一種復合型ald導氣裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種復合型的ALD導氣裝置，其包括平面臺階（1）和圓弧壁（2）組成的主體結(jié)構(gòu)、導氣孔陣列（3）以及抽氣孔（4）。本發(fā)明通過對反應(yīng)腔體抽氣進行導氣，改善反應(yīng)腔氣流分布，能夠有效提升制備薄膜的均勻性；同時，利用復合結(jié)構(gòu)，大幅度的節(jié)約了空間，在承載了導氣功能的同時，也可作為腔體內(nèi)樣品架的支撐機構(gòu)，實現(xiàn)了功能的復合化。
【專利說明】一種復合型ALD導氣裝置發(fā)明領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種ALD(原子層沉積)系統(tǒng)中，用于反應(yīng)腔體內(nèi)氣體導流的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)ALD的反應(yīng)原理，在現(xiàn)有技術(shù)中，ALD前驅(qū)體經(jīng)管路系統(tǒng)進入反應(yīng)腔體，在有限的時間內(nèi)與腔體內(nèi)基底表面發(fā)生吸附，連續(xù)的兩種不同氣體在基底表面發(fā)生反應(yīng)，從而導致一個原子層的沉積。為了在有限的時間內(nèi)，確保反應(yīng)前驅(qū)體能夠與墻體內(nèi)的基底發(fā)生充分的均勻的吸附，一般都會對反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)以及進氣噴嘴進行設(shè)計，以優(yōu)化腔內(nèi)氣流分布。但是，對于結(jié)構(gòu)較為復雜的反應(yīng)腔體或者尺寸較大的反應(yīng)腔體，僅僅只是對噴嘴或者腔體結(jié)構(gòu)進行有限的設(shè)計，是不夠的，還需要對抽氣部分進行優(yōu)化設(shè)計，才能進一步提升氣流均勻性，提升所制備的薄膜的均勻性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提出一種復合型的ALD導氣裝置，通過對抽氣的氣流分布進行調(diào)節(jié)，能夠有效優(yōu)化反應(yīng)腔體內(nèi)氣流分布，解決腔體內(nèi)因氣流不均導致的制備薄膜不均的現(xiàn)象。
[0004]—種復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其包括平面臺階(I)和圓弧壁(2)組成的主體結(jié)構(gòu)、導氣孔陣列(3)以及抽氣孔(4)。
[0005]其平面臺階(1)，中間部分用于布置導氣孔，兩邊平臺用于腔體內(nèi)安裝樣品架。
[0006]其圓弧壁(2)，其弧度與反應(yīng)腔弧度相同，便于安裝于反應(yīng)腔內(nèi)壁。
[0007]其導氣孔陣列(3)，孔沿著垂直方向貫穿，孔徑為l_3mm，呈矩形均勻分布，孔間距為10mm-50mm，與裝置內(nèi)部以及抽氣孔連通，用于氣體抽氣過程中的導流，優(yōu)化腔體氣流分布。
[0008]其抽氣孔(4)，與真空抽氣管路相連，用于抽氣，直徑為30mm-50mm。
[0009]本發(fā)明提出一種復合型的ALD導氣裝置，其包括平面臺階和圓弧壁組成的主體結(jié)構(gòu)、導氣孔陣列以及抽氣孔。
[0010]所述的平面臺階，中間部分用于布置導氣孔，兩邊平臺用于腔體內(nèi)安裝樣品架； 所述的圓弧壁，其弧度與反應(yīng)腔弧度相同，便于安裝于反應(yīng)腔內(nèi)壁；
所述的導氣孔陣列，孔沿著垂直方向貫穿，呈矩形均勻分布，與裝置內(nèi)部以及抽氣孔連通，用于氣體抽氣過程中的導流，優(yōu)化腔體氣流分布；
所述的抽氣孔，與真空抽氣管路相連，用于抽氣。
[0011]本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
1、本發(fā)明通過對反應(yīng)腔體抽氣進行導氣，改善反應(yīng)腔氣流分布，能夠有效提升制備薄膜的均勻性；
2、本發(fā)明，利用復合結(jié)構(gòu)，大幅度的節(jié)約了空間，在承載了導氣功能的同時，也可作為腔體內(nèi)樣品架的支撐機構(gòu)，實現(xiàn)了功能的復合化。
【附圖說明】
[0012]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作出詳細的說明，其中:
圖1為本發(fā)明較佳實施例的剖視圖；
圖2位本發(fā)明較佳實施例的俯視圖。
【具體實施方式】
[0013]如圖1、與2所示，為本發(fā)明較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，所述的一種復合型的ALD導氣裝置，其包括平面臺階(I)和圓弧壁(2)組成的主體結(jié)構(gòu)、導氣孔陣列(3)以及抽氣孔(4)。平面臺階(I)，中間部分用于布置導氣孔，兩邊平臺用于腔體內(nèi)安裝樣品架；圓弧壁(2)，其弧度與反應(yīng)腔弧度相同，便于安裝于反應(yīng)腔內(nèi)壁;導氣孔陣列(3)，孔沿著垂直方向貫穿，孔徑為l-3mm，呈矩形均勻分布，孔間距為1mm?50mm，與裝置內(nèi)部以及抽氣孔連通，用于氣體抽氣過程中的導流，優(yōu)化腔體氣流分布;抽氣孔(4)，與真空抽氣管路相連，用于抽氣，直徑為30mm?50mm。本實施例中，導氣孔陣列(3)，孔徑為2mm，孔間距為25mm;抽氣孔(4)，直徑為40mm。根據(jù)需要，孔徑還可以取1_，3_，孔間距可以為I Omm，20mm，30mm，40mm或者50mm。
【主權(quán)項】
1.一種復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其包括平面臺階(I)和圓弧壁(2)組成的主體結(jié)構(gòu)、導氣孔陣列(3)以及抽氣孔(4)。2.如權(quán)利要求1所述的復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其平面臺階(1)，中間部分用于布置導氣孔，兩邊平臺用于腔體內(nèi)安裝樣品架。3.如權(quán)利要求1所述的復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其圓弧壁(2)，其弧度與反應(yīng)腔弧度相同，便于安裝于反應(yīng)腔內(nèi)壁。4.如權(quán)利要求1所述的復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其導氣孔陣列(3)，孔沿著垂直方向貫穿，孔徑為l-3mm，呈矩形均勾分布，孔間距為10mm-50mm，與裝置內(nèi)部以及抽氣孔連通，用于氣體抽氣過程中的導流，優(yōu)化腔體氣流分布。5.如權(quán)利要求1所述的復合型的ALD導氣裝置，其特征在于，其抽氣孔(4)，與真空抽氣管路相連，用于抽氣，直徑為30mm-50mm。
【文檔編號】C23C16/455GK105925959SQ201610314085
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年5月13日
【發(fā)明人】何丹農(nóng), 尹桂林, 金彩虹
【申請人】上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心有限公司