后放入球磨機(jī)中濕法球磨 36h,經(jīng)噴霧造粒、陳腐 24h 后得到坯體料粒 ;將坯體料粒放入模具中,在 200MPa 壓力下進(jìn)行壓制成型后得到瓷磚生坯;
先后淋底釉和面釉的釉漿;
噴墨打印機(jī)按照預(yù)選圖案噴墨施于瓷磚面釉上;
先將70份啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入9份輥筒印油、1.5份懸浮劑和27份干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上;其中啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英8份、方解石42份、氧化鋅4.6份、硼酸3.5份、硅酸鋯 2份、生滑石2.2份和碳酸鈣2.7份;制成防滑釉釉漿后施于噴墨層上,防滑釉層的厚度為0.5 mm;
將上述工藝制成的磚體轉(zhuǎn)移至燒制窯內(nèi),先將窯溫升至835℃,保溫2.5h,然后升溫至1210℃,保溫3h,再冷卻降溫,出窯即得。
實(shí)施例5
制備步驟包括:坯體原料精選-球磨制漿-噴霧干燥制粉-壓制成型-干料生坯-釉成-淋底釉-淋面釉-噴墨印花-加印保護(hù)釉-進(jìn)窯燒成-成品;
將稱量好的高嶺土、石英和長(zhǎng)石按照質(zhì)量百分比為 48:32:18的比例混合后放入球磨機(jī)中濕法球磨 36h,經(jīng)噴霧造粒、陳腐 24h 后得到坯體料粒 ;將坯體料粒放入模具中,在 200MPa 壓力下進(jìn)行壓制成型后得到瓷磚生坯;
先后淋底釉和面釉的釉漿;
噴墨打印機(jī)按照預(yù)選圖案噴墨施于瓷磚面釉上;
先將80份啞光透明熔塊破碎為100目以下、150目以上的顆粒,然后加入105份輥筒印油、2.5份懸浮劑和33份干粉攪拌均勻;攪拌均勻后用60目網(wǎng)版印刷在噴墨印花的噴墨層上;其中啞光透明熔塊的原料重量份組成為石英12份、方解石35份、氧化鋅6.3份、硼酸2份、硅酸鋯3份、生滑石1.8份和碳酸鈣3.2份;制成防滑釉釉漿后施于噴墨層上,防滑釉層的厚度為1.2mm;
將上述工藝制成的磚體轉(zhuǎn)移至燒制窯內(nèi),先將窯溫升至840℃,保溫1.5 h,然后升溫至1200℃,保溫4h,再冷卻降溫,出窯即得。
對(duì)比例1
制備工藝步驟和工藝條件同實(shí)施例1不同的是:防滑釉釉料中不使用懸浮劑。
對(duì)比例2
制備工藝步驟和工藝條件同實(shí)施例1不同的是:燒制過(guò)程中窯溫直接升至1100℃,保溫5h。
各實(shí)施例和對(duì)比例的抗菌性能測(cè)試結(jié)果見(jiàn)表1:
表1中防滑系數(shù)根據(jù)JC/T1050-2007測(cè)定,明顯凸起直最大對(duì)角線大于等于1mm的凸起或凹坑。
由各實(shí)施例和對(duì)比例可知,只有在本發(fā)明的防滑釉配方和燒制條件下才能得到防滑等級(jí)高、易擦拭的防滑瓷磚。
以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非是對(duì)本發(fā)明作其它形式的限制,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與改型,仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。