專利名稱：一種石英砂制備四氟化硅的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化合物的制備方法，尤其涉及一種石英砂制備四氟化硅的方法。
背景技術(shù)：
四氟化硅，也稱四氟硅烷，其分子式為SiF4，四氟化硅(SiF4)無(wú)色、有毒、有剌激性臭味的氣體。密度4.69g/L，熔點(diǎn)-90. 2°C (1. 73X 105Pa)。四氟化硅在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生煙霧，生成硅酸和氫氟酸。在冷凍下加壓可凝成液體。能溶于硝酸和乙醇。四氟化硅比較穩(wěn)定。能跟氫氟酸作用生成氟硅酸H2SiF6。四氟化硅也易被堿液分解。
四氟化硅具有多種用途，例如1)用于氟硅酸及氟化鉛的制取，2)用作水泥和人造大理石的硬化劑，增強(qiáng)耐腐蝕性和耐磨性。3)有機(jī)硅化合物的合成材料。4)高純度的四氟化硅是電子工業(yè)的一種重要材料，廣泛用于光纖、半導(dǎo)體、和光伏電池生產(chǎn)。5)在硅烷制備中需要大量的四氟化硅原料。 在現(xiàn)有的技術(shù)中，已經(jīng)公開(kāi)了多種制備四氟化硅的方法，其中有硫酸法和六氟硅酸鹽熱解法等幾種方法。 硫酸法是最早用于工業(yè)化制備SiF4的方法，按照所用原料它又分為螢石硫酸法
和六氟硅酸鹽硫酸法2種。 1、螢石一硫酸法 采用CaF :質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于97%、硅酸質(zhì)量分?jǐn)?shù)在1% _3%的螢石作原料，與質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于95%的濃硫酸在IO(TC _3001:下反應(yīng)，然后使生成的混合氣體在反應(yīng)體系循環(huán)，聯(lián)產(chǎn)SiF4和HF。反應(yīng)式如下: 3CaF2+3H2S04+Si02-3CaS04+SiF4+2HF+2H20(1)
該方法的缺點(diǎn)和不足之處是 1)大量使用螢石粉作為原料，而螢石的采購(gòu)成本較高，使生產(chǎn)成本大量增加；
2)該方法伴有大量的HF產(chǎn)生，而除去HF的成本也很高，同時(shí)浪費(fèi)了氟資源，也不利于四氟化硅的工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)。
2、六氟硅酸鹽一硫酸法 這是一種用磷酸制造工藝中用的磷礦石作原料連續(xù)生產(chǎn)SiF的工藝，先使磷礦石、水、SiO與濃硫酸反應(yīng)，過(guò)濾后的濾液經(jīng)減壓加熱分離出H2SiF6 ;然后用Ca(0H)中和得到CaSiF，再使過(guò)濾、干燥后的CaSiF與濃硫酸反應(yīng)生成SiF經(jīng)冷卻和用A1203吸附除去副產(chǎn)的水和HF，得到高純SiF，反應(yīng)式如下Calo (P04)6F2+I0H2S04+20H20-10CaS04+2H20+6H3P04+2HF(2) 6HF+Si02-H2SiF6+2H20(3)H2SiF6+Ca(0H)2—CaSiF6+2H20(4) CaSiF6+H2S04-SiF4+CaS04+2HF(5)為減少SiF中C0的含量，采用使用濃硫酸在50 15(TC下用惰性氣體鼓泡的方法將硫酸中C02減少到2X10-5mL/(g H2s0)以下，然后用該硫酸作原料與HSiF或金屬六氟硅酸鹽反應(yīng)來(lái)制備SiF4。
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該方法的缺點(diǎn)和不足之處是 1)反應(yīng)過(guò)程比較復(fù)雜，副產(chǎn)物較多，因而成本也高。附近最好有磷肥廠配套，使副產(chǎn)物能得到合理利用。 一般很難達(dá)到這種條件。
2)環(huán)保治理成本較高。
3、六氟硅酸鹽熱解法 這種方法采用金屬氟硅酸鹽熱解法來(lái)生產(chǎn)SiF4。為減少雜質(zhì)的形成，在熱解前，預(yù)先在低于于熱解溫度和小于2. 67kPa解離壓下對(duì)金屬氟硅酸鹽進(jìn)行熱處理。不同金屬氟硅酸鹽的熱處理溫度不同，如Na2SiF6在330°C 520。C，K2SiF6在430°C 550。C，BaSiF6在300°C 41(TC等。該熱處理步驟可代替氟硅酸鹽的脫水，用這種方法生產(chǎn)的SiF有高的純度和收率。在用熱解法生產(chǎn)SiF時(shí)，爐壁易被腐蝕，熱解產(chǎn)物附于爐壁而不易排出。為解決該問(wèn)題，采用使金屬氟硅酸鹽與質(zhì)量分?jǐn)?shù)1% 20%的粒徑0. 1 100m的Si02和A1203混合，再于500°C 80(TC下熱解的方法來(lái)生產(chǎn)SiF/91。助劑的純度應(yīng)大于99% ，使用前預(yù)先干燥脫水。 該方法的缺點(diǎn)和不足之處是
1)熱解溫度較高，能源消耗大； 2)熱解的充分度不足，轉(zhuǎn)換率為50-60%， SiF4的得率低，因而生產(chǎn)成本較高。
3)裝置的產(chǎn)量低，不利于規(guī)模生產(chǎn)。 考慮到現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，需要一種收率高，成本低并可以規(guī)?；a(chǎn)的四氟化硅制備方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種產(chǎn)率高，并可以有效的降低成本的石英砂制備四氟化硅的方法。
石英砂制備四氟化硅的方法包括如下步驟 1)取200 220重量份150 200目的二氧化硅粉末，1000 1100重量份質(zhì)量百分比濃度為96 % 98 %的硫酸、500 550重量份質(zhì)量百分比濃度為80 % 85 %的硫酸和560 575重量份質(zhì)量百分比濃度為50% _52%的氫氟酸備用； 2)取其中1000 1100重量份質(zhì)量百分比濃度為96% 98%的硫酸與560 575重量份質(zhì)量百分比濃度為50% 52%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的質(zhì)量百分比濃度為11 24%，硫酸的質(zhì)量百分比濃度為80 85%，得到混合物A ;取200 220重量份150 200目的二氧化硅粉末與500 550重量份質(zhì)量百分比濃度為80 % 85 %的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ; 3)將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為10 120分鐘，反應(yīng)溫度為60 8(TC，得到四氟化硅氣體，未反應(yīng)完的殘?jiān)诔两捣蛛x槽沉降后，將上層的硫酸清液抽出至硫酸蒸發(fā)器進(jìn)行蒸發(fā)濃縮至質(zhì)量百分比濃度為80 85%，沉降下來(lái)的二氧化硅漿料用泵抽到二氧化硅硫酸混合槽，循環(huán)使用； 4)將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為20 25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐。 所述的反應(yīng)溫度優(yōu)選為65 70°C 。所述的反應(yīng)時(shí)間優(yōu)選為100 120分鐘。
本發(fā)明不僅克服了成本高的問(wèn)題，而且做到了反應(yīng)殘液和漿料的重復(fù)利用，對(duì)環(huán)景保護(hù)沒(méi)有影響，能源消耗大大降低。


圖1是石英砂制備四氟化硅的方法的工藝示意圖； 圖2是實(shí)施例1樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖3是實(shí)施例2樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖4是實(shí)施例3樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖5是實(shí)施例4樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖6是實(shí)施例5樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖7是實(shí)施例6樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖8是實(shí)施例7樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜； 圖9是實(shí)施例8樣品經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀純度的檢測(cè)圖譜。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的主要反應(yīng)式如下
Si02+4HF — SiF4+2H20 為進(jìn)一步了解本發(fā)明，下面對(duì)實(shí)施方案結(jié)合實(shí)施案例進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明
實(shí)施例1 取200重量份150 200目的二氧化硅粉末，1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸、500重量份質(zhì)量百分比濃度為80%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為12%，硫酸的濃度為80% ，得到混合物A ;取200重量份150 200目的二氧化硅粉末與500重量份質(zhì)量百分比濃度為80%的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為10分鐘，反應(yīng)溫度為6(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為20°C，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖2 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為35. 6%
實(shí)施例2 取220重量份150 200目的二氧化硅粉末，1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸、550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸和575重量份質(zhì)量百分比濃度為52%的氫氟酸備用；取其中1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸與575重量份質(zhì)量百分比濃度為52%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為24%，硫酸的濃度為85% ，得到混合物A ;取220重量份150 200目的二氧化硅粉末與550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為120分鐘，反應(yīng)溫度為8(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖3 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為90. 5% 實(shí)施例3 取210重量份150 200目的二氧化硅粉末，1050重量份質(zhì)量百分比濃度為97%的硫酸、385重量份質(zhì)量百分比濃度為82%的硫酸和568重量份質(zhì)量百分比濃度為51 %的氫氟酸備用；取其中1050重量份質(zhì)量百分比濃度為97%的硫酸與568重量份質(zhì)量百分比濃度為51%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為15%，硫酸的濃度為82%，得到混合物A ;取210重量份150 200目的二氧化硅粉末與385重量份質(zhì)量百分比濃度為82X的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為120分鐘，反應(yīng)溫度為7(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖4 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為89. 8%
實(shí)施例4 取200重量份150 200目的二氧化硅粉末，1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸、550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為20%，硫酸的濃度為85% ，得到混合物A ;取200重量份150 200目的二氧化硅粉末與550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為120分鐘，反應(yīng)溫度為8(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖5 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為86. 5%
實(shí)施例5 取220重量份150 200目的二氧化硅粉末，1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸、385重量份質(zhì)量百分比濃度為82%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為15. 5%，硫酸的濃度為82% ，得到混合物A ;取220重量份150 200目的二氧化硅粉末與385重量份質(zhì)量百分比濃度為82 %的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為120分鐘，反應(yīng)溫度為7(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖6 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為92. 6%
實(shí)施例6 取200重量份150 200目的二氧化硅粉末，1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸、550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為20%，硫酸的濃度為85% ，得到混合物A ;取200重量份150 200目的二氧化硅粉末與550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為30分鐘，反應(yīng)溫度為8(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖7 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為45. 6%
實(shí)施例7 取220重量份150 200目的二氧化硅粉末，1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸、385重量份質(zhì)量百分比濃度為82%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1000重量份質(zhì)量百分比濃度為96%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為15. 5%，硫酸的濃度為82% ，得到混合物A ;取220重量份150 200目的二氧化硅粉末與385重量份質(zhì)量百分比濃度為82 %的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B ;將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為100分鐘，反應(yīng)溫度為7(TC，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25°C ，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。
用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖8 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為90. 8%
實(shí)施例8 取200重量份150 200目的二氧化硅粉末，1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸、550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸和560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸備用；取其中1100重量份質(zhì)量百分比濃度為98%的硫酸與560重量份質(zhì)量百分比濃度為50%的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為20%，硫酸的濃度為85% ，得到混合物A ;取200重量份150 200目的二氧化硅粉末與550重量份質(zhì)量百分比濃度為85%的硫酸在二氧化硅硫酸混合槽進(jìn)行預(yù)混合，未反應(yīng)完的殘?jiān)诔两捣蛛x槽沉降后，將上層的硫酸清液抽出后，將沉降下來(lái)的二氧化硅漿料用泵抽到二氧化硅硫酸混合槽，得到混合物B ; 將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為100分鐘，反應(yīng)溫度為80°C ，得到四氟化硅氣體。將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為25t:，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐備用。 用取樣瓶對(duì)罐中的四氟化硅氣體進(jìn)行取樣化驗(yàn)分析，經(jīng)傅里葉紅外線測(cè)試儀檢測(cè)的純度圖譜見(jiàn)圖9 ;計(jì)算結(jié)果如下四氟化硅純度為90. 7% 以上對(duì)本發(fā)明提供的制備四氟化硅的方法進(jìn)行了詳細(xì)介紹，并應(yīng)用了具體實(shí)施個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了驗(yàn)證和闡述，以幫助理解本發(fā)明的方法和核心思想。必須指出的是，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，允許工程技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修正和補(bǔ)充，但這些修正和補(bǔ)充也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種石英砂制備四氟化硅的方法，其特征在于包括如下步驟1)取200～220重量份150～200目的二氧化硅粉末，1000～1100重量份質(zhì)量百分比濃度為96％～98％的硫酸、500～550重量份質(zhì)量百分比濃度為80％～85％的硫酸和560～575重量份質(zhì)量百分比濃度為50％-52％的氫氟酸備用；2)取其中1000～1100重量份質(zhì)量百分比濃度為96％～98％的硫酸與560～575重量份質(zhì)量百分比濃度為50％～52％的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的質(zhì)量百分比濃度為11～24％，硫酸的質(zhì)量百分比濃度為80～85％，得到混合物A；取200～220重量份150～200目的二氧化硅粉末與500～550重量份質(zhì)量百分比濃度為80％～85％的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B；3)將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為10～120分鐘，反應(yīng)溫度為60～80℃，得到四氟化硅氣體，未反應(yīng)完的殘?jiān)诔两捣蛛x槽沉降后，將上層的硫酸清液抽出至硫酸蒸發(fā)器進(jìn)行蒸發(fā)濃縮至質(zhì)量百分比濃度為80～85％，沉降下來(lái)的二氧化硅漿料用泵抽到二氧化硅硫酸混合槽，循環(huán)使用；4)將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，冷卻溫度為20～25℃，然后通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英砂制備四氟化硅的方法，其特征在于所述的反應(yīng)溫度為65 70°C。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英砂制備四氟化硅的方法，其特征在于所述的反應(yīng)時(shí)間為100 120分鐘。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種石英砂制備四氟化硅的方法。取其中1000～1100重量份質(zhì)量百分比濃度為96％～98％的硫酸與560～575重量份質(zhì)量百分比濃度為50％～52％的氫氟酸進(jìn)行預(yù)混合吸收，預(yù)混合吸收后氫氟酸的濃度為11～24％，硫酸的濃度為80～85％，得到混合物A；取200～220重量份150～200目的二氧化硅粉末與500～550重量份質(zhì)量百分比濃度為80％～85％的硫酸進(jìn)行預(yù)混合，得到混合物B；將混合物A和混合物B先后加入到反應(yīng)器中，攪拌反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為10～120分鐘，反應(yīng)溫度為60～80℃，得到四氟化硅氣體；將四氟化硅氣體通過(guò)導(dǎo)流管通入冷卻器進(jìn)行冷卻，通過(guò)管道進(jìn)入儲(chǔ)氣罐。本發(fā)明不僅克服了成本高的問(wèn)題，而且做到了反應(yīng)殘液和漿料的重復(fù)利用，對(duì)環(huán)境保護(hù)沒(méi)有影響，能源消耗大大降低。
文檔編號(hào)C01B33/107GK101774587SQ20101010956
公開(kāi)日2010年7月14日 申請(qǐng)日期2010年2月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月11日
發(fā)明者楊建松, 栗廣奉, 耿金春, 陳德偉 申請(qǐng)人:浙江中寧硅業(yè)有限公司