一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及研磨拋光技術(shù)領(lǐng)域，特別地，涉及一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的藍(lán)寶石鏡面基片行業(yè)大部份都是采用傳統(tǒng)的雙平面基片，對這種鏡片的拋光通常采用尺寸大于鏡片的磨盤，對鏡片單面或雙面的整體同時(shí)進(jìn)行拋光。例如申請?zhí)枮?01420325708.X的中國專利申請，公開了一種藍(lán)寶石拋光用銅盤，在拋光時(shí)，將雙面是平片的藍(lán)寶石鏡片放置在磨盤上的游星輪內(nèi)，對鏡片單面或雙面進(jìn)行拋光。
[0003]隨著工業(yè)的發(fā)展，社會(huì)不斷的進(jìn)步，對產(chǎn)品設(shè)計(jì)的獨(dú)特性要求越來越高。由于藍(lán)寶石獨(dú)特的性能，應(yīng)用于外殼類產(chǎn)品的藍(lán)寶石鏡片產(chǎn)生。該面板設(shè)計(jì)的最大特點(diǎn)為內(nèi)凹平臺面。由于內(nèi)凹平臺面四周有高出的側(cè)壁，對內(nèi)凹平臺面的拋光則無法采用傳統(tǒng)的大磨盤進(jìn)行拋光，只能采用小于內(nèi)凹平臺面尺寸的磨頭進(jìn)行拋光。但對于一些尺寸較小的內(nèi)凹平臺面，行程有限，磨頭與鏡片相對運(yùn)動(dòng)面積較小，磨頭對鏡片表面又有一定壓力，因此磨頭中間部位拋光液運(yùn)用不充分，會(huì)影響拋光效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明目的在于提供一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，以解決現(xiàn)有磨頭的研磨液無法充分涂覆在磨頭與鏡片表面的技術(shù)問題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，所述磨頭的拋光端面上設(shè)有相互連通的凹槽，所述凹槽橫截面整體形狀以研磨面的對稱軸為軸對稱；所述凹槽的深度范圍為0.5?1mm ;
[0006]所述凹槽的側(cè)面所在平面與磨頭拋光端面所在平面為垂直相交。
[0007]優(yōu)選的，所述凹槽橫截面整體包括菱形、米字形、回字形、O字型。
[0008]優(yōu)選的，所述磨頭表面中心點(diǎn)上設(shè)置開口寬度為I?4mm的通孔，所述通孔一端與所述凹槽相通，另一端與所述磨頭外側(cè)面相通。
[0009]優(yōu)選的，所述磨頭尺寸為所加工產(chǎn)品內(nèi)凹平臺面長、寬尺寸同比例縮小為原尺寸的2/3±2_。凹槽寬度為I?4mm。
[0010]優(yōu)選的，所述拋光端面上設(shè)置有空洞，所述空洞的橫截面整體形狀與所述凹槽整體形狀為相似圖形。
[0011]優(yōu)選的，所述空洞的橫截面面積為所述磨頭拋光端面的橫截面面積的30-60%。
[0012]優(yōu)選的，所述磨頭拋光端面粗糙度約為300?500nm。
[0013]優(yōu)選的，所述磨頭R角值與內(nèi)凹平臺面R角值相同。
[0014]優(yōu)選的，所述磨頭厚度為12.5-13.5mm。
[0015]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0016]采用上述磨頭對鏡片進(jìn)行拋光時(shí)，由于磨頭表面設(shè)置有相互連通的凹槽，凹槽與流通拋光液的通孔相連，則拋光液可順著對稱的凹槽均勻至研磨表面各處，使得采用此拋光磨頭加工出來的產(chǎn)品表面粗糙度均衡，拋光效果好，拋光效率高，良率高。
[0017]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照圖，對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0018]構(gòu)成本申請的一部分的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0019]圖1是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的表面設(shè)置有凹槽的磨頭結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0020]圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的表面設(shè)置有凹槽的磨頭結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0021]圖3是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的表面設(shè)置有凹槽和空洞的磨頭結(jié)構(gòu)示意圖之三；
[0022]圖4是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的表面設(shè)置有凹槽的磨頭結(jié)構(gòu)示意圖之四；
[0023]其中，1、磨頭，2、凹槽，3、空洞。
【具體實(shí)施方式】
[0024]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明可以根據(jù)權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0025]參見圖1，一種用于藍(lán)寶石鏡面拋光用磨頭，磨頭I的拋光端面上設(shè)有相互連通的凹槽2 ;所述凹槽橫截面整體形狀以研磨面的對稱軸為軸對稱；即包括菱形、米字形、回字形、O字型等對稱圖形。
[0026]凹槽橫截面指水平面橫切凹槽所得到的截面。凹槽橫截面整體形狀可理解為凹陷部分的整體形狀，或者凸起部分的橫截面整體形狀。在實(shí)際產(chǎn)品中，橫截面整體形狀可能并不完整，線條可能被打斷或有少許偏移，但從使用者的整體印象上來說，能將該形狀與我們熟知的上述形狀聯(lián)想到一起即可。凹槽的深度范圍可為0.5?10mm，寬度可為I?4mm。
[0027]凹槽的側(cè)面所在平面與磨頭拋光端面所在平面為垂直相交；若是斜面或弧面，可能會(huì)對產(chǎn)品拋光后的表面造成不良影響。
[0028]磨頭表面設(shè)置開口寬度為I?4mm的通孔，所述通孔一端與所述凹槽相通，另一端與所述磨頭外側(cè)面相通，用于流通拋光液。通孔可以設(shè)置在所述磨頭的中心點(diǎn)上，利于拋光液的平均擴(kuò)散。
[0029]磨頭I的拋光端面上還設(shè)置有空洞3，所述空洞3的橫截面形狀與所述凹槽整體形狀為相似圖形；相似圖形是指邊數(shù)相等、對應(yīng)角相等、對應(yīng)邊成比例的若干個(gè)圖形，包括多邊形和圓形。例如凹槽整體形狀為圓形，則空洞的橫截面形狀也為圓形。
[0030]在本申請文件中，凹槽2指被多個(gè)突起分隔開的較為狹長的凹陷結(jié)構(gòu)，空洞3指內(nèi)部無突起、任意兩個(gè)側(cè)面之間都無障礙的凹陷結(jié)構(gòu)。
[0031]所述空洞3的面積可為所述磨頭的拋光端面面積的50%?85%;大避空面積不但利于拋光液的流通，并且空洞處沒有與鏡片接觸，避免中間部分的磨損。以長27_、寬22_的磨頭為例:其總面積約為594mm2，小面積避空后其面積約為356.4mm2，約占磨頭研磨面面積的60%，空洞面積為30% ;大面積避空后其面積約為178.2mm2，約占磨頭研磨面面積的30%，空洞面積為60%。
[0032]位于磨頭凹槽或空洞的邊緣上設(shè)有至少一個(gè)缺口，用于拋光液從磨頭外流入磨頭凹槽和空洞內(nèi)部，提高拋光效率。
[0033]該缺口的開口深度可為I?10mm，寬度為l-4mm。缺口本身為對稱結(jié)構(gòu)，若干個(gè)不同側(cè)壁上的缺口也可相互為對稱設(shè)置，以使得研磨液的平均分布；內(nèi)外層的缺口位置可在經(jīng)過磨頭中心點(diǎn)的同一條直線上，便于研磨液的流通。缺口的位置平均分布在磨頭邊緣(側(cè)壁)上，利于拋光液向兩側(cè)均勻擴(kuò)散，不累積在入口處。
[0034]在具體實(shí)施例中，所述磨頭尺寸為所加工產(chǎn)品內(nèi)凹平臺面長、寬尺寸同比例縮小為原尺寸的2/3±2mm。磨頭拋光端面粗糙度約為300?500nm。磨頭R角值與內(nèi)凹平臺面R角值相同。
[0035]磨頭上下面總體厚度為12.5-13.5mm，即磨頭在使用壽命內(nèi)可以使用的全部厚度，從空洞頂端至磨頭底端的距離。在實(shí)際使用中，但磨頭被逐漸磨損，凹槽和空洞的槽深逐漸減小，可對磨頭進(jìn)行二次加工，繼續(xù)加深空洞槽深。但如在初次開槽時(shí)，一次加工至最大深度，則槽內(nèi)所需的拋光液過多，不利于拋光加工。
[0036]具體實(shí)施例如下。
[0037]實(shí)施例一、
[0038]產(chǎn)品內(nèi)凹平臺面長為33.0Omm,寬為27.0Omm,四角圓弧半徑