金屬板、金屬板的制造方法、和使用金屬板制造掩模的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及通過形成2個以上貫通孔而用于制造掩模的金屬板。本發(fā)明還涉及金屬板的制造方法。此外，本發(fā)明還涉及使用金屬板來制造形成有2個以上貫通孔的掩模的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，對于智能手機和平板電腦等可攜帶器件中使用的顯示裝置，要求高精細、例如像素密度為300ppi以上。另外，可攜帶器件中，在對應(yīng)全高清上的需要正在提高，這種情況下，顯示裝置的像素密度要求為例如450ppi以上。
[0003]由于響應(yīng)性好、耗電低，有機EL顯示裝置受到矚目。作為有機EL顯示裝置的像素形成方法，已知的方法是，使用包含以所期望的圖案排列的貫通孔的蒸鍍掩模，以所期望的圖案形成像素。具體地說，首先，使蒸鍍掩模密合于有機EL顯示裝置用的基板，接著，將密合的蒸鍍掩模和基板一同投入蒸鍍裝置，進行有機材料等的蒸鍍。蒸鍍掩模一般如下制造得到:通過利用了照相平版印刷技術(shù)的蝕刻而在金屬板上形成貫通孔，從而制造上述蒸鍍掩膜(例如專利文獻I)。例如，首先，在金屬板上形成抗蝕劑膜，接著在使曝光掩模密合于抗蝕劑膜的狀態(tài)下將抗蝕劑膜曝光以形成抗蝕劑圖案，其后，對金屬板中的未被抗蝕劑圖案覆蓋的區(qū)域進行蝕刻，從而形成貫通孔。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻I:日本特開2004-39319號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]使用蒸鍍掩模在基板上進行蒸鍍材料的成膜的情況下，不僅基板，蒸鍍掩模也附著有蒸鍍材料。例如，蒸鍍材料中也存在沿著相對于蒸鍍掩模的法線方向大幅傾斜的方向而飛向基板的蒸鍍材料，這樣的蒸鍍材料在到達基板前會到達蒸鍍掩模的貫通孔的壁面從而附著。這種情況下，可以認為，蒸鍍材料難以附著在基板中的位于蒸鍍掩模的貫通孔的壁面附近的區(qū)域，其結(jié)果，附著的蒸鍍材料的厚度比其他部分小、或者產(chǎn)生未附著蒸鍍材料的部分。即，可以認為，蒸鍍掩模的貫通孔的壁面附近的蒸鍍不穩(wěn)定。因此，在為了形成有機EL顯示裝置的像素而使用蒸鍍掩模的情況下，像素的尺寸精度和位置精度降低，其結(jié)果，導(dǎo)致有機EL顯示裝置的發(fā)光效率降低。
[0008]為了解決這樣的問題，考慮將用于制造蒸鍍掩模的金屬板的厚度減薄。這是因為，通過減小金屬板的厚度，可使蒸鍍掩模的貫通孔的壁面的高度變小，由此，可降低蒸鍍材料中的附著于貫通孔壁面上的蒸鍍材料的比例。但是，為了得到厚度小的金屬板，在乳制母材來制造金屬板時需要加大乳制率。在此，乳制率是指利用(母材的厚度-金屬板)/(母材的厚度)算出的值。乳制后實施了退火等熱處理的情況下，通常乳制率越大，基于乳制的變形的不均勻程度也越大。例如，根據(jù)寬度方向(與母材的傳送方向正交的方向)的位置，金屬板的延伸率不同，其結(jié)果，金屬板出現(xiàn)起伏形狀，這是眾所周知的。具體地說，可以舉出:在寬度方向的端部的起伏形狀，其被稱為波浪邊;在寬度方向的中央部的起伏形狀，其被稱為中間波紋。若出現(xiàn)這樣的起伏形狀，在以卷對卷傳送金屬板時，施加到金屬板的拉伸應(yīng)力在寬度方向變得不均勻，其結(jié)果認為，容易發(fā)生傳送不良。若發(fā)生傳送不良，則由金屬板制造蒸鍍掩模的工序的效率降低，或者蒸鍍掩模的成品率會降低。這種課題是在現(xiàn)有技術(shù)、例如上述專利文獻I中未曾認識到的。
[0009]另外，作為表示板材中產(chǎn)生的上述起伏形狀的程度的指標，已知有陡峭度。陡峭度是指板材的起伏形狀的高度相對于起伏形狀的周期的百分比。例如在日本特開平7-227620號公報中，為了抑制半蝕刻時的翹曲，提出了使乳制材的陡峭度為1%以下。另外在日本特開平11-57812號公報中，采用陡峭度作為表示板材的平坦度的指標，在陡峭度超過1.5%的情況下，提出了在延伸率為1.0%以內(nèi)的條件下實施整平通板。另外在日本特開2003-286527號公報中提出了下述方案:基于陡峭度為0.5%這一指標，篩選具有足夠平坦的形狀的銅或銅合金作為引線框材料。但是，這些文獻中并未公開在板材的寬度方向的各位置對陡峭度進行評價的思想。因此，可以認為，通過這些文獻中提出的與陡峭度有關(guān)的方法，無法充分抑制板材的傳送中所產(chǎn)生的傳送不良。需要說明的是，這些文獻沒有涉及蒸鍍掩模等掩模，并且沒有涉及通常作為構(gòu)成蒸鍍掩模的材料所使用的因瓦合金材料。
[0010]本發(fā)明是考慮到這種課題而進行的，其目的在于提供用于制造蒸鍍掩模等掩模的金屬板，該金屬板能夠穩(wěn)定地進行傳送。并且，本發(fā)明的目的在于提供金屬板的制造方法和掩模的制造方法。
[0011]本發(fā)明涉及一種金屬板的制造方法，其為通過形成2個以上的貫通孔而用于制造掩模的金屬板的制造方法，其中，
[0012]所述掩模的所述貫通孔是通過對所傳送的長條狀的所述金屬板進行蝕刻而形成的，
[0013]所述金屬板的制造方法具備下述工序:
[0014]乳制工序，在該工序中，對母材進行乳制而得到所述金屬板;和
[0015]切斷工序，在該工序中，以預(yù)定范圍切掉所述金屬板的寬度方向的一端和另一端，
[0016]所述切斷工序后的所述金屬板至少局部具有起伏形狀，該起伏形狀起因于該金屬板的長度方向的長度根據(jù)其寬度方向的位置而有所不同，
[0017]將所述切斷工序后的所述金屬板的所述起伏形狀的高度相對于所述起伏形狀的所述長度方向的周期的百分比稱為陡峭度時，滿足以下條件(I)?(3)，
[0018](I)所述切斷工序后的所述金屬板的寬度方向的中央部分的陡峭度的最大值為0.4%以下；
[0019](2)所述中央部分的陡峭度的最大值為所述切斷工序后的所述金屬板的寬度方向的一端側(cè)部分的陡峭度的最大值以下，并且為所述切斷工序后的所述金屬板的寬度方向的另一端側(cè)部分的陸峭度的最大值以下;和
[0020](3)所述一端側(cè)部分的陡峭度的最大值與所述另一端側(cè)部分的陡峭度的最大值之差為0.4%以下；
[0021]所述一端側(cè)部分、所述中央部分和所述另一端側(cè)部分分別是占所述切斷工序后的所述金屬板的寬度的30 %、40 %和30 %的部分。
[0022]在本發(fā)明的金屬板的制造方法中，由所述金屬板制造的所述掩模可以是用于以所期望的圖案進行蒸鍍的蒸鍍掩模。
[0023]在本發(fā)明的金屬板的制造方法中，在所述切斷工序中切斷的所述金屬板的一端側(cè)的范圍和另一端側(cè)的范圍可以是基于在所述切斷工序之前實施的所述金屬板的所述起伏形狀的觀察工序的結(jié)果所決定的。
[0024]本發(fā)明的金屬板的制造方法可以進一步具備退火工序，在該工序中，將通過所述乳制工序得到的所述金屬板退火，以除去所述金屬板的內(nèi)部應(yīng)力。該情況下，所述退火工序可以在沿長度方向拉伸所述乳制后的母材的同時實施。
[0025]在本發(fā)明的金屬板的制造方法中，所述母材可以含有因瓦合金材料。
[0026]本發(fā)明涉及一種金屬板，其為通過形成2個以上的貫通孔而用于制造掩模的金屬板，其中，
[0027]所述掩模的所述貫通孔是通過對所傳送的長條狀的所述金屬板進行蝕刻而形成的，
[0028]所述金屬板至少局部具有起伏形狀，該起伏形狀起因于該金屬板的長度方向的長度根據(jù)其寬度方向的位置而有所不同，
[0029]將所述金屬板的所述起伏形狀的高度相對于所述起伏形狀的所述長度方向的周期的百分比稱為陡峭度時，滿足以下條件(I)?(3)，
[0030](I)所述金屬板的寬度方向的中央部分的陡峭度的最大值為0.4%以下；
[0031](2)所述中央部分的陡峭度的最大值為所述金屬板的寬度方向的一端側(cè)部分的陡峭度的最大值以下，并且為所述金屬板的寬度方向的另一端側(cè)部分的陡峭度的最大值以下;和
[0032](3)所述一端側(cè)部分的陡峭度的最大值與所述另一端側(cè)部分的陡峭度的最大值之差為0.4%以下；
[0033]所述一端側(cè)部分、所述中央部分和所述另一端側(cè)部分分別是占所述金屬板的寬度的30 %、40 %和30 %的部分。
[0034]由本發(fā)明的金屬板制造的所述掩?？梢允怯糜谝运谕膱D案進行蒸鍍的蒸鍍掩模。
[0035]本發(fā)明的金屬板可以含有因瓦合金材料。
[0036]本發(fā)明涉及一種掩模的制造方法，其為制造形成有2個以上貫通孔的掩模的方法，其中，該制造方法具備下述工序:
[0037]準備金屬板的工序，該金屬板至少局部具有起伏形狀，該起伏形狀起因于該金屬板的長度方向的長度根據(jù)其寬度方向的位置而有所不同；
[0038]抗蝕劑圖案形成工序，該工序中，在所述金屬板上形成抗蝕劑圖案;和
[0039]蝕刻工序，該工序中，對所述金屬板中的未被所述抗蝕劑圖案覆蓋的區(qū)域進行蝕亥IJ，在所述金屬板形成用于劃出所述貫通孔的凹部；
[0040]將所述金屬板的所述起伏形狀的高度相對于所述起伏形狀的所述長度方向的周期的百分比稱為陡峭度時，滿足以下條件(I)?(3)，
[0041](I)所述金屬板的寬度方向的中央部分的陡峭度的最大值為0.4%以下；
[0042](2)所述中央部分的陡峭度的最大值為所述金屬板的寬度方向的一端側(cè)部分的陡峭度的最大值以下，并且為所述金屬板的寬度方向的另一端側(cè)部分的陡峭度的最大值以下;和
[0043](3)所述一端側(cè)部分的陡峭度的最大值與所述另一端側(cè)部分的陡峭度的最大值之差為0.4%以下；
[0044]所述一端側(cè)部分、所述中央部分和所述另一端側(cè)部分分別是占所述金屬板的寬度的30 %、40 %和30 %的部分。
[0045]本發(fā)明的掩模的制造方法中，所述掩?？梢允怯糜谝运谕膱D案進行蒸鍍的蒸鍍掩模。該情況下，所述蒸鍍掩模具備形成有2個以上貫通孔的有效區(qū)域、和位于所述有效區(qū)域的周圍的周圍區(qū)域。另外，所述蝕刻工序可以對所述金屬板中的未被所述抗蝕劑圖案覆蓋的區(qū)域進行蝕刻，在用于形成所述有效區(qū)域的所述金屬板的區(qū)域內(nèi)形成用于劃出所述貫通孔的凹部。
[0046]本發(fā)明的掩模的制造方法中，所述抗蝕劑圖案形成工序可以具有:在所述金屬板上形成抗蝕劑膜的工序、使曝光掩模與所述抗蝕劑膜真空密合的工序、和隔著所述曝光掩模將所述抗蝕劑膜以預(yù)定的圖案曝光的工序。
[0047]本發(fā)明的掩模的制造方法中，所述金屬板可以含有因瓦合金材料。
[0048]根據(jù)本發(fā)明，可以篩選在掩模的制造工序中能夠穩(wěn)定地傳送的金屬板。
【附圖說明】
[0049]圖1為用于說明本發(fā)明的一個實施方式的圖，為示出包含蒸鍍掩模的蒸鍍掩模裝置的一例的示意性俯視圖。
[0050]圖2為用于說明使用圖1所示的蒸鍍掩模裝置進行蒸鍍的方法的圖。
[0051]圖3為示出圖1所示的蒸鍍掩模的部分俯視圖。
[0052]圖4為沿著圖3的IV-1V線的截面圖。
[0053]圖5為沿著圖3的V-V線的截面圖。
[0054]圖6為沿著圖3的V1-VI線的截面圖。
[0055]圖7(a)為示出通過乳制母材而得到具有所期望的厚度的金屬板的工序的圖，圖7(b)為示出對通過乳制而得到的金屬板進行退火的工序的圖。
[0056]圖8為示出通過圖7(a)、(b)所示的工序得到的金屬板的立體圖。
[0057]圖9(a)、(b)、(c)、(d)分別為沿著圖8的a_a線、b_b線、c_c線和d_d線的截面圖。
[0058]圖1O為示出金屬板的寬度方向的各位置處的陡峭度的圖。
[0059]圖11為用于對圖1所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例進行整體說明的示意圖。
[0060]圖12為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為示出在金屬板上形成抗蝕劑膜的工序的截面圖。
[0061]圖13為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為示出在抗蝕劑膜上密合曝光掩模的工序的截面圖。
[0062]圖14為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的截面中示出長金屬板的圖。
[0063]圖15為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的截面中示出長金屬板的圖。
[0064]圖16為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的截面中示出長金屬板的圖。
[0065]圖17為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的截面中示出長金屬板的圖。
[0066]圖18為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的截面中示出長金屬板的圖。
[0067]圖19為用于說明蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，為在沿著法線方向的