被加工物的磨削方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及對(duì)多個(gè)被加工物的磨削方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在要對(duì)各種被加工物進(jìn)行變薄磨削而將其加工到所期望的厚度的情況下，一邊計(jì)測(cè)被加工物的厚度一邊進(jìn)行磨削，當(dāng)達(dá)到所期望的厚度時(shí)結(jié)束磨削。作為計(jì)測(cè)被加工物的厚度的方法，公知有如下這樣的接觸式的計(jì)測(cè)方法:使厚度測(cè)量?jī)x的觸頭與被加工物的正面和對(duì)被加工物進(jìn)行保持的保持工作臺(tái)的正面接觸，求出它們的高度差，從而根據(jù)該差的值求得被加工物的厚度(例如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
[0003]另一方面，在由藍(lán)寶石或氮化鎵(GaN)等形成的作為被加工物的晶片中，存在直徑比通常的晶片小的晶片。關(guān)于對(duì)直徑這樣小的晶片的磨削，提出有如下技術(shù):在一個(gè)保持工作臺(tái)的同一保持面上保持多個(gè)晶片，并同時(shí)對(duì)多個(gè)晶片進(jìn)行磨削，來(lái)縮短磨削所花費(fèi)的時(shí)間(例如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。
[0004]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2000-006018號(hào)公報(bào)
[0005]專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2012-101293號(hào)公報(bào)
[0006]當(dāng)通過(guò)接觸式的計(jì)測(cè)方法對(duì)多個(gè)晶片一邊磨削一邊進(jìn)行測(cè)量時(shí)，專(zhuān)利文獻(xiàn)1和2中示出的兩個(gè)觸頭存在破損的擔(dān)憂，因此，本發(fā)明的申請(qǐng)人提出了將這兩個(gè)觸頭連結(jié)在一起的測(cè)量?jī)x。然而，即使是該測(cè)量?jī)x，如果在磨削前的高度差巨大的多個(gè)被加工物高速旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下使觸頭接觸，則也存在觸頭破損的擔(dān)憂。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于，提供一種即使在同時(shí)保持多個(gè)被加工物進(jìn)行磨削的情況下也能夠抑制觸頭破損的被加工物的磨削方法。
[0008]為了解決上述的課題以達(dá)成目的，技術(shù)方案1所述的本發(fā)明的被加工物的磨削方法是對(duì)被加工物同時(shí)進(jìn)行磨削的磨削方法，其特征在于，在所述被加工物的磨削方法中使用具有下述部分的磨削裝置:保持構(gòu)件，其能夠繞垂直于保持被加工物的保持面的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；磨削構(gòu)件，其安裝有對(duì)保持在該保持構(gòu)件上的被加工物的上表面進(jìn)行磨削的磨輪；磨削進(jìn)給構(gòu)件，其使該磨削構(gòu)件在垂直于該保持面的方向上接近和遠(yuǎn)離被加工物；以及高度測(cè)量構(gòu)件，其測(cè)量被該磨削構(gòu)件磨削的被加工物的上表面的高度，該磨削方法具有:保持步驟，將比該保持面小的尺寸的多個(gè)被加工物排列并保持在該保持構(gòu)件的該保持面上；預(yù)備測(cè)量步驟，在實(shí)施了該保持步驟后，一邊使高度測(cè)量構(gòu)件的觸頭與被加工物的上表面接觸一邊使該保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)，來(lái)測(cè)量多個(gè)被加工物的高度，并計(jì)算出最低的高度；退避步驟，在實(shí)施了該預(yù)備測(cè)量步驟后，使該觸頭從被加工物的上表面離開(kāi)而退避；第一磨削步驟，在實(shí)施了該退避步驟后，一邊使該保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)一邊使該磨削進(jìn)給構(gòu)件動(dòng)作，直至該磨輪被定位在由該高度測(cè)量構(gòu)件測(cè)量出的被加工物的最低的高度位置，然后利用該磨輪磨削被加工物，使多個(gè)被加工物的高度一致；以及第二磨削步驟，在實(shí)施了該第一磨削步驟后，使處于退避中的該觸頭與被加工物的上表面接觸，一邊使該保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)一邊利用該磨削構(gòu)件磨削被加工物，直至由該高度測(cè)量構(gòu)件測(cè)量出的被加工物的高度達(dá)到所期望的完工厚度，該保持構(gòu)件在該預(yù)備測(cè)量步驟中旋轉(zhuǎn)的速度比該保持構(gòu)件在該第一磨削步驟中旋轉(zhuǎn)的速度慢，并且是經(jīng)過(guò)不同高度的被加工物的上表面的該觸頭不發(fā)生破損的速度。。
[0009]這里，在本發(fā)明的被加工物的磨削方法中，一邊以較慢的速度使保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)一邊對(duì)磨削前的被加工物的高度進(jìn)行測(cè)量，在檢測(cè)出最低的高度后，使觸頭暫時(shí)退避，通過(guò)磨削構(gòu)件進(jìn)行磨削直到所有被加工物的高度與最低的高度一致，然后再次使觸頭與被加工物接觸，同時(shí)磨削至完工厚度。由此，即使在同時(shí)保持多個(gè)被加工物進(jìn)行磨削的情況下，磨削方法也能夠?qū)崿F(xiàn)抑制觸頭破損的效果。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是示出在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的結(jié)構(gòu)的外觀立體圖。
[0011]圖2是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的保持構(gòu)件和高度測(cè)量構(gòu)件等的立體圖。
[0012]圖3是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的高度測(cè)量構(gòu)件和多個(gè)被加工物的立體圖。
[0013]圖4是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的高度測(cè)量構(gòu)件等和多個(gè)被加工物的俯視圖。
[0014]圖5是示出實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法的預(yù)備測(cè)量步驟的概要的側(cè)視圖。
[0015]圖6是示出實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法的第一磨削步驟的概要的側(cè)視圖。
[0016]圖7是示出實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法的第二磨削步驟的概要的側(cè)視圖。
[0017]圖8是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的保持構(gòu)件和高度測(cè)量構(gòu)件等的側(cè)視圖。
[0018]圖9是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的保持構(gòu)件和高度測(cè)量構(gòu)件等的俯視圖。
[0019]標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0020]1:磨削裝置；10:保持構(gòu)件；10a:保持面；20:磨削構(gòu)件:23:磨輪；30:磨削進(jìn)給構(gòu)件；40:高度測(cè)量構(gòu)件；43:觸頭；A:旋轉(zhuǎn)軸；T:完工厚度；W:被加工物；WR:背面(上表面)。
【具體實(shí)施方式】
[0021]—邊參照附圖一邊對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式(實(shí)施方式)進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。本發(fā)明不受在以下的實(shí)施方式中所述的內(nèi)容限定。并且，以下所述的結(jié)構(gòu)要素包含本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠容易地想到的要素和實(shí)質(zhì)上相同的要素。進(jìn)而，能夠適當(dāng)?shù)亟M合以下所述的結(jié)構(gòu)。并且，能夠在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)，進(jìn)行結(jié)構(gòu)的各種省略、置換或者變更。
[0022]〔實(shí)施方式〕
[0023]參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法進(jìn)行說(shuō)明。圖1是示出在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的結(jié)構(gòu)的外觀立體圖，圖2是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的保持構(gòu)件和高度測(cè)量構(gòu)件等的立體圖，圖3是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的高度測(cè)量構(gòu)件和多個(gè)被加工物的立體圖，圖4是在實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法中使用的磨削裝置的高度測(cè)量構(gòu)件等和多個(gè)被加工物的俯視圖。
[0024]本實(shí)施方式所涉及的被加工物的磨削方法(以下，簡(jiǎn)稱(chēng)為“磨削方法”)使用圖1中示出的磨削裝置1。磨削裝置1是同時(shí)對(duì)多個(gè)被加工物W(圖3中示出)進(jìn)行磨削(相當(dāng)于加工)的裝置。這里，在本實(shí)施方式中，作為加工對(duì)象的被加工物W是以硅、藍(lán)寶石、氮化鎵(GaN)等為母材的圓板狀的半導(dǎo)體晶片或光器件晶片。被加工物W例如由在正面WS上形成為格子狀的被稱(chēng)作間隔道的分割預(yù)定線劃分為多個(gè)區(qū)域，在這些劃分出的區(qū)域內(nèi)形成有器件。如圖3所示，被加工物W的正面WS被粘貼在保持部件Μ上，在保持部件Μ上保持有多個(gè)被加工物W的狀態(tài)下，利用磨削磨具26對(duì)正面WS的背側(cè)的背面WR(在圖3和圖4中示出)進(jìn)行磨削。此外，在本實(shí)施方式中，保持部件Μ形成為圓板狀，在保持部件Μ的外緣部上，沿周向等間隔地配置有五個(gè)被加工物W。
[0025]如圖1所示，磨削裝置1具有保持構(gòu)件10、磨削構(gòu)件20、磨削進(jìn)給構(gòu)件30、高度測(cè)量構(gòu)件40以及控制單元100等。
[0026]保持構(gòu)件10具有保持面10a，被加工物W的正面WS經(jīng)由保持部件Μ被載置在該保持面10a上，該保持面10a對(duì)載置的多個(gè)被加工物W進(jìn)行吸引保持。如圖2所示，保持構(gòu)件10的構(gòu)成保持面10a的部分是由多孔質(zhì)陶瓷等形成的圓