本發(fā)明屬于機械設備技術領域，具體地涉及一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置。

背景技術：

金屬材料的加工過程包括對該金屬材料表面進行打磨，目前做化學實驗用的大多數(shù)金屬片在實驗前常用砂紙進行人工打磨，但人工打磨的金屬片表面不夠光滑均勻且不能保證表面的氧化膜等銹層全部被除盡，由此會影響實驗的準確性；常用的干磨機雖然能保證打磨的均勻性，但是干磨機產(chǎn)熱會導致待打磨的金屬晶格形狀改變，從而對實驗結果產(chǎn)生影響，因此，需要一款不僅能打磨均勻，且不會影響待打磨金屬晶格形狀發(fā)生改變的打磨處理裝置。

技術實現(xiàn)要素：

為解決上述技術問題，本發(fā)明的目的在于提供了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置，該處理裝置根據(jù)所選金屬片長寬調(diào)節(jié)直線機構底板側面的行程接近開關從而控制第一直線機構及第二直線機構的移動平臺的行程，根據(jù)金屬片厚度調(diào)節(jié)升降機構，直線機構往復運動的同時打磨輪進行打磨，保證了金屬片打磨的均勻性；同時該處理裝置增加了冷卻液循環(huán)系統(tǒng)，用于冷卻金屬表面，減少了待打磨金屬發(fā)熱引起的金屬晶格發(fā)生改變的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明公開了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置，該處理裝置包括第一直線機構、第二直線機構、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機構、升降機構、控制柜和機架，所述機架上安裝有控制柜、升降機構、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)和第一直線機構，所述第一直線機構的第一移動平臺的上端面固定連接第二直線機構的第二底板，所述第二底板的上端面設有第二移動平臺，所述第二移動平臺的上端面安裝有打磨機構的打磨柜，所述打磨機構的打磨臺電機固定在升降機構的升降臺上；

所述冷卻液循環(huán)系統(tǒng)包括水箱，所述水箱通過進水管向打磨機構的打磨柜進水，所述打磨柜內(nèi)部設置的排水管與沉淀箱相連，所述沉淀箱通過連接管與水箱保持內(nèi)部相通。

進一步地，所述第一直線機構包括安裝在機架上的第一底板，所述第一底板的上端面固定有第一固定板和第二固定板，所述第一固定板和第二固定板通過第一底板上端面設置的第一滾珠絲桿和第一直線機構導軌保持相連，所述第一直線機構導軌和第一滾珠絲桿均貫穿設置在第一固定板和第二固定板之間的第一移動平臺。

再進一步地，所述第一底板的同一側面方向上設有行程接近開關一和行程接近開關二，所述行程接近開關一與接近開關支架一的一端固連，所述接近開關支架一的另一端通過t型螺母與第一底板滑動連接，所述行程接近開關二與接近開關支架二的一端固連，所述接近開關支架二的另一端也通過t型螺母與第一底板滑動連接。

更進一步地，所述第二直線機構包括安裝在第一移動平臺上端面的第二底板，所述第二底板的上端面固定有第三固定板和第四固定板，所述第三固定板和第四固定板通過第二底板上端面設置的第二滾珠絲桿和第二直線機構導軌保持相連，所述第二直線機構導軌和第二滾珠絲桿均貫穿設置在第三固定板和第四固定板之間的第二移動平臺。

更進一步地，所述第二底板的同一側面方向上設有行程接近開關三和行程接近開關四，所述行程接近開關三與接近開關支架三的一端固連，所述接近開關支架三的另一端通過t型螺母與第二底板滑動連接，所述行程接近開關四與接近開關支架四的一端固連，所述接近開關支架四的另一端也通過t型螺母與第二底板滑動連接。

更進一步地，所述第一直線機構導軌和第二直線導軌在空間上相互垂直，所述第一滾珠絲桿和第二滾珠絲桿在空間上相互垂直。

更進一步地，所述打磨柜為由第一側面、第二側面、第三側面、第四側面及底面圍合形成的上端開口的方體，在方體內(nèi)部設有與第一側面相貼合的透明罩，在透明罩的凹槽內(nèi)設置有擋水塊，所述擋水塊沿橫向滑軌作往復運動，所述橫向滑軌的兩端分別固定在兩根縱向導軌上安裝的縱向滑塊上，所述兩根縱向導軌通過縱向導軌支撐座分別固定在第二側面和第四側面上。

更進一步地，所述打磨柜的底面上方設有永磁打磨臺，所述永磁打磨臺上方設有打磨輪，所述打磨輪連接打磨桿的一端，所述打磨桿的另一端依次貫穿擋水塊、透明罩，與打磨臺電機相連。

更進一步地，所述升降機構包括固定在機架上的固定架，所述固定架上方設有升降臺托板，所述升降臺托板固定連接升降臺底座，所述升降臺底座分別與兩根第一升降桿和兩根第二升降桿連接，所述兩根第一升降桿和兩根第二升降桿固定支撐升降臺。

更進一步地，所述第一升降桿的一端與升降臺底座鉸接，第一升降桿的另一端與升降臺第二滑塊鉸接，第二升降桿的一端與升降臺底座鉸接，第二升降桿的另一端與升降臺第一滑塊鉸接，第一升降桿和第二升降桿鉸接。

本發(fā)明的金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置的有益效果：

1、本發(fā)明裝置可以根據(jù)所選金屬片長寬來調(diào)節(jié)直線機構底板側面的行程接近開關從而控制第一直線機構及第二直線機構的移動平臺的行程，第一直線機構及第二直線機構不同方向的往復運動，保證了金屬打磨的均勻性；

2、本發(fā)明裝置的升降機構可自由調(diào)節(jié)，進而控制金屬片的厚度；

3、本發(fā)明裝置設置了冷卻液循環(huán)系統(tǒng)，通過對金屬表面的冷卻，減少了待打磨金屬發(fā)熱，引起的金屬晶格發(fā)生改變的問題；

4、本發(fā)明的打磨裝置操作簡單，精度可控，適用于實驗室的實驗操作要求。

附圖說明

圖1、圖2和圖3為本發(fā)明裝置的立體結構示意圖；

圖4為圖1中冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機構和升降機構的結構示意圖；

圖5為圖4中打磨機構的結構示意圖；

其中，圖1、圖2、圖3、圖4、圖5中各標記的標號如下：

第一直線機構：第一底板1.1、第一固定板1.2、第二固定板1.3、第一移動平臺1.4、第一滾珠絲桿1.5、第一直線機構導軌1.6、t型螺母1.7、行程接近開關一1.81、接近開關支架一1.82、行程接近開關二1.83、接近開關支架二1.84、步進電機1.9；

第二直線機構：第二底板2.1、第三固定板2.2、第四固定板2.3、第二移動平臺2.4、第二滾珠絲桿2.5、第二直線機構導軌2.6、行程接近開關三2.71、接近開關支架三2.72、行程接近開關四2.73、接近開關支架四2.74；

打磨機構：打磨柜3.1：第一側面3.11、第二側面3.12、第三側面3.13、第四側面3.14、底面3.15、壓塊3.16、夾具螺母3.17、橫向滑軌3.2、縱向滑塊軸承3.3、縱向導軌3.4、縱向滑塊3.5、縱向導軌支撐座3.6、永磁打磨臺3.7、擋水塊3.8、擋水塊軸承3.81、透明罩3.9、打磨輪3.91、打磨桿3.92、打磨臺聯(lián)軸器3.93、打磨臺電機支架3.94、打磨臺電機3.95、軸承支撐座3.96；

冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水箱4.1、水泵4.2、進水管4.3：進水軟管4.31、進水管支架4.32、排水管4.4、沉淀箱4.5、連接管4.6、過濾器4.7；

升降機構：升降臺立柱5.11、升降臺橫梁5.12、升降臺縱梁5.13、升降臺托板5.2、升降臺底座5.3、第一升降桿5.4、第二升降桿5.5、升降臺5.6、升降臺第一滑塊5.7、升降臺第二滑塊5.8、升降臺絲桿5.9、絲桿螺母5.91、手輪5.92

控制柜6。

具體實施方式

為了更好地解釋本發(fā)明，以下結合具體實施例進一步闡明本發(fā)明的主要內(nèi)容，但本發(fā)明的內(nèi)容不僅僅局限于以下實施例。

本發(fā)明公開了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置，該裝置包括第一直線機構、第二直線機構、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機構、升降機構、控制柜6和機架，如圖1所示，所述機架為方體結構，在機架的底面安裝有圖1所示的控制柜6和第一直線機構，圖2所示的升降機構，圖3所示的冷卻液循環(huán)系統(tǒng)；再次如圖1所示，所述第一直線機構包括固定在機架底面上的第一底板1.1，本實施例的第一底板1.1優(yōu)選為平板，在平板的同一側面方向上設有行程接近開關一1.81和行程接近開關二1.82，所述行程接近開關一1.81與接近開關支架一1.82的一端固連，所述接近開關支架一1.82的另一端通過t型螺母1.7與第一底板1.1滑動連接，所述行程接近開關二1.83與接近開關支架二1.84的一端固連，所述接近開關支架二1.84的另一端也通過t型螺母1.7與第一底板1.1滑動連接，同時，在所述第一底板1.1上還設有距離標識，該距離標識用于衡量行程接近開關一1.81與行程接近開關二1.83之間的距離，進而控制第一移動平臺1.4的行程，實現(xiàn)最終控制需要打磨金屬片的長寬；同時，在所述第一底板1.1的上端面固定有圖1所示的第一固定板1.2和圖2所示的第二固定板1.3，第一固定板1.2和第二固定板1.3相互平行的設置在第一底板1.1的上端面上，并且，所述第一固定板1.2和第二固定板1.3通過第一底板1.1上端面設置的第一滾珠絲桿1.5和第一直線機構導軌1.6(本實施例優(yōu)選為兩根直線機構導軌，但不限于兩根)保持相連，所述第一滾珠絲桿1.5的一端通過角接觸球軸承與第一固定板1.2連接，所述角接觸球軸承的內(nèi)圈設有與第一滾珠絲桿1.5相接觸的滾珠絲桿螺釘，所述第一滾珠絲桿1.5的另一端也通過角接觸球軸承與第二固定板1.3連接，在該角接觸球軸承的內(nèi)圈設有與第一滾珠絲桿1.5相接觸的軸用卡環(huán)，在第一滾珠絲桿1.5的末端還通過聯(lián)軸器連接步進電機1.9，所述步進電機1.9通過步進電機支架固定在第一底板上1.1；同時，第一直線機構導軌1.6通過固定板緊定螺釘固定于第一固定板1.2和第二固定板1.3上，所述第一直線機構導軌1.6和第一滾珠絲桿1.5均貫穿設置在第一固定板1.2和第二固定板1.3之間的第一移動平臺1.4，所述第一移動平臺1.4與第一滾珠絲桿1.5之間通過滾珠絲桿螺母固定相連，所述第一移動平臺1.4與第一直線機構導軌1.6之間通過直線機構直線軸承保持相連。

再次如1所示，所述第一移動平臺1.4的上端面固連第二直線機構的第二底板2.1，本實施例的第二底板2.1也優(yōu)選為平板，在平板的同一側面方向上設有如圖2所示的行程接近開關三2.71和如圖5所示的行程接近開關四2.73，所述行程接近開關三2.71與接近開關支架三2.72的一端固連，所述接近開關支架三2.72的另一端通過t型螺母1.7與第二底板2.1滑動連接，所述行程接近開關四2.73與接近開關支架四2.74的一端固連，所述接近開關支架四2.74的另一端也通過t型螺母1.7與第二底板2.1滑動連接，同時，所述第二底板2.1上還設有距離標識，該距離標識用于衡量行程接近開關三2.71與行程接近開關四2.73之間的距離，進而控制第二移動平臺2.4的行程，實現(xiàn)最終控制需要打磨金屬片的長寬；如圖1所示，所述第二底板2.1的上端面固定有第三固定板2.2和第四固定板2.3，第三固定板2.2和第四固定板2.3相互平行的設置在第二底板2.1的上端面上，并且，所述第三固定板2.2和第四固定板2.3通過第二底板2.1上端面設置的第二滾珠絲桿2.5和第二直線機構導軌2.6(本實施例優(yōu)選為兩根直線機構導軌，但不限于兩根)保持相連，所述第二滾珠絲桿2.5的一端通過角接觸球軸承與第三固定板2.2連接，所述角接觸球軸承的內(nèi)圈設有與第二滾珠絲桿2.5相接觸的滾珠絲桿螺釘，所述第二滾珠絲桿2.5的另一端也通過角接觸球軸承與第四固定板2.3連接，在該角接觸球軸承的內(nèi)圈設有與第二滾珠絲桿2.5相接觸的軸用卡環(huán)，在第二滾珠絲桿2.5的末端還通過聯(lián)軸器連接步進電機1.9，所述步進電機1.9通過步進電機支架固定在第二底板2.1上；同時，第二直線機構導軌2.6通過固定板緊定螺釘固定于第三固定板2.2和第四固定板2.3上，所述第二直線機構導軌2.6和第二滾珠絲桿2.5均貫穿設置在第三固定板2.2和第四固定板2.3之間的第二移動平臺2.4，所述第二移動平臺2.4與第二滾珠絲桿2.5之間通過滾珠絲桿螺母保持相連，所述第二移動平臺2.4與第二直線機構導軌2.6之間通過直線機構直線軸承保持相連。

如圖1所示，所述第一直線機構導軌1.6和第二直線導軌2.6在空間上相互垂直，所述第一滾珠絲桿1.5和第二滾珠絲桿2.5在空間上相互垂直，因此保證了第一移動平臺1.4與第二移動平臺2.4運動方向上的垂直關系。

再次如圖1所示，第二移動平臺2.4的上端面連接打磨機構的打磨柜3.1，結合圖3可知，所述打磨柜3.1為第一側面3.11、第二側面3.12、第三側面3.13、第四側面3.14及底面3.15圍合形成的上端開口的方體，在方體內(nèi)部設有與第一側面3.11相貼合的透明罩3.9，在透明罩3.9的凹槽內(nèi)設置有擋水塊3.8，擋水塊3.8與透明罩3.9緊密貼合，保證冷卻液不會沿第一側面流出，如圖4所示，所述擋水塊3.8可沿橫向滑軌3.2作往復運動(本實施例優(yōu)選擋水塊3.8通過擋水塊軸承3.81安裝在橫向滑軌上)，所述橫向滑軌3.2的兩端分別固定在兩根縱向導軌3.4上安裝的縱向滑塊3.5上(本實施例優(yōu)選縱向滑塊3.5通過縱向滑塊軸承3.3安裝在縱向導軌3.4上)，所述兩根縱向導軌3.4通過縱向導軌支撐座3.6分別固定在第二側面3.12和第四側面3.14上，因此，擋水塊3.8不僅可以沿橫向滑軌3.2作往復運動，還可沿縱向導軌3.4作往復運動。

打磨柜3.1的底面上方設有圖4所示的永磁打磨臺3.7，永磁打磨臺3.7通過壓塊3.16和夾具螺母3.17固定在打磨柜3.1的底面3.15上，如圖3所示，所述永磁打磨臺3.7上方設有打磨輪3.91，所述打磨輪3.91連接打磨桿3.92的一端，所述打磨桿3.92的另一端依次貫穿擋水塊3.8、透明罩3.9，與打磨臺電機3.95相連，打磨桿3.92通過軸承支撐座固定在升降臺5.6上，打磨桿3.92與打磨臺電機3.94通過打磨臺聯(lián)軸器3.93保持相連，打磨臺電機3.94通過打磨臺電機支架固定在升降機構的升降臺5.6上。

冷卻液循環(huán)系統(tǒng)包括圖3所示的水箱4.1，在水箱4.1內(nèi)部安裝有水泵4.2，所述水泵4.2連接圖1所示的進水軟管4.31，進水軟管4.31與進水管4.3相連，且進水管4.3通過進水管支架4.32固定，所述進水管4.3延伸至打磨柜3.1的永磁打磨臺3.7的上方，實現(xiàn)對待打磨金屬的冷卻降溫，冷卻后的廢棄冷卻液經(jīng)打磨柜3.1底部設置的排水管4.4流出，并流入圖3所示的沉淀箱4.5中，廢棄冷卻液中較大的雜質經(jīng)過自然沉降，較小的雜質經(jīng)過連接管4.6上設置的過濾器4.7過濾后沿著連接管4.6重新流入水箱4.1中，完成冷卻液的循環(huán)利用。

升降機構包括升降平臺托板5.2，所述升降平臺托板5.2置于由兩根升降臺橫梁5.12和兩根升降臺縱梁5.13圍合形成的固定架5.1上，所述固定架由四根升降臺立柱5.11固定支撐；所述升降平臺托板5.2上方固定安裝有升降臺底座5.3，所述升降臺底座5.3分別與兩根第一升降桿5.4和兩根第二升降桿5.5連接，所述兩根第一升降桿5.4和兩根第二升降桿5.5用于固定支撐升降臺5.6，其中，第一升降桿5.4的一端與升降臺底座5.3鉸接，第一升降桿5.4的另一端與升降臺第二滑塊5.8鉸接，第二升降桿5.5的一端與升降臺底座5.3鉸接，第二升降桿5.5的另一端與升降臺第一滑塊5.7鉸接，第一升降桿5.4和第二升降桿5.5鉸接，所述升降臺第一滑塊5.7與升降臺絲桿5.9相連接，所述升降臺絲桿5.9的一端通過升降臺軸承與升降臺底座5.3連接，所述升降臺軸承的內(nèi)圈設有與升降臺絲桿5.9相接觸的升降臺絲桿螺釘，所述升降臺絲桿5.9的另一端通過升降臺絲桿螺母與升降臺底座5.3連接。

本發(fā)明的金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置的工作原理：

根據(jù)所選金屬片長寬調(diào)節(jié)直線機構底板側面的行程接近開關從而控制第一直線機構及第二直線機構的移動平臺的行程，根據(jù)金屬片厚度調(diào)節(jié)升降機構，同時該處理裝置的冷卻液循環(huán)系統(tǒng)在金屬打磨時，冷卻液對金屬進行降溫，降溫后的廢棄冷卻液經(jīng)沉淀箱處理后重新流入打磨柜中對金屬進行降溫。

以上實施例僅為最佳舉例，而并非是對本發(fā)明的實施方式的限定。除上述實施例外，本發(fā)明還有其他實施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術方案，均落在本發(fā)明要求的保護范圍。