1.一種多晶硅還原爐，其特征是包括：底盤和爐體，所述爐體為底盤之上部，爐體為圓柱狀加半球頂?shù)姆磻皇?；底盤為圓盤狀，原料氣進口和尾氣出口均布在底盤上，其特征是底盤上均布30-50對電極，所述一半電極在底盤上均勻豎直安裝，另一半電極為吊裝電極，與底盤上豎直安裝電極交錯分布，吊裝電極的底端距底盤3-10cm；吊裝電極的上端位置與圓柱狀與半球頂交界處平齊，原料氣進口通過高為3-10cm的進氣管安裝在底盤上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐，其特征是原料氣進口和尾氣出口均布在底盤的不同半徑的圓周上，在一個半徑的圓周上布置原料氣進口時，在相鄰的半徑的圓周上布置尾氣出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐，其特征是爐體圓柱狀與半球頂交界處夾裝鈦墊片引出平齊吊裝電極的支架體，鈦墊片引出鈦支架體的為角鈦型材。