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一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架的制作方法

文檔序號(hào):40390186發(fā)布日期:2024-12-20 12:13閱讀:8來(lái)源:國(guó)知局
一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架的制作方法

本技術(shù)涉及原子層氣相沉積,具體為一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架。


背景技術(shù):

1、ald(atomic?layer?deposition)即原子層氣相沉積技術(shù),指通過(guò)將氣相前軀體脈沖交替的通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成薄膜的一種技術(shù)。ald沉積的薄膜,致密性好,折射率好,膜厚均勻性好,可以實(shí)現(xiàn)360度任何不規(guī)則基體表面均勻沉積,膜厚可控。但是也存在一些缺點(diǎn),比如沉積速度太慢,單次生產(chǎn)產(chǎn)品數(shù)量少。為了使沉積效率提高,薄膜質(zhì)量更好,外觀(guān)無(wú)缺陷,購(gòu)買(mǎi)的原子層氣相沉積設(shè)備有一部分會(huì)進(jìn)行內(nèi)部改造,而改造后的設(shè)備需要同時(shí)改進(jìn)產(chǎn)品載具。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種適合改造后的原子層氣相沉積設(shè)備使用的,提高生產(chǎn)效率,提升單次生產(chǎn)時(shí)的產(chǎn)品承載量的同時(shí)保證質(zhì)量的原子層氣相沉積設(shè)備用片架。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:

3、一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,所述的原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔,所述的片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體;所述的工作腔頂部設(shè)有卡槽,所述的工作腔底部設(shè)有出氣口及勻氣網(wǎng);所述的封頂蓋設(shè)于片架本體上方并與片架本體固定連接,所述的封頂蓋上表面設(shè)有與卡槽配合的卡鎖扣,所述的卡鎖扣與卡槽可滑動(dòng)連接;所述的片架本體設(shè)有多層載盤(pán),所述的載盤(pán)上設(shè)置若干適合晶圓形狀的承載槽,所述的承載槽中部貫穿載盤(pán),相鄰兩層載盤(pán)之間設(shè)有進(jìn)氣空間。

4、本方案設(shè)備腔室改造后,分真空腔和真空反應(yīng)腔,即外腔和內(nèi)腔(工作腔),外腔空間增大,內(nèi)腔可自如拆卸更換,但是內(nèi)腔改造后形狀發(fā)生變化,由圓形變?yōu)榫匦危呅?,梯形等;?nèi)腔上蓋呈懸吊式,腔室上蓋內(nèi)側(cè)留有懸掛治具的卡槽,因此設(shè)計(jì)了對(duì)應(yīng)的樣品裝載治具(片架),由于多方面考慮工藝的良率和效率,需要設(shè)計(jì)一種與改造后的設(shè)備腔室相匹配的沉積時(shí)樣品裝片專(zhuān)用的治具,并且整體必須呈懸吊狀,片架是一種比較合適的裝載治具,片架可通過(guò)封頂蓋與卡槽連接并懸吊在工作腔內(nèi),片架設(shè)置的多層載盤(pán)可承載大量產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行生產(chǎn),工作時(shí)氣體從工作腔底部進(jìn)入并通過(guò)勻氣網(wǎng)均勻分布到工作腔內(nèi),保證沉積薄膜質(zhì)量。

5、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案,所述的片架本體設(shè)有四根螺柱,所述的載盤(pán)設(shè)有與四根螺柱配合的通孔,多個(gè)所述的載盤(pán)上下分層并串接固定在螺柱上。本方案的載盤(pán)可按照需要的數(shù)量合理分配,同時(shí)串接固定在螺柱上保證生產(chǎn)過(guò)程中載盤(pán)不晃動(dòng)。

6、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案,所述的載盤(pán)一側(cè)側(cè)面上設(shè)有多根均勻分布的隔離柱,與封頂蓋相鄰的載盤(pán)及相鄰的兩個(gè)載盤(pán)之間由隔離柱相互間隔形成進(jìn)氣空間。本方案的進(jìn)氣空間可保證每層載盤(pán)上的晶圓等產(chǎn)品表面有足夠的氣體沉積空間,保證產(chǎn)品良率。

7、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案,所述的工作腔頂部設(shè)有卡條,所述的卡條設(shè)有通長(zhǎng)的t形卡槽,所述的卡鎖扣為t形條,所述的片架本體通過(guò)卡鎖扣懸吊在卡條上。本方案t形卡槽與t形條的配合,既方便卡鎖扣的移動(dòng),也能保證片架位于工作腔中心的同時(shí)不晃動(dòng)。

8、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案,所述的片架材質(zhì)為鋁合金。

9、本方案提供了一種ald設(shè)備改造后專(zhuān)用的薄膜沉積時(shí)裝載樣品的片架,適合改造后的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn);設(shè)備方面不同于原始結(jié)構(gòu)的地方在于,原始購(gòu)買(mǎi)回來(lái)的設(shè)備只有一個(gè)腔室,圓形尺寸為6寸,裝載樣品時(shí)具有對(duì)應(yīng)的載盤(pán),用單獨(dú)的機(jī)械手臂拖住載盤(pán)直接放入真空腔室,內(nèi)有三根直徑為5毫米的頂針撐住載盤(pán),后開(kāi)始薄膜沉積,載盤(pán)最多可容納3個(gè)樣品,一次只能傳送一個(gè)載盤(pán)進(jìn)入腔室等待薄膜沉積完畢,并且進(jìn)氣方式由下至上無(wú)勻氣網(wǎng),對(duì)于光學(xué)產(chǎn)品來(lái)說(shuō)外觀(guān)要求嚴(yán)格,進(jìn)氣方式會(huì)影響外觀(guān),呈現(xiàn)不均勻顏色分布,并且取片溫度必須降低至常溫,否則將會(huì)損傷傳送系統(tǒng);對(duì)購(gòu)買(mǎi)回來(lái)的設(shè)備進(jìn)行改造,對(duì)應(yīng)的樣品裝載治具也需要單獨(dú)設(shè)計(jì)制造,改造后的設(shè)備增加一個(gè)外腔,再將6寸的真空腔改為30mm×50mm的矩形內(nèi)腔室,內(nèi)腔室攜帶水平進(jìn)氣勻氣網(wǎng),取消傳送系統(tǒng),改用鋁制傳輸板運(yùn)載片架,本發(fā)明裝載樣品的片架,完全符合改造后的腔室,不同于原始載盤(pán)的地方在于,每層呈矩形盤(pán)狀結(jié)構(gòu),樣品槽中間懸空,對(duì)于需要單面形成薄膜的樣品,樣品槽內(nèi)可放置兩塊背靠背的樣品,從而可放置大量生產(chǎn)產(chǎn)品,層與層中間留有間隙,有4顆螺釘支撐,與腔室勻氣網(wǎng)相輔相成,留間隙是方便氣體進(jìn)入,避免產(chǎn)品外觀(guān)缺陷,改善成膜質(zhì)量,材質(zhì)為鋁合金散熱快,取片時(shí)可忽略溫度,不會(huì)損傷傳送系統(tǒng)和片架,片架最上層加封頂層,并且做有配合腔室上蓋內(nèi)側(cè)卡槽的卡鎖,整體結(jié)構(gòu)為了避免晃動(dòng),四周有圓柱狀螺釘連接封頂層整體貫穿牢牢鎖住,整體結(jié)構(gòu)呈矩形體,以空間懸吊式置于工作腔室內(nèi),上蓋蓋上后正處于腔室正中心空間位置,協(xié)助改造后的設(shè)備進(jìn)行薄膜沉積,有效提高產(chǎn)品良率和生產(chǎn)效率,最重要的是可以成為改造后的設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)的專(zhuān)屬配件,不會(huì)造成設(shè)備浪費(fèi)。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:相比原有載盤(pán)靈活性更高,功能更強(qiáng),載盤(pán)可以減少和增加數(shù)量,屬于組合型片架,可靈活制造多種不規(guī)則形狀片架,并且可以兼顧不同形狀的產(chǎn)品使用,允許大量產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行加工生產(chǎn)。



技術(shù)特征:

1.一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,其特征在于:所述的原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔,所述的片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,其特征在于:所述的片架本體設(shè)有四根螺柱,所述的載盤(pán)設(shè)有與四根螺柱配合的通孔,多個(gè)所述的載盤(pán)上下分層并串接固定在螺柱上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,其特征在于:所述的載盤(pán)一側(cè)側(cè)面上設(shè)有多根均勻分布的隔離柱,與封頂蓋相鄰的載盤(pán)及相鄰的兩個(gè)載盤(pán)之間由隔離柱相互間隔形成進(jìn)氣空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,其特征在于:所述的工作腔頂部設(shè)有卡條,所述的卡條設(shè)有通長(zhǎng)的t形卡槽,所述的卡鎖扣為t形條,所述的片架本體通過(guò)卡鎖扣懸吊在卡條上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,其特征在于:所述的片架材質(zhì)為鋁合金。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架,原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔,片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體;工作腔頂部設(shè)有卡槽,工作腔底部設(shè)有出氣口及勻氣網(wǎng);封頂蓋設(shè)于片架本體上方并與片架本體固定連接,封頂蓋上表面設(shè)有與卡槽配合的卡鎖扣,卡鎖扣與卡槽可滑動(dòng)連接;片架本體設(shè)有多層載盤(pán),載盤(pán)上設(shè)置若干適合晶圓形狀的承載槽,承載槽中部貫穿載盤(pán),相鄰兩層載盤(pán)之間設(shè)有進(jìn)氣空間。本技術(shù)相比原有載盤(pán)靈活性更高,功能更強(qiáng),載盤(pán)可以減少和增加數(shù)量,屬于組合型片架,可靈活制造多種不規(guī)則形狀片架,并且可以兼顧不同形狀的產(chǎn)品使用,允許大量產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行加工生產(chǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員:白喜青
受保護(hù)的技術(shù)使用者:杭州邦齊州科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20231205
技術(shù)公布日:2024/12/19
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