本實用新型涉及涂層技術領域，特別涉及涂層生產中的一種靶材真空清洗隔離裝置。

背景技術：

在涂層生產過程中，通常先抽真空，加熱，再清洗靶材，再進行工件離子刻蝕，最后涂層。在清洗靶材時，被涂層的工件已經在設備里面，在真空狀態(tài)及480度溫度下，在靶材表面形成電弧，去除靶材表面一層組織。由于現有的靶材都是敞開式的，靶材前面沒有任何遮擋。從而，在靶材清洗的時候，靶材揮發(fā)產生的物質直接會接觸到工件，雖然靶材清洗干凈了，但是卻產生了工件被靶材清洗所產生的廢料污染的風險。

技術實現要素：

為解決上述技術問題，本實用新型的目的在于提供一種靶材真空清洗隔離裝置，可以保證在靶材清洗時不會污染工件。

為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本實用新型通過以下技術方案實現：一種靶材真空清洗隔離裝置，包括擋板、上支撐結構和下支撐結構，該擋板設置于真空腔體內，所述擋板通過上支撐結構設置于真空腔體的上腔壁上，擋板通過下支撐結構設置于真空腔體的下腔壁上，所述擋板的后方設有靶材，所述上支撐結構包括氣動元件、N極磁鐵和S極磁鐵，真空腔體的上腔壁上開設有開孔，該開孔的上側設有非金屬件，所述N極磁鐵位于非金屬件的上方，該N極磁鐵與氣動元件連接，所述S極磁鐵位于開孔的下方 ，該S極磁鐵與所述擋板的上端相接，所述下支撐結構為一軸承支撐件，該軸承支撐件的內腔為錐形腔，所述擋板的下端設有一連接軸，該連接軸連接于軸承支撐件的內腔中。

進一步的，所述S極磁鐵由半塊強磁鐵和半塊非磁性材料組成。

進一步的，氣動元件與控制系統(tǒng)連接。

本實用新型的有益效果是：在靶材清洗時，氣動元件轉動，通過S極磁鐵和N極磁鐵的強磁性作用，帶動擋板轉動，從而關閉擋板，靶材清洗時揮發(fā)的物質被擋板擋住，留在擋板上，從而不會污染真空腔室以及真空腔室內的工件。靶材清洗完成后，在氣動元件、S極磁鐵和N極磁鐵的配合下，將擋板打開，以進行后續(xù)的涂層加工工序。真空腔室的上腔壁的開孔上通過非金屬件進行密封，不僅保證了真空腔體的密封性，而且非金屬件又不會削弱磁性的強度，隨著時間的延長，不會被磁化，有效保證了N極磁鐵和S極磁鐵的高磁性。另外，本實用新型的上支撐結構的設計，在擋板轉動的過程中，擋板上端以及上支撐結構不與真空腔體的上腔壁接觸，不會產生轉動引起的漏氣風險及磨損問題，有效的保證了腔體的密封性，保證了工件的安全性。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優(yōu)點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

如圖1所示，一種靶材真空清洗隔離裝置，包括擋板1、上支撐結構和下支撐結構，該擋板1設置于真空腔體內，所述擋板1通過上支撐結構設置于真空腔體的上腔壁上，擋板1通過下支撐結構設置于真空腔體的下腔壁上，所述擋板1的后方設有靶材，所述上支撐結構包括氣動元件2、N極磁鐵3和S極磁鐵4，真空腔體的上腔壁上開設有開孔5，該開孔5的上側設有非金屬件6，所述N極磁鐵3位于非金屬件6的上方，該N極磁鐵3與氣動元件2連接，所述S極磁鐵4位于開孔5的下方 ，該S極磁鐵4與所述擋板1的上端相接，所述下支撐結構為一軸承支撐件7，該軸承支撐件7的內腔為錐形腔，所述擋板1的下端設有一連接軸8，該連接軸8連接于軸承支撐件7的內腔中，連接軸8的下端為與軸承支撐件7的錐形腔配合的錐形結構。

進一步說，所述S極磁鐵4由半塊強磁鐵和半塊非磁性材料組成。

進一步說，氣動元件2與控制系統(tǒng)連接。

在靶材清洗時，控制系統(tǒng)控制氣動元件2轉動，并在S極磁鐵4和N極磁鐵3的強磁性作用下，帶動擋板1轉動，從而關閉擋板1，達到開關的作用，靶材清洗時其表面揮發(fā)的物質被擋板1擋住，留在擋板1上，從而不會污染真空腔室以及真空腔室內的工件。靶材清洗完成后，在氣動元件2、S極磁鐵4和N極磁鐵3的配合下，擋板1打開，以進行后續(xù)的涂層加工工序。

真空腔室的上腔壁的開孔5上通過非金屬件6進行密封，不僅保證了真空腔體的密封性，而且非金屬件6又不會削弱磁性的強度，隨著時間的延長，不會被磁化，有效保證了N極磁鐵3和S極磁鐵4的高磁性。另外，本實用新型的上支撐結構的設計，在擋板1轉動的過程中，擋板上端以及上支撐結構不與真空腔體的上腔壁接觸，不會產生轉動引起的漏氣風險及磨損問題，有效的保證了腔體的密封性，防止在高溫下因漏氣造成的工件被氧化的現象發(fā)生，保證了工件的安全性。下支撐結構設計為軸承支撐件7，軸承支撐件7可以便于擋板下端的連接軸8以及擋板1的轉動，且軸承支撐件7的內腔與連接軸8之間存在一定的間隙，可以讓擋板1有一定角度的擺動。軸承支撐件7的內腔為錐形腔，形成錐形支撐，可以減少轉動時的阻力及摩擦力。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。