一種石墨提純?cè)O(shè)備、工藝氣體分流裝置及方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種工藝氣體分流裝置，包括馬弗(22)、設(shè)置于所述馬弗(22)底部的分流盤(pán)(24)及安裝于所述分流盤(pán)(24)上的分流管(23)，所述分流管(23)位于所述分流盤(pán)(24)上部，所述分流盤(pán)(24)與所述馬弗(22)底部區(qū)域圍成進(jìn)氣腔(25)，所述進(jìn)氣腔(25)上具有進(jìn)氣口(26)，且所述進(jìn)氣腔(25)與所述分流管(23)連通，所述分流管(23)上具有氣孔(21)。本發(fā)明還公開(kāi)了一種工藝氣體分流方法。該工藝氣體分流裝置及方法有效地解決了石墨提純過(guò)程中工藝氣體在反應(yīng)區(qū)域分布不均勻的問(wèn)題。本發(fā)明還公開(kāi)了一種包括上述工藝氣體分流裝置的石墨提純?cè)O(shè)備。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種石墨提純?cè)O(shè)備、工藝氣體分流裝置及方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及石墨提純?cè)O(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種工藝氣體分流裝置及方法。此外，本發(fā)明還涉及一種包括上述工藝氣體分流裝置的石墨提純?cè)O(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]石墨材料廣泛應(yīng)用于能源、環(huán)保、信息、交通、國(guó)防等新【技術(shù)領(lǐng)域】，對(duì)石墨材料的純度提出了更高的要求。目前，通過(guò)石墨和工藝氣體反應(yīng)進(jìn)行石墨提純，比如，采用氯氣作為工藝氣體，通過(guò)氯氣與物料中的高沸點(diǎn)金屬雜質(zhì)在設(shè)定的溫度下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成低沸點(diǎn)的氯化物，從而雜質(zhì)被氣化排出，以達(dá)到石墨提純的目的。石墨提純處理過(guò)程中，待提純的石墨粉料充滿(mǎn)整個(gè)馬弗所圍成的反應(yīng)區(qū)，因此提純處理過(guò)程中，通入設(shè)備的工藝氣體的在反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的分布均勻程度，直接影響石墨提純效果。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，工藝氣體自馬弗底部的進(jìn)氣管通入反應(yīng)區(qū)內(nèi)部，并向上流動(dòng)，在流動(dòng)的過(guò)程中，與待處理石墨粉料接觸，發(fā)生純化反應(yīng)，未參與反應(yīng)的氣體和純化反應(yīng)生成的尾氣從馬弗上部的出氣管排出。但是，由于石墨粉料充滿(mǎn)整個(gè)反應(yīng)區(qū)，工藝氣體在反應(yīng)區(qū)的均勻擴(kuò)散阻力較大，增加了工藝氣體在反應(yīng)區(qū)分布不均勻的可能性。
[0004]綜上所述，如何有效地解決石墨提純過(guò)程中工藝氣體在反應(yīng)區(qū)域分布不均勻的問(wèn)題，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的問(wèn)題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種工藝氣體分流裝置及方法，有效地解決了石墨提純過(guò)程中工藝氣體在反應(yīng)區(qū)域分布不均勻的問(wèn)題；本發(fā)明的另一目的是提供一種包括上述工藝氣體分流裝置的石墨提純?cè)O(shè)備。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0007]一種工藝氣體分流裝置，包括馬弗、設(shè)置于所述馬弗底部的分流盤(pán)及安裝于所述分流盤(pán)上的分流管，所述分流管位于所述分流盤(pán)上部，所述分流盤(pán)與所述馬弗底部區(qū)域圍成進(jìn)氣腔，所述進(jìn)氣腔上具有進(jìn)氣口，且所述進(jìn)氣腔與所述分流管連通，所述分流管上具有氣孔。
[0008]優(yōu)選地，所述分流盤(pán)上具有用于分流的氣道。
[0009]優(yōu)選地，所述馬弗和分流盤(pán)均為圓柱形，所述氣道的數(shù)量為多個(gè)，所述分流盤(pán)的軸線處具有一個(gè)氣道，其余所述氣道均勻的分布于所述分流盤(pán)的第一中心圓上。
[0010]優(yōu)選地，所述氣孔的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)所述氣孔沿著所述分流管的軸向分層排布，且每層上具有多個(gè)所述氣孔。
[0011]優(yōu)選地，所述分流管的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述分流管均勻的分布于所述分流盤(pán)的第二中心圓上，且所述第二中心圓位于所述分流盤(pán)的軸線與所述第一中心圓之間。
[0012]優(yōu)選地，所述分流盤(pán)與所述分流管之間通過(guò)螺紋連接。
[0013]優(yōu)選地，所述分流管的頂端封閉，具體通過(guò)螺帽封口。
[0014]本發(fā)明還提供一種石墨提純?cè)O(shè)備，包括工藝氣體分流裝置、與所述工藝氣體分流裝置上部連接的進(jìn)料裝置及與所述工藝氣體分流裝置下部連接的出料裝置，所述工藝氣體分流裝置具體為上述任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置。
[0015]本發(fā)明還提供一種使用上述任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置的工藝氣體分流方法，包括如下步驟:
[0016]I)往所述進(jìn)氣腔內(nèi)通入工藝氣體；
[0017]2)所述工藝氣體沿所述分流管的氣孔進(jìn)入所述馬弗上部。
[0018]優(yōu)選地，所述工藝氣體還沿所述分流盤(pán)上的氣道進(jìn)入所述馬弗上部。
[0019]本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置，包括馬弗、分流盤(pán)及分流管，石墨提純?cè)O(shè)備的工藝氣體分流裝置，也就是石墨純化反應(yīng)區(qū)，是由馬弗圍成的，馬弗圍成的腔體底部設(shè)置有分流盤(pán)，分流管安裝于分流盤(pán)上，分流盤(pán)將馬弗分割成上部和下部，分流管位于分流盤(pán)上部，分流盤(pán)與馬弗底部區(qū)域圍成進(jìn)氣腔，進(jìn)氣腔上具有進(jìn)氣口，工藝氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入進(jìn)氣腔，且進(jìn)氣腔與分流管連通，進(jìn)而工藝氣體進(jìn)入分流管，分流管上具有氣孔，工藝氣體從氣孔出來(lái)進(jìn)入馬弗上部。
[0020]本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置，分流管縱向分布于馬弗上部，且分流管上具有縱向分布的氣孔，工藝氣體自馬弗底部的進(jìn)氣腔沿分流管向上流動(dòng)，進(jìn)入馬弗上部。在縱向方向上，反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的分流管上開(kāi)設(shè)有氣孔，工藝氣體從氣孔排出，氣孔相比于進(jìn)氣口位置提高，也就是反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的進(jìn)氣口位置升高，可以縮短工藝氣體的流動(dòng)行程；并且，工藝氣體在向上流動(dòng)的過(guò)程中沿分流管流動(dòng)，不與待處理的石墨粉料接觸，受到的阻力較小，在縱向方向上，工藝氣體在整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)可以較均勻的擴(kuò)散，使工藝氣體分布更加均勻，提高了反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布的均勻性。
[0021]本發(fā)明還提供一種石墨提純?cè)O(shè)備，包括工藝氣體分流裝置、與工藝氣體分流裝置上部連接的進(jìn)料裝置及與工藝氣體分流裝置下部連接的出料裝置，該工藝氣體分流裝置具體為上述任一種工藝氣體分流裝置。由于上述的工藝氣體分流裝置具有上述技術(shù)效果，具有該工藝氣體分流裝置的石墨提純?cè)O(shè)備也應(yīng)具有相應(yīng)的技術(shù)效果。
[0022]本發(fā)明還提供一種工藝氣體分流方法。由于上述的工藝氣體分流裝置具有上述技術(shù)效果，則對(duì)應(yīng)該裝置的方法也應(yīng)具有相應(yīng)的技術(shù)效果。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0023]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1為本發(fā)明中一種【具體實(shí)施方式】所提供的石墨提純?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為圖1中工藝氣體分流裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]附圖中標(biāo)記如下:
[0027]1-爐殼、2-工藝氣體分流裝置、3-電阻加熱裝置、21-氣孔、22-馬弗、23-分流管、24-分流盤(pán)、25-進(jìn)氣腔、26-進(jìn)氣口、27-氣道。

【具體實(shí)施方式】
[0028]本發(fā)明的核心是提供一種工藝氣體分流裝置及方法，有效地解決了石墨提純過(guò)程中工藝氣體在反應(yīng)區(qū)域分布不均勻的問(wèn)題；本發(fā)明的另一核心是提供一種包括上述工藝氣體分流裝置的石墨提純?cè)O(shè)備。
[0029]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0030]請(qǐng)參考圖1和圖2，圖1為本發(fā)明中一種【具體實(shí)施方式】所提供的石墨提純?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中工藝氣體分流裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031]在一種【具體實(shí)施方式】中，本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置，包括馬弗22、分流盤(pán)24及分流管23，石墨提純?cè)O(shè)備包括爐殼1、工藝氣體分流裝置2及電阻加熱裝置3，工藝氣體分流裝置2是石墨純化反應(yīng)區(qū)，是由馬弗22圍成的，馬弗22上部連接進(jìn)料裝置，下部連接出料裝置。馬弗22圍成的腔體底部設(shè)置有分流盤(pán)24，分流盤(pán)24將馬弗22分割成上部和下部，分流管23安裝于分流盤(pán)24上，分流管23位于分流盤(pán)24上部，分流盤(pán)24與馬弗22底部區(qū)域圍成進(jìn)氣腔25，進(jìn)氣腔25上具有進(jìn)氣口 26，工藝氣體從進(jìn)氣口 26進(jìn)入進(jìn)氣腔25，且進(jìn)氣腔25與分流管23連通，進(jìn)而工藝氣體進(jìn)入分流管23，分流管23上具有氣孔21，工藝氣體從氣孔21出來(lái)進(jìn)入馬弗22上部。石墨提純處理過(guò)程中，待提純的石墨粉料充滿(mǎn)整個(gè)馬弗22所圍成的反應(yīng)區(qū)，分流管23縱向分布于馬弗22上部，且分流管23上具有縱向分布的氣孔21，工藝氣體自馬弗22底部的進(jìn)氣腔25沿分流管23向上流動(dòng)，進(jìn)入馬弗22上部。工藝氣體與待處理石墨粉料接觸，發(fā)生純化反應(yīng)，未參與反應(yīng)的氣體和純化反應(yīng)生成的尾氣從馬弗22上部的出氣管排出。需要說(shuō)明的是，這里及以下所說(shuō)的工藝氣體包括氯氣、氮?dú)饣驓鍤獾取?br> [0032]本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置，在縱向方向上，反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的分流管23上開(kāi)設(shè)有氣孔21，工藝氣體從氣孔21排出，氣孔21相比于進(jìn)氣口 26位置提高，也就是反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的進(jìn)氣口 26位置升高，可以縮短工藝氣體的流動(dòng)行程；并且，工藝氣體在向上流動(dòng)的過(guò)程中沿分流管23流動(dòng)，不與待處理的石墨粉料接觸，受到的阻力較小，在縱向方向上，工藝氣體在整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)可以較均勻的擴(kuò)散，使工藝氣體分布更加均勻，提高了反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布的均勾性。
[0033]上述工藝氣體分流裝置僅是一種優(yōu)選方案，具體并不局限于此，在此基礎(chǔ)上可根據(jù)實(shí)際需要做出具有針對(duì)性的調(diào)整，從而得到不同的實(shí)施方式，分流盤(pán)24上具有用于分流的氣道27。分流盤(pán)24將馬弗22分割為兩部分，下部分為進(jìn)氣腔25，進(jìn)氣腔25的進(jìn)氣口 26可以開(kāi)設(shè)于進(jìn)氣腔25的側(cè)面上，當(dāng)然，還可以開(kāi)設(shè)于馬弗22的底端面上。分流盤(pán)24相當(dāng)于分隔板，工藝氣體不能穿過(guò)分流盤(pán)24而進(jìn)入馬弗22上部，工藝氣體聚集在進(jìn)氣腔25里，并較均勻的分布于整個(gè)進(jìn)氣腔25內(nèi)。分流盤(pán)24上開(kāi)設(shè)氣道27，氣道27具有分流作用，工藝氣體可以順著氣道27進(jìn)入馬弗22上部，優(yōu)選地，氣道27設(shè)置于分流盤(pán)24的中心部位，在滿(mǎn)足要求的情況下，氣道27的面積可以盡可能大，覆蓋較大的區(qū)域面積，使進(jìn)氣腔25內(nèi)的工藝氣體經(jīng)氣道27盡量均勻的進(jìn)入馬弗22的上部區(qū)域。在橫向方向上，保證工藝氣體較均勻的擴(kuò)散，使整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)均勻充滿(mǎn)工藝氣體，提高了反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布的均勻性。
[0034]在上述【具體實(shí)施方式】的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)具體場(chǎng)合的不同，對(duì)工藝氣體分流裝置進(jìn)行若干改變，馬弗22和分流盤(pán)24均為圓柱形，氣道27的數(shù)量為多個(gè)，分流盤(pán)24的軸線處具有一個(gè)氣道27，其余氣道27均勻的分布于分流盤(pán)24的第一中心圓上。馬弗22和分流盤(pán)24均為圓柱形，圓柱形加工簡(jiǎn)便，并且圓柱形的分流盤(pán)24上可以開(kāi)設(shè)多個(gè)氣道27，沿軸線方向上可以開(kāi)設(shè)一個(gè)氣道27，此氣道27的孔徑可以相比于其它的大些，軸線處的氣道27位于中心位置，向周邊流動(dòng)的距離最近，受到的阻力最小。優(yōu)選地，其余氣道27可以均勻的分布于分流盤(pán)24的第一中心圓上，需要解釋的是，這里所說(shuō)的第一中心圓指的是以軸線為中心的圓，具體第一中心圓的直徑大小不做進(jìn)一步限制，可以根據(jù)實(shí)際情況而定，第一中心圓上的多個(gè)氣道27可以均勻分布，也可以不均勻分布?？傊至鞅P(pán)24上開(kāi)設(shè)的多個(gè)氣道27，進(jìn)氣腔25內(nèi)的工藝氣體經(jīng)這些氣道27進(jìn)入馬弗22的上部區(qū)域，起分流作用的氣道27可以保證工藝氣體盡量均勻的進(jìn)入馬弗22上部，在反應(yīng)區(qū)內(nèi)減少工藝氣體死角，在橫向方向上，保證工藝氣體在整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)可以較均勻的擴(kuò)散，使工藝氣體分布更加均勻，提高反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布的均勻性。
[0035]顯然，在這種思想的指導(dǎo)下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)具體場(chǎng)合的不同對(duì)上述【具體實(shí)施方式】中的氣孔21進(jìn)行若干改變，氣孔21的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)氣孔21沿著分流管23的軸向分層排布，且每層上具有多個(gè)氣孔21。分流管23上開(kāi)設(shè)多個(gè)氣孔21，多個(gè)氣孔21沿著分流管23的軸向分層排布，可以均勾分布，也可以不均勾分布。由于分流盤(pán)24上具有氣道27，工藝氣體較易通入分流盤(pán)24上部，因此，在靠近分流盤(pán)24的位置可以開(kāi)設(shè)較少數(shù)量的氣孔21，在遠(yuǎn)離分流盤(pán)24的位置可以開(kāi)設(shè)較多數(shù)量的氣孔21，使距離分流盤(pán)24遠(yuǎn)近位置不同的反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布較均勻。優(yōu)選地，每層上可以具有多個(gè)氣孔21，多個(gè)氣孔21朝向不同的方向，使同一高度不同方向處的反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布較均勻。氣孔21的具體數(shù)量與大小不做進(jìn)一步要求，可以根據(jù)具體應(yīng)用情況自行設(shè)定。
[0036]需要特別指出的是，本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置不應(yīng)被限制于此種情形，分流管23的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)分流管23均勻的分布于分流盤(pán)24的第二中心圓上，且第二中心圓位于分流盤(pán)24的軸線與第一中心圓之間。分流管23的數(shù)量不受限制，可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用情況而定，分流管23的數(shù)量可以為多個(gè)，多個(gè)分流管23均勻的分布于分流盤(pán)24的第二中心圓上，可以使沿分流管23進(jìn)入反應(yīng)區(qū)的工藝氣體橫向分布較均勻。當(dāng)然，均勻分布是一種優(yōu)選地實(shí)施方式，并不是唯一的，也可以不均勻，第二中心圓位于分流盤(pán)24的軸線與第一中心圓之間。為了使整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布更加均勻，可以在第一中心圓外側(cè)設(shè)置分流管23，增大分流管23的覆蓋面積。分流管23的高度可以盡可能高，優(yōu)選地，靠近馬弗22頂端面，此時(shí)可以保證反應(yīng)區(qū)上部具有與下部相當(dāng)?shù)墓に嚉怏w，能夠與上部的石墨充分反應(yīng)。
[0037]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，分流盤(pán)24與分流管23之間通過(guò)螺紋連接。分流盤(pán)24上具有螺紋孔，分流管23的連接端上具有外螺紋，分流盤(pán)24與分流管23之間通過(guò)螺紋連接，此時(shí)連接方式，易于實(shí)現(xiàn)兩者的連接，并且連接方式較簡(jiǎn)單。當(dāng)然，還可以采用其它的連接方式，比如，在分流盤(pán)24上開(kāi)設(shè)通孔，分流管23與分流管23之間通過(guò)粘結(jié)劑連接，由于可能實(shí)現(xiàn)的方式較多，這里就不再一一舉例說(shuō)明。
[0038]本發(fā)明所提供的工藝氣體分流裝置，在其它部件不改變的情況下，分流管23的頂端封閉，具體通過(guò)螺帽封口。分流管23頂端封閉，可以避免分流管23內(nèi)向上的氣流對(duì)加熱區(qū)上部的物料造成大的擾動(dòng)，具體的，可以用螺帽封口，還可以使用其它適宜的方式封裝，當(dāng)然，分流管23的頂端可以沒(méi)有開(kāi)口，固有密封，只有底端具有開(kāi)口。
[0039]基于上述實(shí)施例中提供的工藝氣體分流裝置，本發(fā)明還提供了一種石墨提純?cè)O(shè)備，該石墨提純?cè)O(shè)備包括工藝氣體分流裝置、與工藝氣體分流裝置上部連接的進(jìn)料裝置及與工藝氣體分流裝置下部連接的出料裝置，其中工藝氣體分流裝置為上述實(shí)施例中任意一種工藝氣體分流裝置。由于該石墨提純?cè)O(shè)備采用了上述實(shí)施例中的工藝氣體分流裝置，所以該石墨提純?cè)O(shè)備的有益效果請(qǐng)參考上述實(shí)施例。
[0040]在一種【具體實(shí)施方式】中，本發(fā)明所提供的使用上述任一項(xiàng)的工藝氣體分流裝置的工藝氣體分流方法，包括如下步驟:
[0041]I)往進(jìn)氣腔25內(nèi)通入工藝氣體；
[0042]2)工藝氣體沿分流管23的氣孔21進(jìn)入馬弗22上部。
[0043]在石墨提純過(guò)程中，可以先關(guān)閉出料裝置，石墨物料從進(jìn)料裝置進(jìn)入反應(yīng)區(qū)，待物料裝滿(mǎn)反應(yīng)區(qū)，關(guān)閉進(jìn)料裝置。從進(jìn)氣口 26向進(jìn)氣腔25內(nèi)通入工藝氣體，也就是向反應(yīng)區(qū)內(nèi)通入工藝氣體，工藝氣體沿分流管23的氣孔21向反應(yīng)區(qū)上部流動(dòng)，最終未參與反應(yīng)的工藝氣體和純化反應(yīng)生成的尾氣沿出氣口排出。純化反應(yīng)結(jié)束后，打開(kāi)出料裝置，卸料，關(guān)閉出料裝置，此時(shí)完成此批物料的提純，進(jìn)入下一批物料的純化處理。
[0044]此工藝氣體分流方法，分流效果好，能顯著提高工藝氣體在反應(yīng)區(qū)域的均勻性，保證石墨提純效果。
[0045]除了分流管23分流以外，本發(fā)明所提供的另一創(chuàng)造性思想在于，工藝氣體還沿分流盤(pán)24上的氣道27進(jìn)入馬弗22上部。工藝氣體不能穿過(guò)分流盤(pán)24進(jìn)入馬弗22上部，工藝氣體聚集在進(jìn)氣腔25里，并較均勻的分布于整個(gè)進(jìn)氣腔25內(nèi)。分流盤(pán)24上開(kāi)設(shè)氣道27，氣道27可以有多個(gè)，且均勻分布，沿氣道27進(jìn)入馬弗22上部的工藝氣體分布也較具有。氣道27具有分流作用，工藝氣體可以順著氣道27進(jìn)入馬弗22上部，在橫向方向上，保證工藝氣體在整個(gè)反應(yīng)區(qū)內(nèi)可以較均勻的擴(kuò)散，使工藝氣體分布更加均勻，提高了反應(yīng)區(qū)內(nèi)工藝氣體分布的均勻性。
[0046]本說(shuō)明書(shū)中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見(jiàn)即可。
[0047]對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種工藝氣體分流裝置，其特征在于，包括馬弗(22^設(shè)置于所述馬弗(22)底部的分流盤(pán)(24)及安裝于所述分流盤(pán)(24)上的分流管(23)，所述分流管(23)位于所述分流盤(pán)(24)上部，所述分流盤(pán)(24)與所述馬弗(22)底部區(qū)域圍成進(jìn)氣腔(25),所述進(jìn)氣腔(25)上具有進(jìn)氣口(26),且所述進(jìn)氣腔(25)與所述分流管(23)連通，所述分流管(23)上具有氣孔(21)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述分流盤(pán)(24)上具有用于分流的氣道(27)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述馬弗(22)和分流盤(pán)(24)均為圓柱形，所述氣道(27)的數(shù)量為多個(gè)，所述分流盤(pán)(24)的軸線處具有一個(gè)氣道(27),其余所述氣道(27)均勻的分布于所述分流盤(pán)(24)的第一中心圓上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述氣孔(21)的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)所述氣孔(21)沿著所述分流管(23)的軸向分層排布，且每層上具有多個(gè)所述氣孔⑶。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述分流管(23)的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述分流管(23)均勻的分布于所述分流盤(pán)(24)的第二中心圓上，且所述第二中心圓位于所述分流盤(pán)(24)的軸線與所述第一中心圓之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述分流盤(pán)(24)與所述分流管(23)之間通過(guò)螺紋連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置，其特征在于，所述分流管(23)的頂端封閉，具體通過(guò)螺帽封口。
8.—種石墨提純?cè)O(shè)備，包括工藝氣體分流裝置、與所述工藝氣體分流裝置上部連接的進(jìn)料裝置及與所述工藝氣體分流裝置下部連接的出料裝置，其特征在于，所述工藝氣體分流裝置具體為權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置。
9.一種使用權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的工藝氣體分流裝置的工藝氣體分流方法，其特征在于，包括如下步驟: 1)往所述進(jìn)氣腔(25)內(nèi)通入工藝氣體； 2)所述工藝氣體沿所述分流管(23)的氣孔(21)進(jìn)入所述馬弗(22)上部。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的工藝氣體分流方法，其特征在于，所述工藝氣體還沿所述分流盤(pán)(24)上的氣道(27)進(jìn)入所述馬弗(22)上部。
【文檔編號(hào)】C01B31/04GK104445179SQ201410815727
【公開(kāi)日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2014年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月24日
【發(fā)明者】戴煜, 胡祥龍, 黃啟忠, 周岳兵 申請(qǐng)人:湖南頂立科技有限公司