本發(fā)明實施例涉及顯示器件制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸發(fā)源及真空蒸鍍裝置。

背景技術(shù)：

構(gòu)成有機電致發(fā)光器件的各膜層一般通過蒸鍍形成，目前，蒸鍍過程中使用較廣泛的蒸發(fā)源包括點狀蒸發(fā)源和線狀蒸發(fā)源，蒸發(fā)源具有封入蒸發(fā)材料的坩堝和噴出蒸發(fā)材料的噴嘴，蒸發(fā)材料從加熱的坩堝中蒸發(fā)或升華，氣化的蒸發(fā)材料從噴嘴向設(shè)置于真空腔室內(nèi)的待蒸鍍基板或膜層上噴射形成所需膜層，還可以通過不同圖案的掩膜板形成圖案化的膜層。

但是，經(jīng)過設(shè)置于坩堝上的噴嘴噴射的蒸發(fā)材料一般呈發(fā)散狀，即氣化的蒸發(fā)材料的出射方向沿空間中的各個方向，使得氣化的蒸發(fā)材料在經(jīng)過掩膜板通孔時的方向也各不相同，蒸發(fā)材料形成類似扇面的形狀，在待蒸鍍基板上的待成膜位置周圍存在蒸發(fā)材料的延伸，造成陰影效應(yīng)。以垂直于待蒸鍍基板所在平面的方向為參考方向，蒸發(fā)材料到達掩膜板時的噴射方向偏離所述參考方向的角度越大，待蒸鍍基板上待成膜位置周圍延伸的蒸發(fā)材料越多，陰影效應(yīng)越嚴重，而陰影效應(yīng)會嚴重影響掩膜板開口率的增加，造成不同發(fā)光顏色像素區(qū)域之間出現(xiàn)混色現(xiàn)象，進而影響有機電致發(fā)光器件的顯示質(zhì)量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種蒸發(fā)源及真空蒸鍍裝置，通過蒸鍍部件限定了蒸發(fā)材料的出射方向，使得蒸發(fā)材料在蒸鍍出口的出射方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，減少了待蒸鍍基板上待成膜位置周圍蒸發(fā)材料的延伸，大大改善了陰影效應(yīng)，提高了有機電致發(fā)光器件的顯示質(zhì)量。

一方面，本發(fā)明實施例提供了一種蒸發(fā)源，包括：

至少一個加熱部件，所述加熱部件內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)材料；

蒸鍍部件，所述蒸鍍部件與所述加熱部件連接，包括蒸鍍出口，位于所述蒸鍍部件與所述加熱部件連接位置相對的一端，所述蒸發(fā)材料在所述蒸鍍出口出射的方向垂直于待蒸鍍基板所在平面；

所述蒸鍍部件與每個所述加熱部件之間的夾角均大于等于90°，且小于180°。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種真空蒸鍍裝置，包括前面所述的蒸發(fā)源。

本發(fā)明實施例提供了一種蒸發(fā)源及真空蒸鍍裝置，通過將蒸鍍部件與至少一個內(nèi)部設(shè)置有蒸發(fā)材料的加熱部件連接，設(shè)置蒸鍍部件的蒸鍍出口位于蒸鍍部件與加熱部件連接位置相對的一端，且使蒸鍍部件與每個加熱部件之間的夾角大于等于90°，小于180°，相對于現(xiàn)有技術(shù)中使蒸發(fā)材料直接在加熱部件中加熱氣化后出射，本發(fā)明實施例使加熱部件中的蒸發(fā)材料氣化后先進入與加熱部件連接的蒸鍍部件，且使得蒸發(fā)材料在蒸鍍部件的蒸鍍出口的出射方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，即以垂直于待蒸鍍基板所在平面的方向為參考方向，大大減小了蒸發(fā)材料在蒸鍍出口的出射方向偏離所述參考方向的角度，減少了待蒸鍍基板上待成膜位置周圍蒸發(fā)材料的延伸，進而改善了陰影效應(yīng)，提高了有機電致發(fā)光器件的顯示質(zhì)量。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1所示蒸發(fā)源的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸發(fā)源的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸發(fā)源的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為本發(fā)明實施例提供的另一種蒸鍍部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本發(fā)明實施例提供的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12為本發(fā)明實施例提供的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13為本發(fā)明實施例提供的一種真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明實施例提供了一種蒸發(fā)源，包括至少一個加熱部件和蒸鍍部件，加熱部件內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)材料，蒸鍍部件包括蒸鍍出口，與加熱部件連接，蒸鍍部件的蒸鍍出口位于蒸鍍部件與加熱部件連接位置相對的一端，蒸發(fā)材料在蒸鍍出口出射的方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，蒸鍍部件與每個加熱部件之間的夾角均大于等于90°，且小于180°。

真空蒸鍍使用的蒸發(fā)源具有封入蒸發(fā)材料的坩堝和噴出蒸發(fā)材料的噴嘴，進行真空蒸鍍時，蒸發(fā)材料從加熱的坩堝蒸發(fā)或升華，從噴嘴向設(shè)置于真空腔室內(nèi)的待蒸鍍基板或膜層上噴射氣化的蒸發(fā)材料形成所需膜層，還可以通過不同圖案的掩膜板形成圖案化的膜層。由于氣化的蒸發(fā)材料經(jīng)過噴嘴時的出射方向沿空間中不同方向，形成扇面形狀，即蒸發(fā)材料經(jīng)過掩膜板時的方向并不與待蒸鍍基板垂直，因此在需要成膜位置的周圍，也會形成蒸發(fā)材料形成的膜層，即在待成膜位置的周圍存在蒸發(fā)材料的延伸，造成陰影效應(yīng)。以垂直于待蒸鍍基板所在平面的方向為參考方向，蒸發(fā)材料經(jīng)過蒸鍍出口時的出射方向相對于參考方向的偏離角度越大，成膜位置周圍延伸的蒸發(fā)材料越多，陰影效應(yīng)越嚴重。

本發(fā)明實施例通過將蒸鍍部件與至少一個內(nèi)部設(shè)置有蒸發(fā)材料的加熱部件連接，設(shè)置蒸鍍部件的蒸鍍出口位于蒸鍍部件與加熱部件連接位置相對的一端，且使蒸鍍部件與每個加熱部件之間的夾角大于等于90°，小于180°，相對于現(xiàn)有技術(shù)中蒸發(fā)材料直接在加熱部件中加熱氣化后出射，在加熱部件中的蒸發(fā)材料氣化后，沒有直接使氣化的蒸發(fā)材料從加熱部件中出射以用于蒸鍍，而是使蒸發(fā)材料先進入與加熱部件呈[90°，180°)角度連接的蒸鍍部件，利用蒸鍍部件對蒸發(fā)材料的出射方向進行了限制，并設(shè)置蒸發(fā)材料在蒸鍍部件的蒸鍍出口的出射方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，這樣在最大程度上保證了蒸發(fā)材料經(jīng)過掩膜板通孔時的噴射方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，大減少了待蒸鍍基板上待成膜位置周圍蒸發(fā)材料的延伸，進而改善了陰影效應(yīng)，提高了有機電致發(fā)光器件的顯示質(zhì)量。

以上是本發(fā)明的核心思想，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下，所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1所示蒸發(fā)源的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。結(jié)合圖1和圖2，蒸發(fā)源包括加熱部件10和蒸鍍部件11，示例性的，蒸鍍部件11可以是一蒸鍍管路，加熱部件10與蒸鍍部件11連接，加熱部件10內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)材料101，蒸鍍部件11包括蒸鍍出口111，且蒸鍍出口111位于蒸鍍部件11與加熱部件10連接位置相對的一端，蒸發(fā)材料101在蒸鍍出口111的出射方向(如圖2中實線箭頭所示方向)垂直于待蒸鍍基板12所在平面，圖1和圖2示例性地設(shè)置加熱部件10與蒸鍍部件11之間的夾角為90°。

參照圖1和圖2，相對于現(xiàn)有技術(shù)，蒸發(fā)材料101氣化后沒有直接從加熱部件10中出射以用于蒸鍍，而是經(jīng)過蒸鍍部件11到達蒸鍍出口111出射。具體的，從加熱部件10進入蒸鍍部件11的蒸發(fā)材料101仍呈發(fā)散狀，呈發(fā)散狀的蒸發(fā)材料101在蒸鍍部件11側(cè)壁的限制下，在蒸鍍部件11中運動的方向與蒸鍍部件11的延伸方向(即圖1和圖2中的aa’方向)趨于一致，最終使得蒸發(fā)材料101在蒸鍍出口111的出射方向垂直于待蒸鍍基板12所在的平面。需要說明的是，這里的垂直可以認為是近似垂直。在形成圖案化膜層時，一般在蒸發(fā)源與待蒸鍍基板12之間設(shè)置掩膜板(未示出)，且掩膜板平行于待蒸鍍基板12設(shè)置，蒸鍍部件11的設(shè)置能夠使蒸發(fā)材料101在到達掩膜板通孔時的噴射方向垂直于待蒸鍍基板12，相對于現(xiàn)有技術(shù)大大減少了待蒸鍍基板12上待成膜位置蒸發(fā)材料101的延伸，改善了陰影效應(yīng)。

圖1和圖2只是示例性地設(shè)置加熱部件10與蒸鍍部件11之間的夾角為90°，也可以設(shè)置加熱部件10與蒸鍍部件11之間呈(90°，180°)角度設(shè)置，如圖3所示，只要保證加熱部件10與蒸鍍部件11的延伸方向(即圖3中的aa’和bb’方向)不相互平行，相對于現(xiàn)有技術(shù)使蒸發(fā)材料101直接在加熱部件10中直接出射以用于蒸鍍，即可以減少蒸發(fā)材料101在待蒸鍍基板12上待成膜位置周圍的延伸，改善陰影效應(yīng)。本發(fā)明實施例對加熱部件10與蒸鍍部件11之間的夾角不作限定，只要保證二者之間的夾角大于等于90°，小于180°即可。

圖1-圖3只是示例性地設(shè)置蒸發(fā)源包括一個加熱部件10，也可以設(shè)置蒸發(fā)源包括多個加熱部件10，且使每個加熱部件10均與蒸鍍部件11連接。如圖4所示，示例性地設(shè)置蒸發(fā)源包括兩個加熱部件10，可以在每個加熱部件10中放置蒸發(fā)材料101，且每個加熱部件10均與蒸鍍部件11連接。設(shè)置多個加熱部件10，且使每個加熱部件10均與蒸鍍部件11連接，相對于只設(shè)置一個加熱部件10，在進行蒸鍍的過程中，設(shè)置多個加熱部件10能夠均衡蒸鍍部件11中蒸發(fā)材料101產(chǎn)生的壓力，有利于蒸鍍成膜的均勻性。另外，設(shè)置蒸發(fā)源包括多個加熱部件10，可以在不同的加熱部件10中添加不同的蒸發(fā)材料101，實現(xiàn)蒸發(fā)材料101的混合摻雜，即可以實現(xiàn)共蒸鍍。圖4只是示例性的設(shè)置每個加熱部件10與蒸鍍部件11之間的夾角大于90°，小于180°，也可以設(shè)置每個加熱部件10與蒸鍍部件11之間的夾角為90°。

可選的，蒸鍍部件11可以呈長方體設(shè)置，蒸鍍出口111可以呈矩形設(shè)置。如圖5所示，蒸鍍部件11設(shè)置為長方體形狀，則蒸鍍出口111對應(yīng)設(shè)置為矩形?？蛇x的，如圖5所示沿蒸發(fā)材料101的出射方向(cc’方向)，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料101出射方向的截面面積相等，示例性地沿蒸發(fā)材料101出射方向，任意選取圖5所述蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的兩個截面，其截面面積s1＝s2。

可選的，如圖6和圖7所示，沿蒸發(fā)材料101的出射方向，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積也可以逐漸減小。如圖6所示，蒸鍍部件11可以呈類似棱臺的形狀，且沿蒸發(fā)材料出射方向(cc’方向)，任意取圖6所述蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的兩個截面，其截面面積s1>s2。也可以如圖7所示，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向(cc’方向)的截面面積不是連續(xù)減小的，示例性的，蒸鍍部件11沿蒸發(fā)材料的出射方向可以具有兩個面積不同的截面，且截面面積s1>s2。設(shè)置沿蒸發(fā)材料的出射方向，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積逐漸減小，更有利于蒸鍍部件11對蒸發(fā)材料出射方向的限制，保證蒸發(fā)材料在蒸鍍出口111的出射方向能夠最大程度上垂直于待蒸鍍基板12，進一步改善陰影效應(yīng)。

圖1-圖7只是示例性地設(shè)置蒸鍍部件11的蒸鍍出口111呈矩形設(shè)置，也可以設(shè)置蒸鍍部件11呈圓柱體設(shè)置，蒸鍍出口111呈圓形設(shè)置。如圖8所示，蒸鍍部件11呈圓柱體設(shè)置，蒸鍍出口111呈圓形設(shè)置，且沿蒸發(fā)材料的出射方向(cc’方向)，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積可以相等，示例性地沿蒸發(fā)材料出射方向，任意取圖8所述蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的兩個截面，其截面面積s1＝s2。

可選的，如圖9和圖10所示，沿蒸發(fā)材料的出射方向，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積也可以逐漸減小。如圖9所示，沿蒸發(fā)材料出射方向(cc’方向)，任意取圖9所述蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的兩個截面，其截面面積s1>s2。也可以如圖10所示，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積不是連續(xù)減小的，示例性的，蒸鍍部件11沿蒸發(fā)材料的出射方向(cc’方向)可以具有兩個面積不同的截面，且截面面積s1>s2。同樣的，設(shè)置沿蒸發(fā)材料的出射方向，蒸鍍部件11垂直于蒸發(fā)材料出射方向的截面面積逐漸減小，更有利于蒸鍍部件11對蒸發(fā)材料出射方向的限制，保證蒸發(fā)材料在蒸鍍出口111的出射方向能夠最大程度上垂直于待蒸鍍基板12，進一步改善陰影效應(yīng)。

需要說明的是，本發(fā)明只是示例性地示出了蒸鍍部件11的蒸鍍出口111呈矩形或圓形的情況，蒸鍍部件11或蒸鍍出口111也可以呈其它形狀設(shè)置，本發(fā)明實施例對此不作限定。本發(fā)明實施例中的蒸發(fā)源可以線狀蒸發(fā)源，也可以是點狀蒸發(fā)源，本發(fā)明實施例對此也不作限定。

可選的，以圖5所示蒸鍍部件11為例，沿蒸發(fā)材料的出射方向蒸鍍部件11的高度為h，沿垂直于蒸發(fā)材料的出射方向，矩形的蒸鍍出口111的邊長的最小值為w，w即為圖5中矩形的蒸鍍出口111的較短邊的邊長，可以設(shè)置h:w≥100:36。具體的，如圖5所示，h和w構(gòu)成圖中所示三角形的兩個直角邊，則該蒸鍍部件11中蒸發(fā)材料的出射方向，相對于圖中的cc’所示方向的最大角度α近似為20°(tan20°近似等于36:100)，即蒸鍍部件11中蒸發(fā)材料的出射方向，相對于圖中的cc’所示方向的角度均小于等于20°。即通過設(shè)置h:w≥100:36，能夠使得蒸鍍部件11最大程度上對蒸發(fā)材料的出射方向進行限制，相對于現(xiàn)有技術(shù)中蒸發(fā)材料呈發(fā)散狀出射，本發(fā)明實施例提供的蒸發(fā)源的蒸發(fā)材料的出射方向可以近似于垂直于待蒸鍍基板所在平面，大大改善了陰影效應(yīng)。

還可以以圖8所示蒸鍍部件11結(jié)構(gòu)為例，則沿蒸發(fā)材料的出射方向蒸鍍部件11的高度為l，沿垂直于蒸發(fā)材料的出射方向，圓形的蒸鍍出口111的直徑為d，可以設(shè)置l:d≥100:36。

可選的，參見圖1-圖4，蒸發(fā)源還可以包括加熱保溫部件13，加熱保溫部件13包裹加熱部件10與蒸鍍部件11的外表面，能夠使加熱部件10與蒸鍍部件11中的溫度大于蒸發(fā)材料101的氣化溫度，并且將溫度保持在蒸發(fā)材料101的氣化溫度以上，防止蒸發(fā)材料101在從加熱部件10向蒸鍍部件11運動的過程中遇冷凝固，阻塞蒸鍍出口111。進一步地，加熱保溫部件13可以使加熱部件10與蒸鍍部件11中的溫度處于[50℃-1000℃]范圍內(nèi)。示例性的，加熱保溫部件13可以包括加熱絲。加熱絲具有成本低廉，加熱速度快的特點，能夠降低本申請蒸發(fā)源的制造成本，提高蒸發(fā)效率。由于加熱保溫部件13能夠使加熱部件10和蒸鍍部件11中的溫度大于蒸發(fā)材料101的氣化溫度，蒸發(fā)材料101可以在加熱保溫部件13的作用下在加熱部件10和蒸鍍部件11中的以氣態(tài)的形式存在，以實現(xiàn)蒸鍍功能。

需要說明的是，不同蒸發(fā)材料101的氣化溫度不同，本發(fā)明實施例對蒸發(fā)材料101的種類不作限定，只要保證加熱保溫部件13能夠使加熱部件10和蒸鍍部件11中的溫度大于蒸發(fā)材料101的氣化溫度即可。

可選的，參見圖1-圖4，每個加熱部件10上還可以設(shè)置有蒸發(fā)材料添加窗口部件14，蒸發(fā)材料添加窗口部件14可以在更換或添加蒸發(fā)材料101時開啟，在更換或添加蒸發(fā)材料101后關(guān)閉。示例性的，蒸發(fā)材料添加窗口部件14可以設(shè)置于每個加熱部件10與蒸鍍部件11連接位置相對的一側(cè)，方便蒸發(fā)材料101的更換或添加。將蒸發(fā)材料添加窗口部件14設(shè)置在加熱部件10與蒸鍍部件11連接位置相對的一側(cè)，而沒有將蒸發(fā)材料添加窗口部件14設(shè)置在加熱部件10與蒸鍍部件11的連接位置處，避免了蒸發(fā)材料101向蒸鍍出口111的運動路徑上出現(xiàn)密封不嚴的缺陷。

可選的，如圖11和圖12所示，蒸發(fā)源可以為線狀蒸發(fā)源，加熱部件10中的蒸發(fā)材料101沿線狀蒸發(fā)源的延伸方向設(shè)置，可以是采用圖11所示的方式，將蒸發(fā)材料101連續(xù)地，沿線狀蒸發(fā)源的延伸方向(dd’方向)設(shè)置，也可以采用圖12所示的方式，沿線狀蒸發(fā)源的延伸方向(dd’方向)，間隔地設(shè)置蒸發(fā)材料101，使加熱部件10中的蒸發(fā)材料101沿線狀蒸發(fā)源的延伸方向設(shè)置能夠有效提高待蒸鍍基板12上成膜的均勻性。

需要說明的是，本發(fā)明實施例附圖只是示例性地示出了各元件的大小，并不代表實際尺寸。

本發(fā)明實施例通過將蒸鍍部件11與至少一個內(nèi)部設(shè)置有蒸發(fā)材料101的加熱部件10連接，設(shè)置蒸鍍部件11的蒸鍍出口111位于蒸鍍部件11與加熱部件10連接位置相對的一端，且使蒸鍍部件11與每個加熱部件10之間的夾角大于等于90°，小于180°，相對于現(xiàn)有技術(shù)中使蒸發(fā)材料101直接在加熱部件10中加熱氣化后出射，本發(fā)明實施例在加熱部件10中的蒸發(fā)材料101氣化后，沒有直接使氣化的蒸發(fā)材料101從加熱部件10中出射以用于蒸鍍，而是使蒸發(fā)材料101先進入與加熱部件10呈[90°，180°)角度連接的蒸鍍部件11，利用蒸鍍部件11對蒸發(fā)材料101的出射方向進行了限制，并設(shè)置蒸發(fā)材料101在蒸鍍部件11的蒸鍍出口111的出射方向垂直于待蒸鍍基板12所在平面，這樣在最大程度上保證了蒸發(fā)材料101經(jīng)過掩膜板通孔時的噴射方向垂直于待蒸鍍基板12所在平面，大減少了待蒸鍍基板12上待成膜位置周圍蒸發(fā)材料101的延伸，進而改善了陰影效應(yīng)，提高了有機電致發(fā)光器件的顯示質(zhì)量。

本發(fā)明實施例還提供了一種真空蒸鍍裝置，包括上述任意實施例中的蒸發(fā)源，還可以包括蒸鍍腔室和待蒸鍍基板。圖13示例性的示出一種真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖13所示，真空蒸鍍裝置包括蒸鍍腔室15、待蒸鍍基板12以及蒸發(fā)源16。進行真空蒸鍍時，示例性的，蒸發(fā)源16可以為線狀蒸發(fā)源，則蒸發(fā)源16可以沿圖13中ee’方向，從蒸鍍基板的一端移動至蒸鍍基板的另一端，在蒸鍍基板上形成所需膜層，可以通過掩膜版形成所需膜層。示例性的，蒸發(fā)源16也可以為點狀蒸發(fā)源，則蒸發(fā)源16可以沿ff’所示的蛇形路徑移動，并噴射蒸發(fā)材料至蒸鍍基板上，可以通過掩膜版形成所需膜層。無論蒸發(fā)源為點狀蒸發(fā)源還是線狀蒸發(fā)源，均能夠保證蒸發(fā)材料在蒸鍍出口的出射方向垂直于待蒸鍍基板所在平面，改善陰影效應(yīng)。

需要說明的是，蒸發(fā)源16也可以依據(jù)其它的移動路徑進行蒸鍍，本發(fā)明實施例對蒸發(fā)源16在蒸鍍過程中的移動路徑不作限定，只要保證蒸發(fā)源16能夠準確形成所需膜層即可，在蒸鍍的過程中，可以通過設(shè)定蒸發(fā)源移動的速度和路徑，提高成膜均勻性。本發(fā)明實施例提供的真空蒸鍍裝置包括上述實施例中的蒸發(fā)源，因此本發(fā)明實施例提供的真空蒸鍍裝置也具備上述實施例中所描述的有益效果，此處不再贅述。

注意，上述僅為本發(fā)明的較佳實施例及所運用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會理解，本發(fā)明不限于這里所述的特定實施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進行各種明顯的變化、重新調(diào)整、相互結(jié)合和替代而不會脫離本發(fā)明的保護范圍。因此，雖然通過以上實施例對本發(fā)明進行了較為詳細的說明，但是本發(fā)明不僅僅限于以上實施例，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實施例，而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。