1.一種拋光設(shè)備，其特征在于，包括：
機(jī)器人(10)，所述機(jī)器人(10)的驅(qū)動臂(11)上設(shè)置有用于夾持待拋光水槽的夾具體(20)，以夾緊所述水槽并帶動所述水槽進(jìn)行拋光運動；
拋光裝置(30)，所述拋光裝置(30)設(shè)置在所述機(jī)器人(10)的一側(cè)，所述拋光裝置(30)具有用于對所述水槽進(jìn)行拋光的拋光機(jī)(40)；
其中，所述機(jī)器人(10)帶動所述水槽運動至所述拋光機(jī)(40)的打磨頭(41)處，以使所述打磨頭(41)對所述水槽的內(nèi)表面進(jìn)行打磨。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述拋光裝置(30)還包括：
支撐架(33)，所述拋光機(jī)(40)安裝在所述支撐架(33)上，所述支撐架(33)的上端面設(shè)置有滑軌(31)，所述拋光機(jī)(40)沿所述滑軌(31)可移動地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述拋光裝置(30)還包括：
驅(qū)動裝置(32)，所述驅(qū)動裝置(32)與所述拋光機(jī)(40)驅(qū)動連接，以驅(qū)動所述拋光機(jī)(40)沿所述滑軌(31)移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動裝置(32)為驅(qū)動氣缸，所述驅(qū)動氣缸的活塞桿與所述拋光機(jī)(40)驅(qū)動連接，以使所述拋光機(jī)(40)的打磨頭(41)以預(yù)定壓力與所述水槽接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述夾具體(20)具有主體板(21)和用于吸附所述水槽的吸盤(210)，所述吸盤(210)設(shè)置在所述主體板(21)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述夾具體(20)還包括夾持架(22)，所述夾持架(22)與主體板(21)相對設(shè)置，所述夾持架(22)具有供所述水槽穿過的避讓腔，以使所述水槽的底端穿過所述避讓腔后與所述吸盤(210)接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述夾具體(20)還包括連接桿(23)，所述連接桿(23)設(shè)置在所述夾持架(22)與所述主體板(21)之間，以連接所述夾持架(22)和所述主體板(21)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)器人(10)上安裝有真空發(fā)生器(70)，所述真空發(fā)生器(70)與所述吸盤(210)連通以向所述吸盤(210)內(nèi)吸氣。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動臂(11)上設(shè)置有走氣支架(12)，所述真空發(fā)生器(70)與所述吸盤(210)之間的走氣管路定位在所述走氣支架(12)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)器人(10)還包括控制器(13)，所述控制器(13)與所述機(jī)器人(10)的各個臂部連接以通過控制各個所述臂部的運動控制所述水槽的運動軌跡。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述拋光設(shè)備還包括用于放置所述水槽的轉(zhuǎn)臺(51)，所述轉(zhuǎn)臺(51)可轉(zhuǎn)動地設(shè)置以將所述水槽從人工放置區(qū)轉(zhuǎn)移到機(jī)器人夾持區(qū)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述拋光設(shè)備還包括打蠟機(jī)構(gòu)，所述打蠟機(jī)構(gòu)包括蠟筒(60)和與所述蠟筒(60)連通的噴槍，所述噴槍朝向所述拋光機(jī)(40)的打磨頭(41)設(shè)置，以向所述打磨頭(41)噴蠟。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述拋光裝置(30)為多個，多個所述拋光裝置(30)相間隔地設(shè)置，所述機(jī)器人(10)帶動所述水槽依次運動到不同的所述拋光裝置(30)處以分別拋光所述水槽的不同部位。