的壓強為0. 15~0. 20mPa，流量比為40-60%。載流氣體起到保護和載流的作用。該 載流氣體優(yōu)選為Ar氣。該載流氣體的流量比的定義是載流氣體通過管道時的流通比率，通 過電磁閥和流量計進行控制和監(jiān)控。該載流氣體的流量比保證了掃描修補的氣體的流量和 掃描修補的氣體的供應濃度，過低的載流氣體流量會導致掃描修補的氣體的濃度不足最終 引起沉積的掃描修補的氣體的厚度不足，不良表現(xiàn)為欠修補或黑度不足，過高的載流氣體 流量則會因掃描修補的氣體的濃度過高而導致激光沉積反應不完全和修補厚度過高，最終 會引起清洗脫落等問題。掃描修補時，需要將用于氣相沉積的掃描修補的氣體加熱，具體的 加熱溫度可以根據(jù)掃描修補氣體具體確定。例如，當所需的掃描修補氣體為鉻蒸汽時，通過 加熱蒸發(fā)Cr(0H) 6，形成鉻蒸汽，加熱蒸發(fā)的溫度為35~45°C。
[0031] 具體地，激光的照射區(qū)域為長18~24 ym，寬6~9 ym的區(qū)域，優(yōu)選為20X6 ym 的區(qū)域。該激光照射范圍通過使用該尺寸的狹縫來實現(xiàn)。相對于現(xiàn)有技術中單光斑修復方 式（點修復），該激光的照射范圍較小，因此對激光器的能量均勻性的要求降低，使本發(fā)明 的技術方案具有更好的工藝穩(wěn)定性性和適應性。同時，本發(fā)明的技術方案與現(xiàn)有技術的修 補單位面積時激光照射的時間接近，但是由于本技術方案的狹縫尺寸較小使范圍內(nèi)的激光 能量更加均勻，能保證更穩(wěn)定的修補質(zhì)量，因此在做大尺寸白缺陷修補時整體的粘附力和 黑度要比現(xiàn)有技術更穩(wěn)定，在黑度和粘附力測試中表現(xiàn)更加優(yōu)異，也不容易出現(xiàn)局部脫落 和漏光現(xiàn)象。
[0032] 本發(fā)明實施例的技術方案特別適合于大尺寸的白缺陷，該白缺陷可以為直徑 1000 ym以內(nèi)的圓斑，或者相近尺寸的其它形狀。
[0033] 下面以具體實施例，對本發(fā)明實施例的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法做進 一步的說明。
[0034] 實施例1修復鉻板上的少鉻缺陷
[0035] 該鉻板上的少鉻缺陷為直徑約30 y m的圓斑。采用本發(fā)明的激光氣相沉積方式修 補白缺陷的方法對該缺陷進行修補。其中，載流氣體為Ar氣，掃描修補氣體為Cr氣。具體 的修復參數(shù)如表1所示。如圖2所示，為本發(fā)明實施例1的修補前的白缺陷的示意圖，其中 圖（a)為反射示意圖，圖（b)為透射示意圖。如圖3所示，為本發(fā)明實施例1的采用激光氣 相沉積方式修補后的白缺陷的示意圖，其中圖（a)為反射示意圖，圖（b)為透射示意圖。從 圖1和圖2的對比可以看出，通過本發(fā)明的方法修補的效果好。
[0036] 表1實施例1的激光氣相沉積修補白缺陷的工藝參數(shù)
【主權(quán)項】
1. 一種激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于，包括： 在靠近所述白缺陷的一角設置修補起點，在靠近所述白缺陷的所述修補起點的對角設 置修補終點，使得在所述白缺陷所在平面上，以所述修補起點沿橫向延伸的直線、所述修補 起點沿縱向延伸的直線、所述修補終點沿橫向延伸的直線、所述修補終點沿縱向延伸的直 線圍成的區(qū)域為掃描修補區(qū)域，所述白缺陷完全位于所述掃描修補區(qū)域內(nèi)； 采用激光氣相沉積方式在所述掃描修補區(qū)域內(nèi)從所述修補起點掃描修補至所述修補 終點，使所述白缺陷表面完全覆蓋修補薄膜完成所述修補。
2. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于，所述采用 激光氣相沉積方式在所述掃描修補區(qū)域內(nèi)從所述修補起點掃描修補至所述修補終點的過 程包括： 從所述修補起點沿橫向掃描修補至所述掃描修補區(qū)域的另一側(cè)，在經(jīng)過的區(qū)域的表面 覆蓋一層所述修補薄膜； 從所述修補起點沿縱向移動一行，沿橫向從所述掃描修補區(qū)域的一側(cè)掃描修補至所述 掃描修補區(qū)域的另一側(cè)，在經(jīng)過的區(qū)域的表面覆蓋一層所述修補薄膜，重復該步驟直到掃 描修補到所述修補終點。
3. 如權(quán)利要求2所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：相鄰兩行 所述修補薄膜的沿縱向的重疊區(qū)域的尺寸為2~4 ym。
4. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于，所述采用 激光氣相沉積方式在所述掃描修補區(qū)域內(nèi)從所述修補起點掃描修補至所述修補終點的過 程包括： 從所述修補起點沿縱向掃描修補至所述掃描修補區(qū)域的另一側(cè)，在經(jīng)過的區(qū)域的表面 覆蓋一層所述修補薄膜； 從所述修補起點沿橫向移動一列，沿縱向從所述掃描修補區(qū)域的一側(cè)掃描修補至所述 掃描修補區(qū)域的另一側(cè)，在經(jīng)過的區(qū)域的表面覆蓋一層所述修補薄膜，重復該步驟直到掃 描修補到所述修補終點。
5. 如權(quán)利要求4所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：相鄰兩列 所述修補薄膜的沿橫向的重疊區(qū)域的尺寸為2~4 ym。
6. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：所述修補 起點沿縱向延伸的直線距與其相鄰的所述白缺陷的一側(cè)的距離為10~20ym，所述修補起 點沿橫向延伸的直線距與其相鄰的所述白缺陷的一側(cè)的距離為5~10 ym ;所述修補終點 沿縱向延伸的直線距與其相鄰的所述白缺陷的一側(cè)的距離為10~20ym，所述修補終點沿 橫向延伸的直線距與其相鄰的所述白缺陷的一側(cè)的距離為5~10 ym。
7. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：激光的照 射區(qū)域為長18~24 y m，寬6~9 y m的區(qū)域。
8. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：所述掃描 修補的速度為7~11 ym/s，和/或，所述掃描修補的過程中激光功率為1. 8~2. 2mw。
9. 如權(quán)利要求1所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在于：所述掃描 修補采用的載流氣體的壓強為〇. 15~0. 20mPa，流量比為40-60%。
10. 如權(quán)利要求1~9任一項所述的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，其特征在 于：所述掃描修補的過程還伴隨有抽廢氣的過程，所述抽廢氣的過程包括抽走并加熱所述 廢氣使所述廢氣排放，抽走所述廢氣的流量為16~20L/min。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，包括：在靠近所述白缺陷的一角設置修補起點，在靠近所述白缺陷的所述修補起點的對角設置修補終點，使得在所述白缺陷所在平面上，以所述修補起點沿橫向延伸的直線、所述修補起點沿縱向延伸的直線、所述修補終點沿橫向延伸的直線、所述修補終點沿縱向延伸的直線圍成的區(qū)域為掃描修補區(qū)域，所述白缺陷完全位于所述掃描修補區(qū)域內(nèi)；采用激光氣相沉積方式在所述掃描修補區(qū)域內(nèi)從所述修補起點掃描修補至所述修補終點，使所述白缺陷表面完全覆蓋修補薄膜完成所述修補。本發(fā)明實施例的激光氣相沉積方式修補白缺陷的方法，通過掃描修補的方式，可以修補大尺寸的白缺陷。
【IPC分類】C23C16-44, C23C14-28
【公開號】CN104746041
【申請?zhí)枴緾N201510097968
【發(fā)明人】張俊, 李躍松
【申請人】深圳清溢光電股份有限公司
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2015年3月4日