。鍍層復合是指在一個鍍層上再鍍上一個或多個鍍層，每個鍍層的納米金屬是同種金屬，不同鍍層間可以是同種或異種納米金屬。
[0028]實施例4
[0029]基體和步驟⑴、(3)與實施例1相同，區(qū)別在于步驟(2)。該實施例的步驟(2)為:采用幅寬為1400_的陰極離子鍍膜設備，把處理后的基體放置在鍍膜設備的放卷裝置上，真空度為2.2 X 10_2Pa，溫度為160?260°C，基體運行速度為15.0m/min,以99.9%的氬氣作為保護氣體，流量為1200ml/min，進行基體等離子體表面清潔處理，以99.99%高純度銀作為靶材，磁控電壓460?880V，電流12?20A，產生銀離子和納米粒子，在基體上部表面實現離子鍍納米銀，產生的銀離子和納米粒子密度為1.0?10.0g/m2，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nm。以99.99%無氧銅作為革E材，磁控電壓320?580V，電流15?36A，產生銅離子和納米粒子，在基體下部表面實現離子鍍納米銅，產生的銅離子和納米粒子密度為1.0?10.0g/m2，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nm?；w上鍍上了上部為納米銀下部為納米銅的第一鍍層。
[0030]以99.99%無氧銅作為靶材，磁控電壓320?580V，電流15?36A，產生銅離子和納米粒子，在已鍍好的第一鍍層上部表面實現離子鍍納米銅，產生的銅離子和納米粒子密度為1.0?10.0g/m2，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nm。以99.99%高純度銀作為靶材，磁控電壓460?880V，電流12?20A，產生銀離子和納米粒子，在已鍍好的第一鍍層下部表面實現離子鍍納米銀，產生的銀離子和納米粒子密度為1.0?10.0g/m2，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nm。在已鍍好的第一鍍層上鍍上了第二鍍層，第二鍍層的上部為納米銅下部為納米銀。
[0031]得到的多孔金屬箔制品的金屬納米粒子鍍層包括疊加的兩個鍍層:第一鍍層和第二鍍層。鍍層疊加是指在一個鍍層上再鍍上一個或多個鍍層，每個鍍層包括納米金屬種類不同的部分。
[0032]本發(fā)明可根據材料功能的具體要求設計納米金屬鍍層，通過納米金屬鍍層的疊加、復合和摻雜等形式得到各種功能性材料，如高導電性能、高電磁屏蔽性能、高防靜電性能、高殺菌抗菌性能、高效化學催化性能、光學性能、磁性能等。
[0033]本發(fā)明在步驟(I)中，真空度可以在1Pa至3.0X10_4Pa范圍內選擇，加熱溫度可以在80°C至260°C范圍內選擇，加熱時間控制在10至60分鐘。步驟(I)能有效除去基體上的水分、氣泡和雜質，為后續(xù)的鍍膜做好準備，可以使鍍層附著力強，不易脫落。在步驟(2)中，保護氣體可以是氬氣或氮氣，真空度為LOXKT1Pa至3.0X10_4Pa，溫度為30°C至260°C，基體運行速度1.0至30.0m/min。金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度小于10nm,相應地，得到的制品的金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度小于10nm。金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度在I?50nm為優(yōu)選，納米粒子分布范圍窄、納米粒子分布均勻，鍍層附著力更強、度量更好。
[0034]金屬納米粒子鍍層的金屬為金、銀、鋁、銅、鋅、鐵、鎳、鈦、鉑、鈀、鈷、鉭、稀土金屬及其混合物與合金、以及這些金屬的混合物與合金，前述列出的金屬為或的關系。最優(yōu)先的是貴金屬，其他的金屬對本領域技術人員來說是顯而易見的。
[0035]本發(fā)明具有納米金屬鍍層的納米粒子分布窄、納米金屬鍍層均勻性好、納米金屬表面活性高和無雜質等優(yōu)點，可連續(xù)化生產，成品率高、質量好、無污染且性能優(yōu)異穩(wěn)定。得到的多孔金屬箔制品保持其基體所具有的流體阻力和流態(tài)性質等特性，同時又具有金屬納米粒子鍍層所具有的各種功能和作用，大大的提高了多孔金屬箔的性能和用途，擴大其使用范圍。多孔金屬箔制品可廣泛用于需要高導電性能、高電磁屏蔽性能、高防靜電性能、高殺菌抗菌性能、高效化學催化性能、光學性能、磁性能等功能產品中。
【主權項】
1.具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品，其特征在于，包括基體和采用離子鍍方法鍍在基體上的金屬納米粒子鍍層，所述基體為多孔金屬箔，多孔金屬箔具有孔徑為0.1?0.5mm的大量孔，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度小于lOOnm。2.根據權利要求1所述的具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品，其特征在于，所述金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nm。3.根據權利要求2所述的具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品，其特征在于，所述金屬納米粒子鍍層的金屬為金、銀、鋁、銅、鋅、鐵、鎳、鈦、鉑、鈀、鈷、鉭、稀土金屬及其混合物與合金、以及這些金屬的混合物與合金。4.根據權利要求3所述的具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品，其特征在于，所述多孔金屬箔為銅箔、鋁箔、不銹鋼箔或合金箔。5.根據權利要求4所述的具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品，其特征在于，所述金屬納米粒子鍍層包括疊加的至少兩個鍍層，或包括復合的至少兩個鍍層。6.權利要求1所述具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品的制備方法，其特征在于，基體多孔金屬箔，多孔金屬箔具有孔徑為0.1?0.5mm的大量孔，制備方法包括以下步驟: (1)所述基體在真空室內，真空度為1Pa至3.0 X 10_4Pa，加熱溫度為80°C?260°C，加熱時間10?60分鐘，進行基體真空除水脫氣處理； (2)采用陰極離子鍍膜設備，以氬氣或氮氣作為保護氣體，真空度為1.0X KT1Pa?3.0X 10_4Pa，溫度為30°C?260°C，基體運行速度1.0?30.0m/min,對基體進行等離子體表面清潔處理，以金屬為靶材，產生金屬離子和納米粒子，金屬離子和納米粒子密度為1.0?10.0g/m2，在基體表面進行離子鍍納米金屬，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度小于 10nm ； (3)將上述材料分切、計量、真空封裝。7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度為I?50nmo8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述金屬納米粒子鍍層的金屬為金、銀、鋁、銅、鋅、鐵、鎳、鈦、鉑、鈀、鈷、鉭、稀土金屬及其混合物與合金、以及這些金屬的混合物與合金。9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述多孔金屬箔為銅箔、鋁箔、不銹鋼箔或合金箔。10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟⑵中，在步驟(2)的保護氣體、真空度、溫度和基體運行速度條件下，在基體上鍍上疊加的至少兩個鍍層，或鍍上復合的至少兩個鍍層。
【專利摘要】本發(fā)明涉及具有金屬納米粒子鍍層的多孔金屬箔制品及其制備方法，多孔金屬箔制品包括基體和采用離子鍍方法鍍在基體上的金屬納米粒子鍍層，所述基體為多孔金屬箔，多孔金屬箔具有孔徑為0.1～0.5mm的大量孔，金屬納米粒子鍍層的金屬納米粒子的粒度小于100nm。本發(fā)明以多孔金屬箔為基體，先對基體進行真空除水脫氣處理，再采用離子鍍膜法鍍納米金屬，具有金屬納米粒子鍍層的納米粒子分布窄、鍍層均勻性好、納米金屬表面活性高和無雜質等優(yōu)點。多孔金屬箔制品保持其基體所具有的流體阻力和流態(tài)性質等特性，同時又具有金屬納米粒子鍍層所具有的各種功能和作用，大大的提高了多孔金屬箔的性能和用途，擴大其使用范圍。
【IPC分類】C23C14/28, C23C14/16
【公開號】CN104894514
【申請?zhí)枴緾N201510149072
【發(fā)明人】朱家駿
【申請人】嘉興中科奧度新材料有限公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年3月31日