基板滲金屬設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及冶金工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板滲金屬設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著冶金工業(yè)的不斷發(fā)展，將金屬原子滲入到基板表面層的滲金屬技術(shù)得到了較為廣泛的應(yīng)用。相關(guān)技術(shù)中，通過上下分層的爐體進行壓滲，上層金屬融化后，加正壓，并繼續(xù)加熱，直到把金屬塞融化，讓金屬液沿管道流下來，再融化密封材料，金屬液流到模具上面進行壓滲，這樣金屬液從上層流到下層的過程中，融進了金屬塞和密封材料，對金屬液有污染，會直接影響產(chǎn)品的性能，并且金屬熔化和鑄造模具都在爐體里加熱，時間長，效率低。
[0003]在另一些技術(shù)中，在本體上挖出一個大的圓柱通腔，本體上部有與通腔連通的金屬液注口，本體下部有與通腔連通的抽真空口，下沖頭上升到本體上表面，裝上有模具的骨架下降到金屬液注口注金屬液，接著繼續(xù)下到抽真空口，上沖頭同時下壓將金屬液注口封住，抽真空，抽好真空之后，下沖頭上升堵住抽真空口，形成密閉的空間，上沖頭下降給金屬液施加壓力，讓金屬液滲入骨架，這樣注金屬液通道在本體里，難以對其保溫，金屬液易凝固堵住注液通道，而且抽真空時易把金屬液抽進真空通道，嚴重時會堵住真空通道，性能不穩(wěn)定。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明提出一種基板滲金屬設(shè)備，該基板滲金屬設(shè)備不僅效率高，成本低，而且性能可靠，生產(chǎn)的產(chǎn)品性能穩(wěn)定。
[0005]根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備，包括:基座；上板，所述上板設(shè)在所述基座上，所述上板上設(shè)有頂部敞開的容納腔，所述容納腔內(nèi)設(shè)有坩禍和用于對所述坩禍進行加熱的第一加熱裝置，所述坩禍的底壁設(shè)有開口 ；真空壓力倉，所述真空壓力倉設(shè)在所述上板的下表面上，所述真空壓力倉內(nèi)限定出倉室，所述倉室內(nèi)設(shè)有第二加熱裝置，所述倉室與所述容納腔連通；滑蓋驅(qū)動件和用于打開或關(guān)閉所述開口的滑蓋，所述滑蓋驅(qū)動件與所述滑蓋相連以驅(qū)動所述滑蓋水平移動地設(shè)在所述上板內(nèi)；蓋板，所述蓋板設(shè)在所述上板上以封蓋所述容納腔，所述蓋板上設(shè)有進料通道和用于打開或關(guān)閉所述進料通道的進料閥；真空閥和充氣閥，所述真空閥設(shè)在所述蓋板或者所述上板上且與所述容納腔連通，所述充氣閥設(shè)在所述蓋板或者所述上板上且與所述容納腔連通；驅(qū)動器，所述驅(qū)動器設(shè)在所述基座上；移動組件，所述移動組件在第一位置和第二位置之間可上下移動地設(shè)在所述基座上且位于所述真空壓力倉的下方，所述移動組件與所述驅(qū)動器相連以由所述驅(qū)動器驅(qū)動移動；盛放有基板的模組套，所述模組套可拆卸地設(shè)在所述移動組件上，在第一位置，所述模組套位于所述倉室內(nèi)且所述移動組件與所述真空壓力倉接觸以密封所述倉室，在所述第二位置，所述模組套位于所述倉室的下方；模組套設(shè)有承載金屬液的盆口，所述盆口上具有盆口開口。
[0006]根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備，通過將模組套設(shè)在移動組件上，利用驅(qū)動器驅(qū)動移動組件在第一位置和第二位置之間上下移動，并通過滑蓋驅(qū)動件驅(qū)動滑蓋打開或關(guān)閉坩禍底壁上的開口，利用第一加熱裝置和第二加熱裝置分別對坩禍和倉室內(nèi)的模組套加熱，同時，通過進料閥控制蓋板上的進料通道，并利用真空閥和充氣閥對倉室內(nèi)的壓力進行控制，不僅效率高，成本低，而且性能可靠，生產(chǎn)的產(chǎn)品性能穩(wěn)定。
[0007]具體地，所述移動組件包括動板和下封板，所述下封板設(shè)在所述動板的上表面上，所述驅(qū)動器與所述動板相連，在所述第一位置，所述下封板與所述真空壓力倉接觸。
[0008]進一步地，還包括限位柱，所述限位柱設(shè)在所述上板上且位于所述真空壓力倉的外側(cè)，所述限位柱的下端位于所述真空壓力倉的下表面的下方。
[0009]具體地，所述蓋板上設(shè)有抽氣口和充氣口，所述抽氣口和所述充氣口分別與所述容納腔連通，所述真空閥和所述充氣閥分別與所述抽氣口和所述充氣口相連。
[0010]可選地，所述第一加熱裝置為電磁感應(yīng)線圈。
[0011]可選地，所述第二加熱裝置為電磁感應(yīng)線圈。
[0012]優(yōu)選地，所述驅(qū)動器為油壓機。
[0013]可選地，所述基板為IGBT基板。
[0014]優(yōu)選地，所述蓋板上設(shè)有漏斗以限定出所述進料通道。
[0015]具體地，所述坩禍和所述第一加熱裝置分別可拆卸地設(shè)在所述容納腔內(nèi)。
【附圖說明】
[0016]圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備的剖視圖；
[0017]圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備的剖視圖；
[0018]圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備的立體圖；
[0019]圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備的模組套的結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0020]圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備的模組套的盆口的局部示意圖。
[0021]附圖標記:
[0022]100:基板滲金屬設(shè)備；
[0023]1:基座；2:上板；
[0024]21:容納腔；22:坩禍；221:開口 ；23:第一加熱裝置；
[0025]3:真空壓力倉；31:倉室；32:第二加熱裝置；
[0026]4:滑蓋驅(qū)動件；5:滑蓋；
[0027]6:蓋板；61:進料通道；62:進料閥；63:漏斗；
[0028]7:真空閥；71:抽氣口 ；8:充氣閥；81:充氣口 ；9:驅(qū)動器；10:移動組件；11:模組套；12:基板；13:動板；14:下封板；16:限位柱；17:盆口 ；18:盆口開口。
【具體實施方式】
[0029]下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0030]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”、“順時針”、“逆時針”、“軸向”、“徑向”、“周向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0031]此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。在本發(fā)明的描述中，“多個”的含義是至少兩個，例如兩個，三個等，除非另有明確具體的限定。
[0032]在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接或彼此可通訊；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系，除非另有明確的限定。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。
[0033]在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接觸，或第一和第二特征通過中間媒介間接接觸。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0034]下面參考圖1-圖5詳細描述根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備100。
[0035]如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的基板滲金屬設(shè)備100可以包括:基座1、上板2、真空壓力倉3、滑蓋驅(qū)動件4、滑蓋5、蓋板6、真空閥7、充氣閥8、驅(qū)動器9、移動組件10和模組套11。
[0036]具體而言，如圖1和圖2所示，上板2可以設(shè)在基座I上，上板2上可設(shè)有頂部敞開的容納腔21，容納腔21內(nèi)可以設(shè)有坩禍22和用于對坩禍22內(nèi)的金屬加熱的第一加熱