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一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置的制作方法

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一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置的制造方法

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置。



背景技術(shù):

目前的設(shè)備多弧靶體不能滿足客戶一些高光,鏡光貨品的生產(chǎn)需求,由于原多弧靶體離子濺射量太大,弧蒸發(fā)過(guò)程非常劇烈,除了發(fā)射出電子、離子和少量中性原子外,還有微熔池內(nèi)熔融態(tài)金屬的噴發(fā)。噴射出來(lái)的液滴的直徑能達(dá)到幾十微米,這些液滴會(huì)以“大顆?!钡男问匠练e在膜層中,減少膜層致密,并使薄膜表面粗糙化,這種表面粗糙化體現(xiàn)在PVD產(chǎn)品上的就是我們所說(shuō)的發(fā)霧,白朦的現(xiàn)象。單單控制靶電流也無(wú)法滿足客戶對(duì)產(chǎn)品的生產(chǎn)要求,使產(chǎn)品產(chǎn)生發(fā)霧,白朦的現(xiàn)象,對(duì)品質(zhì)造成影響。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問(wèn)題而提供一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置,解決了背景技術(shù)中提到的問(wèn)題。

為了解決上述問(wèn)題,本實(shí)用新型提供了一種技術(shù)方案:一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置,包括真空室壁和靶體,所述靶體設(shè)在真空室壁上面,其創(chuàng)新點(diǎn)在于:還包括固定座、機(jī)架、螺桿、活動(dòng)螺桿座、密封圈、電機(jī)、密封端蓋、活動(dòng)座一、連接塊一、連接板、導(dǎo)軌一、活動(dòng)座二、連接塊二、支撐架、隔離支架、導(dǎo)軌二和側(cè)隔離網(wǎng);所述機(jī)架位于靶體右側(cè),所述機(jī)架固定連接在真空室壁上面;所述固定座固定連接在機(jī)架左上側(cè);所述螺桿活動(dòng)連接在機(jī)架左上側(cè)內(nèi)部,所述螺桿右端與電機(jī)左側(cè)輸出軸固定連接,所述螺桿左端活動(dòng)連接在固定座右側(cè),所述螺桿上面活動(dòng)連接有活動(dòng)螺桿座;所述電機(jī)固定連接在機(jī)架右側(cè)內(nèi)部,所述電機(jī)左側(cè)輸出軸外圓與所述機(jī)架右側(cè)孔之間設(shè)有密封圈;所述密封端蓋固定連接在機(jī)架右側(cè)內(nèi)部入口處;所述導(dǎo)軌一設(shè)在機(jī)架底部;所述活動(dòng)座一活動(dòng)連接在導(dǎo)軌一右側(cè),所述活動(dòng)座一底部固定連接有連接塊一;所述活動(dòng)座二位于活動(dòng)座一左側(cè),所述活動(dòng)座二活動(dòng)連接在導(dǎo)軌一上,所述活動(dòng)座二底部固定連接有連接塊二,所述活動(dòng)座二上面固定連接在活動(dòng)螺桿座底部;所述連接板上面右側(cè)固定連接在連接塊一底部,所述上面左側(cè)固定連接在連接塊二,所述連接板左端固定連接有支撐架;所述支撐架上面固定連接有隔離支架;所述側(cè)隔離網(wǎng)位于靶體左側(cè),所述側(cè)隔離網(wǎng)固定連接在導(dǎo)軌二左端;所述導(dǎo)軌二位于靶體前后兩側(cè),所述導(dǎo)軌二固定連接在真空室壁上面,所述導(dǎo)軌二上面左右活動(dòng)連接有隔離支架。

作為優(yōu)選,所述電機(jī)為步進(jìn)電機(jī)。

作為優(yōu)選,所述隔離支架側(cè)面和底面均設(shè)有隔離網(wǎng),且隔離網(wǎng)由不銹鋼材料制成。

作為優(yōu)選,所述側(cè)隔離網(wǎng)由不銹鋼材料制成。

本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、安裝方便,功能齊全,對(duì)于一些高光,鏡光貨品的生產(chǎn)時(shí),首先啟動(dòng)電機(jī)從而使螺桿旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)活動(dòng)螺桿座左移,而活動(dòng)螺桿座左移則通過(guò)活動(dòng)座二和連接塊二帶動(dòng)連接板和支撐架左移,而支撐架的左移則使隔離支架中的隔離網(wǎng)罩住靶體,從而減少產(chǎn)品表面上的金屬離子,保障貨品的光澤度,也就進(jìn)一步的大大減少了光明產(chǎn)品的發(fā)朦,發(fā)霧現(xiàn)象,使此類產(chǎn)品品質(zhì)得到了保障,滿足客戶的要求。

附圖說(shuō)明:

為了易于說(shuō)明,本實(shí)用新型由下述的具體實(shí)施及附圖作以詳細(xì)描述。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的局部俯視圖。

圖3為隔離支架的側(cè)視圖。

1-真空室壁;2-靶體;3-固定座;4-機(jī)架;5-螺桿;6-活動(dòng)螺桿座;7-密封圈;8-電機(jī);9-密封端蓋;10-活動(dòng)座一;11-連接塊一;12-連接板;13-導(dǎo)軌一;14-活動(dòng)座二;15-連接塊二;16-支撐架;17-隔離支架;18-導(dǎo)軌二;19-側(cè)隔離網(wǎng)。

具體實(shí)施方式:

如圖1和圖2所示,本具體實(shí)施方式采用以下技術(shù)方案:一種真空鍍膜爐內(nèi)弧源遮蔽裝置,包括真空室壁1和靶體2,所述靶體2設(shè)在真空室壁1上面,還包括固定座3、機(jī)架4、螺桿5、活動(dòng)螺桿座6、密封圈7、電機(jī)8、密封端蓋9、活動(dòng)座一10、連接塊一11、連接板12、導(dǎo)軌一13、活動(dòng)座二14、連接塊二15、支撐架16、隔離支架17、導(dǎo)軌二18和側(cè)隔離網(wǎng)19;所述機(jī)架4位于靶體2右側(cè),所述機(jī)架4固定連接在真空室壁1上面;所述固定座3固定連接在機(jī)架4左上側(cè);所述螺桿5活動(dòng)連接在機(jī)架4左上側(cè)內(nèi)部,所述螺桿5右端與電機(jī)8左側(cè)輸出軸固定連接,所述螺桿5左端活動(dòng)連接在固定座3右側(cè),所述螺桿5上面活動(dòng)連接有活動(dòng)螺桿座6;所述電機(jī)8固定連接在機(jī)架4右側(cè)內(nèi)部,所述電機(jī)8左側(cè)輸出軸外圓與所述機(jī)架4右側(cè)孔之間設(shè)有密封圈7;所述密封端蓋9固定連接在機(jī)架4右側(cè)內(nèi)部入口處;所述導(dǎo)軌一13設(shè)在機(jī)架4底部;所述活動(dòng)座一10活動(dòng)連接在導(dǎo)軌一13右側(cè),所述活動(dòng)座一10底部固定連接有連接塊一11;所述活動(dòng)座二14位于活動(dòng)座一10左側(cè),所述活動(dòng)座二14活動(dòng)連接在導(dǎo)軌一13上,所述活動(dòng)座二14底部固定連接有連接塊二15,所述活動(dòng)座二14上面固定連接在活動(dòng)螺桿座6底部;所述連接板12上面右側(cè)固定連接在連接塊一11底部,所述上面左側(cè)固定連接在連接塊二15,所述連接板12左端固定連接有支撐架16;所述支撐架16上面固定連接有隔離支架17;所述側(cè)隔離網(wǎng)19位于靶體2左側(cè),所述側(cè)隔離網(wǎng)19固定連接在導(dǎo)軌二18左端;所述導(dǎo)軌二18位于靶體2前后兩側(cè),所述導(dǎo)軌二18固定連接在真空室壁1上面,所述導(dǎo)軌二18上面左右活動(dòng)連接有隔離支架17。

其中,所述電機(jī)8為步進(jìn)電機(jī)。

如圖3所示,所述隔離支架17側(cè)面和底面均設(shè)有隔離網(wǎng),且隔離網(wǎng)由不銹鋼材料制成。

其中,所述側(cè)隔離網(wǎng)19由不銹鋼材料制成。

本實(shí)用新型的使用狀態(tài)為:本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、安裝方便,功能齊全,對(duì)于一些高光,鏡光貨品的生產(chǎn)時(shí),首先啟動(dòng)電機(jī)8從而使螺桿5旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)活動(dòng)螺桿座6左移,而活動(dòng)螺桿座6左移則通過(guò)活動(dòng)座二14和連接塊二15帶動(dòng)連接板12和支撐架16左移,而支撐架16的左移則使隔離支架17中的隔離網(wǎng)罩住靶體2,從而減少產(chǎn)品表面上的金屬離子,保障貨品的光澤度,也就進(jìn)一步的大大減少了光明產(chǎn)品的發(fā)朦,發(fā)霧現(xiàn)象,使此類產(chǎn)品品質(zhì)得到了保障,滿足客戶的要求。

以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn),本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下,本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi),本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。

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