氣流磨粉碎機(jī)及氣流粉碎的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種氣流磨粉碎機(jī)和氣流粉碎的方法，該氣流磨粉碎機(jī)包括設(shè)置有分級(jí)處和側(cè)噴嘴的粉碎室，該氣流磨粉碎機(jī)設(shè)置有位于不同高度的至少兩組側(cè)噴嘴，所述每組側(cè)噴嘴噴出的氣流在氣流交匯處碰撞，且所述每組側(cè)噴嘴包括至少2個(gè)的側(cè)噴嘴，以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在所述粉碎室的側(cè)壁上。該氣流磨粉碎機(jī)和氣流粉碎的方法可提高氣流粉碎效率。
【專利說明】
氣流磨粉碎機(jī)及氣流粉碎的方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及粉碎機(jī)，特別是涉及一種氣流磨粉碎機(jī)及氣流粉碎的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 最近的沖擊式氣流磨采用在氣流噴口前方設(shè)置氣流碰撞板，使高速氣流攜帶的粗 粉撞向碰撞板，從而實(shí)現(xiàn)粗粉的破碎，獲得微粉。但是，這種氣流磨所獲得的Nd-Fe-B系微粉 常帶有尖銳的邊緣，磁鐵的方形度和充磁性能特別容易變差。而方形度變差會(huì)使熱減磁變 大，就算是同樣矯頑力的磁鐵，在高溫下，熱減磁會(huì)從比較低的溫度開始，這樣的話，電機(jī)會(huì) 無法使用，產(chǎn)生不良。
[0003] 為獲得不帶尖銳邊角、比較圓潤的粉末，Nd-Fe-B系燒結(jié)磁鐵的生產(chǎn)設(shè)備使用如圖 1中所示的氣流磨粉碎機(jī)，其核心部件是分級(jí)器、粉碎室，所述粉碎室設(shè)置有側(cè)噴嘴和底噴 嘴，從側(cè)噴嘴和底噴嘴噴入的高速氣流在氣流交匯處發(fā)生對(duì)撞時(shí)，在對(duì)撞區(qū)形成粉體高濃 度區(qū)，隨后由于對(duì)撞產(chǎn)生的劇烈擾動(dòng)使粉體在腔體內(nèi)分散開來，并隨回轉(zhuǎn)氣流運(yùn)動(dòng)，粒徑較 小的粉末被帶到分級(jí)器附近處，符合粒徑的細(xì)粉被篩選出，送入出料組件。送出的細(xì)粉進(jìn)入 旋風(fēng)分離器分離超細(xì)粉，收集合格粉末，設(shè)定粒度以上的粗粉則返回粉碎區(qū)繼續(xù)粉碎。旋風(fēng) 分離器分離的超細(xì)粉隨氣流經(jīng)收塵器過濾收集，凈化后的氣流則重新加壓，回收使用。在實(shí) 際應(yīng)用中，這種粗粉破碎方式可以獲得邊緣$父為圓潤的Nd-Fe-B系微粉，并在Nd-Fe-B系微 粉的制作工序中得以大量應(yīng)用。
[0004] 為提高分選效率，現(xiàn)有氣流磨粉碎機(jī)中，上述氣流交匯處至分級(jí)器之間的距離較 近，一般是粉碎室的直徑1~2.5倍。但現(xiàn)有氣流磨粉碎機(jī)的粉碎效率仍然維持在一較低水 平，氣流粉碎過程需耗時(shí)3~4小時(shí)。
[0005] 對(duì)于制備Nd-Fe-B系微粉的工序而言，這種氣流對(duì)撞來實(shí)現(xiàn)破碎粗粉的方式相對(duì) 于氣流撞向碰撞板破碎粗粉的方式來說，可獲得邊緣更為圓潤的粉末，因此，在氣流對(duì)撞來 實(shí)現(xiàn)氣流粉碎這一方向進(jìn)行技術(shù)改進(jìn)，是非常迫切而又具有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值的。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種可提高氣流粉碎效率的新型氣 流磨粉碎機(jī)。
[0007] 本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：
[0008] -種氣流磨粉碎機(jī)，包括設(shè)置有分級(jí)處和側(cè)噴嘴的粉碎室，所述粉碎室設(shè)置有位 于不同高度的至少兩組側(cè)噴嘴，所述各組側(cè)噴嘴噴出的氣流在氣流交匯處碰撞，且所述各 組側(cè)噴嘴包括至少2個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在所述粉碎室的側(cè)壁上。
[0009]如此，在氣流粉碎過程中，位于最下方側(cè)噴嘴噴出的氣流對(duì)撞(一級(jí)粉碎），粉碎后 的粉末隨上升氣流一起向上運(yùn)動(dòng)至粉碎室上部的一定高度，上升氣流與上一級(jí)側(cè)噴嘴噴出 的氣流對(duì)撞(二級(jí)粉碎），高效粉碎上方回落的粗顆粒(統(tǒng)稱為失重粗顆粒)和一級(jí)粉碎后的 上升氣流中攜帶的粗顆粒，二級(jí)粉碎后的上升氣流繼續(xù)運(yùn)動(dòng)到上部的分級(jí)處，設(shè)定粒度以 下的細(xì)粉通過分級(jí)處，獲得成品粉。設(shè)定粒度以上的粗顆粒(統(tǒng)稱為離心粗顆粒)在離心力 作用下被拋向筒壁附近，回落到粉碎室下部。
[0010] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室還包括底噴嘴，所述底噴嘴噴出的氣流與所述 各組側(cè)噴嘴噴出的氣流在相應(yīng)的所述氣流交匯處碰撞。
[0011] 在推薦的實(shí)施方式中，各所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的下沿之垂直距離 為所述粉碎室直徑的3~15倍。
[0012] 在加長氣流交匯處的中心至分級(jí)處的距離之后，失重粗顆粒的數(shù)量增加，隨之粗 顆粒對(duì)分級(jí)處的干擾減小，離心粗顆粒的數(shù)量減少，從而銳化通過分級(jí)處粉體的粒度分布 曲線。同時(shí)，失重粗顆?；亓髦翚饬鹘粎R處的時(shí)間增加，氣流交匯處的堆積粉末減少，對(duì)撞 擊活動(dòng)帶來的影響同時(shí)減小，實(shí)現(xiàn)高效破碎，部分抵消由于氣流交匯處的中心至所述分級(jí) 處的垂直距離增加而帶來的粉碎效率降低問題。另外，由于粉末運(yùn)動(dòng)距離增加，在運(yùn)動(dòng)過程 中會(huì)不斷與其他粉末發(fā)生碰撞，因此，獲得的成品粉更為圓潤，所制得燒結(jié)磁鐵的各項(xiàng)磁性 能數(shù)據(jù)均有所提升。
[0013] 在推薦的實(shí)施方式中，上一級(jí)氣流交匯處的中心位于下一級(jí)氣流交匯處的中心至 所述分級(jí)處下沿的下1/3段垂直距離之內(nèi)。
[0014] 在推薦的實(shí)施方式中，上一級(jí)側(cè)噴嘴的壓力和直徑小于等于下一級(jí)側(cè)噴嘴的壓力 和直徑。
[0015] 在推薦的實(shí)施方式中，各所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處下沿的垂直距離優(yōu) 選為所述粉碎室直徑的6~12倍。
[0016] 在推薦的實(shí)施方式中，所述側(cè)噴嘴均設(shè)置斜向下的出口，所述出口的傾角為15°~ 75。。
[0017] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室直徑為80mm~1000mm。
[0018] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室的直徑為所述底噴嘴直徑的20~35倍，以及所 述粉碎室直徑為位于最下方的所述側(cè)噴嘴直徑的25~50倍。如上所述，由于氣流交匯處的 堆積粉末減少，堆積粉末對(duì)氣流交匯處的撞擊活動(dòng)所帶來的干擾減小，由此，即使在底噴嘴 直徑或者側(cè)噴嘴直徑增加，從而導(dǎo)致底噴嘴壓力和側(cè)噴嘴壓力減小的情況下，也能高效地 實(shí)現(xiàn)粉末破碎。此外，在增大底噴嘴和側(cè)噴嘴直徑之后，氣流交匯處的撞擊面增加，同樣可 以提高粉碎效率。
[0019] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室包括位于上部的圓筒和位于下部的倒置圓錐 筒，所述分級(jí)處位于所述圓筒內(nèi)，所述氣流交匯處位于所述倒置圓錐筒內(nèi)或靠近所述倒置 圓錐筒處。
[0020] 在推薦的實(shí)施方式中，所述底噴嘴的進(jìn)氣管上設(shè)置減壓閥。
[0021 ]本發(fā)明的另一目的在于提供一種使用氣流磨粉碎機(jī)進(jìn)行粉碎的方法。
[0022] -種氣流粉碎的方法，其特征在于，其使用上述的氣流磨粉碎機(jī)，所述氣流粉碎的 物料為Nd-Fe-B系粉末。
[0023] 在推薦的實(shí)施方式中，所述Nd-Fe-B系粉末為Nd-Fe-B系急冷合金經(jīng)過氫破碎處理 后獲得的Nd-Fe-B系粉末。
[0024]在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室的壓力為0· 13MPa~0.5MPa，且小于底噴嘴壓力 和側(cè)噴嘴壓力。由于氣流交匯處的中心至分級(jí)處的垂直距離增加，因此，既使在提高側(cè)噴嘴 和底噴嘴噴出的氣流壓力的情況下，對(duì)撞后未充分破碎的大顆粒也不會(huì)經(jīng)由對(duì)撞的力量直 接撞到分級(jí)處，使成品粉中混入大顆粒。
[0025] 本發(fā)明中涉及的所有數(shù)值范圍包括這一范圍內(nèi)的所有點(diǎn)值。
【附圖說明】
[0026] 圖1為現(xiàn)有氣流磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027] 圖2為各實(shí)施例使用的氣流磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028] 圖3為實(shí)施例二的對(duì)比例1的粉末粒度分布圖。
[0029] 圖4為實(shí)施例二的實(shí)施例2的粉末粒度分布圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030] 以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0031] 實(shí)施例一
[0032] 本發(fā)明以Nd-Fe-B系稀土合金磁性粉末為例，來說明氣流粉碎粉末的制作過程和 評(píng)價(jià)過程。
[0033] 原料配制工序:準(zhǔn)備純度99.5%的Nd、工業(yè)用Fe-B、工業(yè)用純Fe、純度99.9%的A1、 純度99.5 %的Cu、純度99.5 %的Co，各成分的重量比符合表1中所示：
[0034]表1各成分的重量配比
[0035]
[0036]根據(jù)表1的配制組成，分別稱量、配制了共計(jì)80Kg的原料。
[0037]熔煉工序:配制后的原料放入氧化鋁制的坩堝中，使用中頻真空感應(yīng)熔煉爐，在 10一2Pa真空中真空熔煉至1500 °C。
[0038]鑄造工序:在真空熔煉后的熔煉爐中通入Ar氣至0.05MPa后，使用單輥急冷法進(jìn)行 鑄造，獲得急冷合金。
[0039] 氫破粉碎工序:在室溫下將放置急冷合金的密封粉碎室抽真空，而后向粉碎室內(nèi) 通入純度為99.5 %的氫氣至壓力為0.1 MPa，充分吸氫后，邊升溫邊抽真空，在500°C的溫度 下抽真空，充分脫氫;之后進(jìn)行冷卻，取出氫破粉碎后的試料，均分成8份。
[0040] 微粉碎工序:微粉碎工序所使用的制粉裝置如圖2中所示，其包括粉碎室1、旋風(fēng)分 離器和壓縮機(jī)(圖中未示），粉碎室1包括位于上部的圓筒11和位于下部的倒置圓錐筒12,圓 筒11內(nèi)設(shè)有位于上部的進(jìn)料口 111、氣流出口 112和位于不同高度的兩組側(cè)噴嘴，每組側(cè)噴 嘴具有各4個(gè)側(cè)噴嘴113，各側(cè)噴嘴113以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在粉碎室1的側(cè)壁上，倒置圓 錐筒底部則設(shè)置底噴嘴121。粉碎室1的各側(cè)噴嘴113和底噴嘴121由壓縮機(jī)的出氣口供氣。 下組側(cè)噴嘴與底噴嘴121在下氣流交匯處31處發(fā)生碰撞，上組側(cè)噴嘴與底噴嘴121在上氣流 交匯處32處發(fā)生碰撞，氣流出口 112處設(shè)置分選輪2，分選輪2位于下氣流交匯處31、上氣流 交匯處32的正上方。
[0041 ]兩組側(cè)噴嘴的壓力和直徑相同，各側(cè)噴嘴113與水平面的夾角為75°。
[0042] 粉碎室1的直徑為300mm。
[0043] 上氣流交匯處32的中心設(shè)置在下氣流交匯處31的中心至分選輪2下沿的垂直距離 的0~下2/5處，下氣流交匯處31的中心至分選輪2下沿的垂直距離為粉碎室直徑的4.5倍。
[0044] 之后通過旋風(fēng)分離器和/或過濾器連通壓縮機(jī)的進(jìn)氣口（以上結(jié)構(gòu)圖中未示）。
[0045] 將各份氫破粉碎后的試料各自從進(jìn)料口 111放入粉碎室1內(nèi)，壓縮機(jī)工作時(shí)氧含量 〈lOOppm、露點(diǎn)為-38°C(常溫，0.4MPa)、氮?dú)鈿饬鲝膫?cè)噴嘴113(上側(cè)噴嘴與下側(cè)噴嘴的壓力 相同，均為〇 · 4MPa)和底噴嘴121 (壓力為0 · 2MPa)進(jìn)入粉碎室1，在粉碎室壓力為0 · 15MPa的 條件下對(duì)試料進(jìn)行氣流粉碎。由下一組側(cè)噴嘴113噴出的氣流與底噴嘴121噴出的氣流在氣 流交匯處31碰撞(一次碰撞），不能被上升氣流帶動(dòng)到分選輪2附近的粗粉粒在重力的作用 下，回落到粉碎室下部(這一部分粗顆粒簡稱為失重粗顆粒），這部分失重粗顆粒被一次碰 撞后的上升氣流與上一組側(cè)噴嘴113噴出的氣流在氣流交匯處32碰撞(二次碰撞），進(jìn)行二 次粉碎后，被上升氣流帶動(dòng)的細(xì)粉粒隨氣流一起運(yùn)動(dòng)到上部的氣流出口 112處設(shè)置的分選 輪2,在分選輪2所產(chǎn)生的流場內(nèi)，細(xì)粉中的粗顆粒在離心力作用下被拋向筒壁附近(這一部 分粗顆粒簡稱為離心粗顆粒），離心粗顆粒回落到粉碎室下部，符合要求的細(xì)顆粒則通過分 選輪2進(jìn)入旋風(fēng)分離器。
[0046] 制粉裝置的工作時(shí)間為2小時(shí)。
[0047] 用馬爾文激光粒度測試儀檢測各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0048]對(duì)比例1與實(shí)施例2的檢測結(jié)果依次如圖3和圖4中所示。
[0049] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0050] 在粉碎后的粉末中添加作為成形劑使用的辛酸甲酯，其添加量為稀土合金磁性粉 末的重量〇. 1 %，再用V型混料機(jī)充分混合。
[0051] 磁場中成形工序:使用直角取向型的磁場成型機(jī)，在1.2T的取向磁場中，將上述添 加了成形助劑的粉末成形成邊長為40mm的立方體，成形后在0.2T的磁場中退磁。
[0052]燒結(jié)工序：各成形體搬運(yùn)至燒結(jié)爐進(jìn)行燒結(jié)，燒結(jié)在H^Pa的真空下，在200°C和 800°C的溫度下各保持2小時(shí)后，以1020°C的溫度燒結(jié)，之后通入Ar氣體至0.1 MPa后，冷卻至 室溫。
[0053] 熱處理工序:燒結(jié)體在高純度Ar氣中，以560°C溫度進(jìn)行1小時(shí)熱處理后，冷卻至室 溫后取出。
[0054]磁性能評(píng)價(jià)工序:燒結(jié)磁鐵使用中國計(jì)量院的N頂-10000H大塊稀土永磁無損檢測 系統(tǒng)進(jìn)行磁性能檢測，測定溫度為20°C。
[0055] 最低飽和磁化場強(qiáng)度測試：當(dāng)充磁電壓繼續(xù)增加，使磁化場強(qiáng)度由某一值增加 50 %時(shí)，測得試樣的(BH)max或Hcb增加量不超過1 %，此磁場值就被認(rèn)為是最低飽和磁化場 強(qiáng)度。
[0056] 表2為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0057] 表2實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0058]
[0059] m為下氣流交匯處的中心至上氣流交匯處的中心與下氣流交匯處的中心至分選輪 2下沿的垂直距離的比值。
[0060] 表2中的充磁電壓為達(dá)到最低飽和磁化場強(qiáng)度的充磁電壓。
[0061] 在下氣流交匯處31的中心至上氣流交匯處32的中心與下氣流交匯處31的中心至 分選輪2下沿的垂直距離的比值小于1/7時(shí)，上氣流交匯處32的中心與下氣流交匯處31的中 心的距離過近，上氣流交匯處32位于粉末(包括粗顆粒和細(xì)顆粒）的混合處，并不能對(duì)粗顆 粒進(jìn)行較為精準(zhǔn)的破碎，對(duì)氣流磨的破碎效果提升有限，獲得粉末的邊角較為尖銳(尖銳的 部位反磁場系數(shù)高，退磁因子N大），導(dǎo)致所制得燒結(jié)磁鐵達(dá)到最低飽和磁化場強(qiáng)度的充磁 電壓高。
[0062] 而在下氣流交匯處31的中心至上氣流交匯處32的中心與下氣流交匯處31的中心 至分選輪2下沿的垂直距離的比值大于1/3時(shí)，上氣流交匯處32也不能對(duì)粗顆粒進(jìn)行較為精 準(zhǔn)的破碎，對(duì)氣流磨的破碎效果提升有限。
[0063]另外，上氣流交匯處32的中心至分選輪2下沿的垂直距離小于粉碎室1直徑的3倍 之時(shí)，對(duì)撞后未充分破碎的大顆粒經(jīng)由上氣流交匯處32對(duì)撞的力量直接撞到分選輪2處，使 成品粉中混入大顆粒，導(dǎo)致磁鐵性能急劇下降。
[0064] 實(shí)施例二
[0065]本發(fā)明以Nd-Fe-B系稀土合金磁性粉末為例，來說明氣流粉碎粉末的制作過程和 評(píng)價(jià)過程。
[0066] 原料配制工序:準(zhǔn)備純度99.5%的Nd、工業(yè)用Fe-B、工業(yè)用純Fe、純度99.9%的A1、 純度99.5 %的Cu、純度99.5 %的Co、和ZrFe合金，各成分的重量比符合表3中所示：
[0067]表3各成分的重量配比 [0068]
[0069]根據(jù)表3的配制組成，分別稱量、配制了共計(jì)80Kg的原料。
[0070]熔煉工序:配制后的原料放入氧化鋁制的坩堝中，使用中頻真空感應(yīng)熔煉爐，在 10 一2Pa真空中真空熔煉。
[0071]鑄造工序:在真空熔煉后的熔煉爐中通入Ar氣至0.08MPa后，使用單輥急冷法進(jìn)行 鑄造，獲得急冷合金。
[0072] 氫破粉碎工序:在室溫下將放置急冷合金的密封粉碎室抽真空，而后向粉碎室內(nèi) 通入純度為99.5 %的氫氣至壓力為0.1 MPa，充分吸氫后，邊升溫邊抽真空，在500°C的溫度 下抽真空，充分脫氫;之后進(jìn)行冷卻，取出氫破粉碎后的試料，均分成8份。
[0073] 微粉碎工序:微粉碎工序所使用的制粉裝置如圖2中所示，其包括粉碎室1、旋風(fēng)分 離器和壓縮機(jī)(圖中未示），粉碎室1包括位于上部的圓筒11和位于下部的倒置圓錐筒12,圓 筒11內(nèi)設(shè)有位于上部的進(jìn)料口 111、氣流出口 112和位于不同高度的兩組側(cè)噴嘴，每組側(cè)噴 嘴具有各2個(gè)側(cè)噴嘴113，各側(cè)噴嘴113以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在粉碎室1的側(cè)壁上，倒置圓 錐筒底部則設(shè)置底噴嘴121。粉碎室1的各側(cè)噴嘴113和底噴嘴121由壓縮機(jī)的出氣口供氣。 下組側(cè)噴嘴113與底噴嘴121在下氣流交匯處31處發(fā)生碰撞，上組側(cè)噴嘴113與底噴嘴121在 上氣流交匯處32處發(fā)生碰撞，氣流出口 112處設(shè)置分選輪2,分選輪2位于下氣流交匯處31、 上氣流交匯處32的正上方。
[0074] 兩組側(cè)噴嘴的壓力和直徑相同，各側(cè)噴嘴113與水平面的夾角為15°。
[0075] 粉碎室1的直徑為100mm。上氣流交匯處32的中心設(shè)置在氣流交匯處31的中心至分 選輪2下沿的垂直距離的1/4處，下氣流交匯處31的中心至分選輪2下沿的垂直距離為粉碎 室直徑的3~18倍。
[0076] 之后通過旋風(fēng)分離器和/或過濾器連通壓縮機(jī)的進(jìn)氣口（以上結(jié)構(gòu)圖中未示）。
[0077] 將各份氫破粉碎后的試料各自從進(jìn)料口 111放入粉碎室1內(nèi)，壓縮機(jī)工作時(shí)氧含量 〈lOOppm、露點(diǎn)為-38°C(常溫，0.5MPa)、氮?dú)鈿饬鲝膫?cè)噴嘴113(上側(cè)噴嘴與下側(cè)噴嘴的壓力 相同，均為〇 · 5MPa)和底噴嘴121 (壓力為0 · 4MPa)進(jìn)入粉碎室1，在粉碎室壓力為0 · 36MPa的 條件下對(duì)試料進(jìn)行氣流粉碎。由下一組側(cè)噴嘴113噴出的氣流與底噴嘴121噴出的氣流在氣 流交匯處31碰撞(一次碰撞），不能被上升氣流帶動(dòng)到分選輪2附近的粗粉粒在重力的作用 下，回落到粉碎室下部(這一部分粗顆粒簡稱為失重粗顆粒），這部分失重粗顆粒被一次碰 撞后的上升氣流與上一組側(cè)噴嘴113噴出的氣流在氣流交匯處32碰撞(二次碰撞），進(jìn)行二 次粉碎后，被上升氣流帶動(dòng)的細(xì)粉粒隨氣流一起運(yùn)動(dòng)到上部的氣流出口 112處設(shè)置的分選 輪2,在分選輪所產(chǎn)生的流場內(nèi)，細(xì)粉中的粗顆粒在離心力作用下被拋向筒壁附近(這一部 分粗顆粒簡稱為離心粗顆粒），離心粗顆粒回落到粉碎室下部，符合要求的細(xì)顆粒則通過分 選輪2進(jìn)入旋風(fēng)分離器。
[0078]制粉裝置的工作時(shí)間為2小時(shí)。
[0079 ]用馬爾文激光粒度測試儀檢測各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0080] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0081] 在粉碎后的粉末中添加作為成形劑使用的辛酸甲酯，其添加量為稀土合金磁性粉 末的重量〇. 15%，再用V型混料機(jī)充分混合。
[0082] 磁場中成形工序:使用直角取向型的磁場成型機(jī)，在1.2T的取向磁場中，將上述添 加了成形助劑的粉末成形成邊長為40mm的立方體，成形后在0.2T的磁場中退磁。
[0083]燒結(jié)工序：各成形體搬運(yùn)至燒結(jié)爐進(jìn)行燒結(jié)，燒結(jié)在l(T2Pa的真空下，在300°C和 700 °C的溫度下各保持2小時(shí)后，以1020 °C的溫度燒結(jié)，之后通入Ar氣體至0.09MPa后，冷卻 至室溫。
[0084] 熱處理工序:燒結(jié)體在Ar氣氣氛中，以500°C溫度進(jìn)行1小時(shí)熱處理后，冷卻至室溫 后取出。
[0085]磁性能評(píng)價(jià)工序:燒結(jié)磁鐵使用中國計(jì)量院的N頂-10000H大塊稀土永磁無損檢測 系統(tǒng)進(jìn)行磁性能檢測，測定溫度為20°C。
[0086] 最低飽和磁化場強(qiáng)度測試：當(dāng)充磁電壓繼續(xù)增加，使磁化場強(qiáng)度由某一值增加 50 %時(shí)，測得試樣的(BH)max或Hcb增加量不超過1 %，此磁場值就被認(rèn)為是最低飽和磁化場 強(qiáng)度。
[0087] 表4為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0088] 表4實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0089]
[0090]
[0091] 表4中的η為下氣流交匯處31的中心至分選輪2下沿的垂直距離為粉碎室1直徑的 倍數(shù)。
[0092] 表4中的充磁電壓為達(dá)到最低飽和磁化場強(qiáng)度的充磁電壓。
[0093] 在上氣流交匯處32的中心至分選輪2下沿的垂直距離小于粉碎室1直徑的3倍之 時(shí)，對(duì)撞后未充分破碎的大顆粒經(jīng)由上氣流交匯處32對(duì)撞的力量直接撞到分選輪2處，使成 品粉中混入大顆粒，導(dǎo)致磁鐵性能急劇下降。且獲得粉末的邊角較為尖銳，其所制得燒結(jié)磁 鐵達(dá)到最低飽和磁化場強(qiáng)度的充磁電壓高。
[0094] 在下氣流交匯處31的中心至分選輪2下沿的垂直距離大于粉碎室1直徑的15倍之 時(shí)，由于下氣流交匯處31的中心、上氣流交匯處32的中心離分選輪2的距離過遠(yuǎn)，導(dǎo)致粉碎 效率急劇下降。
[0095]上述實(shí)施例僅用來進(jìn)一步說明本發(fā)明的幾種具體的實(shí)施例，但本發(fā)明并不局限于 實(shí)施例，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾， 均落入本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種氣流磨粉碎機(jī)，包括設(shè)置有分級(jí)處和側(cè)噴嘴的粉碎室，其特征在于:所述粉碎室 設(shè)置有位于不同高度的至少兩組側(cè)噴嘴，所述各組側(cè)噴嘴噴出的氣流在氣流交匯處碰撞， 且所述各組側(cè)噴嘴包括至少2個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在所述粉碎室的側(cè)壁 上。2. 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于：所述粉碎室還包括底噴 嘴，所述底噴嘴噴出的氣流與所述各組側(cè)噴嘴噴出的氣流在相應(yīng)的所述氣流交匯處碰撞。3. 根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:各所述氣流交匯處的中心 至所述分級(jí)處的下沿之垂直距離為所述粉碎室直徑的3~15倍。4. 根據(jù)權(quán)利要求3中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:上一級(jí)氣流交匯處的中心 位于下一級(jí)氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處下沿的下1/3段垂直距離之內(nèi)。5. 根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:上一級(jí)側(cè)噴嘴的壓力和直 徑小于等于下一級(jí)側(cè)噴嘴的壓力和直徑。6. 根據(jù)權(quán)利要求5中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:各所述氣流交匯處的中心 至所述分級(jí)處下沿的垂直距離為所述粉碎室直徑的6~12倍。7. 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4或5或6中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述側(cè) 噴嘴均設(shè)置斜向下的出口，所述出口的傾角為15°~75°。8. -種氣流粉碎的方法，其特征在于，其使用權(quán)利要求1、2、3、4、5或6的所述氣流磨粉 碎機(jī)，所述氣流粉碎的物料為Nd-Fe-B系粉末。9. 根據(jù)權(quán)利要求8中所述的一種氣流粉碎的方法，其特征在于:所述Nd-Fe-B系粉末為 Nd-Fe-B系急冷合金經(jīng)過氫破碎處理后獲得的Nd-Fe-B系粉末。
【文檔編號(hào)】B22F9/04GK105855556SQ201610201559
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年4月1日
【發(fā)明人】永田浩, 劉煒燁
【申請(qǐng)人】廈門鎢業(yè)股份有限公司