用于制作掩模集成框架的對位方法及系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一用于制作掩模集成框架的對位方法及系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]精細(xì)金屬掩膜(FMM Mask)模式是通過蒸鍍方式將OLED材料按照預(yù)定程序蒸鍍到低溫多晶娃(Low Temperature Poly-silicon, LTPS)基板上，利用FMM上的圖形，形成紅綠藍(lán)器件。在進(jìn)行FMM制作時(shí)，需要用Array工藝制作出來的Mother Glass (就是未形成0LED材料的陣列基板，只有TFT陣列)作為對位焊接基準(zhǔn)制作掩模集成框架(Mask FrameAssembly,MFA)的基準(zhǔn)。CO)圖像傳感器在不受干擾的情況下識(shí)別Mother Glass上Pattern與對應(yīng)MFA的Mask的狹縫(slit)進(jìn)行PPA (Pixel Posit1n Accuracy，像素位置精度)匹配(通過測量MFA Mask slit的中心位置與Mother Glass上的Pattern的中心線的距離)。由于制作Mother Glass會(huì)存在不同情況的偏差(例如:像素位置整體向一個(gè)方向偏移)，因此在FMM Tens1n (即張網(wǎng)機(jī)，用于將FMM在金屬框架中焊接成一張大的MFA)使用存在偏差的Mother Glass作為焊接基準(zhǔn)時(shí)，并且在設(shè)備存在制作偏差的情況下，在后續(xù)采用MFA進(jìn)行蒸鍍時(shí)，會(huì)導(dǎo)致PPA的偏差會(huì)累加，最終用該MFA蒸鍍出來的顯示器件會(huì)存在不良的風(fēng)險(xiǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003](一 )要解決的技術(shù)問題
[0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:如何減小利用mother glass制作MFA時(shí)對位的偏差。
[0005]( 二 )技術(shù)方案
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種用于制作掩模集成框架的對位方法，包括:
[0007]以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點(diǎn)建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合；
[0008]控制所述陣列基板移動(dòng)，使像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值；
[0009]將移動(dòng)陣列基板后的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機(jī)。
[0010]其中，所述控制所述陣列基板移動(dòng)使像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值的步驟包括:
[0011 ] 測量所述陣列基板上的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量;
[0012]當(dāng)判斷偏移量大于所述預(yù)定誤差值時(shí)控制所述陣列基板向像素點(diǎn)偏移的反方向移動(dòng)所述偏移量的距尚。
[0013]其中，在測量所述陣列基板上的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量時(shí)，選取陣列基板上預(yù)定數(shù)量的像素點(diǎn)作為樣本進(jìn)行測量。
[0014]其中，所述預(yù)定誤差值為1.5微米。
[0015]其中，還包括將移動(dòng)陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機(jī)。
[0016]其中，還包括存儲(chǔ)移動(dòng)陣列基板后的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。
[0017]本發(fā)明還提供了一種用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，包括:
[0018]坐標(biāo)系建立單元，用于以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點(diǎn)建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合；
[0019]移動(dòng)控制單元，用于控制所述陣列基板移動(dòng)，使像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值；
[0020]坐標(biāo)傳輸單元，用于將移動(dòng)陣列基板后的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機(jī)。
[0021]其中，所述移動(dòng)控制單元包括:
[0022]偏移量測量單元，用于測量所述陣列基板上的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量；
[0023]判斷移動(dòng)單元，用于當(dāng)判斷偏移量大于所述預(yù)定誤差值時(shí)控制所述陣列基板向像素點(diǎn)偏移的反方向移動(dòng)所述偏移量的距離。
[0024]其中，所述偏移量測量單元具體用于在所述陣列基板上每個(gè)有效像素陣列中選取至少三個(gè)在同一直線上的像素點(diǎn)作為樣本進(jìn)行測量。
[0025]其中，所述預(yù)定誤差值為1.5微米。
[0026]其中，所述坐標(biāo)傳輸單元還用于將移動(dòng)陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機(jī)。
[0027]其中，該系統(tǒng)還包括:坐標(biāo)存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)移動(dòng)陣列基板后的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。
[0028](三)有益效果
[0029]本發(fā)明的用于制作掩模集成框架的對位方法及系統(tǒng)通過移動(dòng)陣列基板(motherclass)的位置，使其在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)達(dá)到預(yù)設(shè)的理論值，從而減小了利用motherglass制作MFA時(shí)對位的偏差，降低了最終用該MFA蒸鍍出來的顯示器件會(huì)存在不良的風(fēng)險(xiǎn)。
【附圖說明】
[0030]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的一種用于制作掩模集成框架的對位方法流程圖；
[0031]圖2是圖1中步驟S120的具體流程圖；
[0032]圖3是在陣列基板的像素陣列中選取像素點(diǎn)樣本進(jìn)行測量的示意圖；
[0033]圖4是本發(fā)明實(shí)施例的一種用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖5是圖4中移動(dòng)控制單元420的具體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0036]本發(fā)明的實(shí)施例的用于制作掩模集成框架的對位方法如圖1所示，包括:
[0037]步驟S110，以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點(diǎn)建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合。該陣列基板即為mother class。
[0038]步驟S120，控制所述陣列基板移動(dòng)，使像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值(理論值是以理想像素的不同排列方式的理論設(shè)計(jì)值，是PPA最為精準(zhǔn)的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)值)的偏移量小于預(yù)定誤差值。
[0039]步驟S130，將移動(dòng)陣列基板后的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機(jī)。張網(wǎng)機(jī)根據(jù)該坐標(biāo)值進(jìn)行后續(xù)的MFA的制作。
[0040]本發(fā)明的用于制作掩模集成框架的對位方法及系統(tǒng)通過移動(dòng)陣列基板(motherclass)的位置，使其在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)達(dá)到預(yù)設(shè)的理論值，從而減小了利用motherglass制作MFA時(shí)對位的偏差，降低了最終用該MFA蒸鍍出來的顯示器件會(huì)存在不良的風(fēng)險(xiǎn)。
[0041]步驟S120具體如圖2所示，包括:
[0042]步驟S210，測量所述陣列基板上的像素點(diǎn)在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量。
[0043]步驟S220，判斷所述偏移量是否大于預(yù)定誤差，若大于執(zhí)行步驟S230，否則停止移動(dòng)。
[0044]步驟S230，控制所述陣列基板向像素點(diǎn)偏移的反方向移動(dòng)所述偏移量的距離。進(jìn)一步地，由于陣列基板是放置在承載臺(tái)上通過機(jī)械手來移動(dòng)承載臺(tái)來達(dá)到移動(dòng)陣列基板的目的，這種機(jī)械移動(dòng)會(huì)產(chǎn)生設(shè)備誤差，實(shí)際可能向像素點(diǎn)偏移的反方向移動(dòng)的距離不等于所述偏移量。因此，進(jìn)一步地，步驟