本發(fā)明涉及顯示器制備技術領域，尤其涉及一種精細掩膜板支撐框架、精細掩膜板及其制備方法。

背景技術：

目前oled(organiclight-emittingdiode，有機發(fā)光二極管)采用真空蒸鍍技術制備有機發(fā)光層。在器件制備過程中，有機材料通過高溫蒸鍍淀積在位于蒸發(fā)源上方的基板上，為使有機材料按照設計蒸鍍到特定的位置上，在基板下方需使用高精度金屬掩膜板，掩膜板(即高精度金屬掩膜板)上留有預先設計好的有效開口區(qū)域，通過該有效開口區(qū)域，有機材料沉積到背板上面，形成預設圖形。金屬掩膜板上有效開口區(qū)域的尺寸、位置的變化會直接影響鍍膜的精度。

如圖1所示，目前精細掩膜板的制作是在掩膜板框架01上分別焊接橫向的遮擋條02和豎向的支撐條03，再在焊有遮擋條02和支撐條03的掩膜板框架01上焊接掩膜條04。遮擋條02的作用是遮擋各個掩膜條04之間的縫隙，支撐條03主要起支撐掩膜條04的作用。

目前的遮擋條和支撐條的焊接都是在掩膜條焊接之前完成的，并且焊接它們時不需要對掩膜框架使用擠壓力，但是在焊接掩膜條的時候，需要用外力使得掩膜條上的開口05達到合適的精度，相應的需要使用擠壓力作用在掩膜板框架上，使得掩膜條焊接后仍然可以受到與焊接前相同的拉力(該拉力為掩膜板框架恢復形變時對其上焊接的掩膜條所產生的力)，以保證掩膜條焊接之前和焊接之后有效開口區(qū)域不變，但是實際生產中設定的對掩膜板框架的擠壓力總是在過大或者過小中波動，導致焊接之前和焊接之后的有效開口區(qū)域位置精度不同，焊接之后的有效開口區(qū)域有時候向內縮(擠壓力設定的過小)，也有時候向外擴張(擠壓力設定的過大)。同時隨著精細掩膜板使用時間越長，已經焊接成型的掩膜條越松弛，精細掩膜板的有效開口區(qū)域變形越大，導致采用該精細掩膜板形成的膜層精度較低。

技術實現要素：

本發(fā)明實施例提供了一種精細掩膜板支撐框架、精細掩膜板及其制備方法，用以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而提高掩膜精度。

為達到上述目的，本發(fā)明提供以下技術方案：

本發(fā)明實施例提供了一種精細掩膜板支撐框架，包括：多個邊框，多個所述邊框圍成掩膜區(qū)域，至少一對相對設置的兩個邊框上設有調節(jié)開口，每個所述調節(jié)開口上設有至少一個調節(jié)件，所述調節(jié)件用于調節(jié)對應的所述調節(jié)開口的形狀以調節(jié)所述掩膜區(qū)域的形變。

本發(fā)明提供的精細掩膜板支撐框架，通過設置的調節(jié)開口和調節(jié)件可以便于改變調節(jié)開口的形變，通過改變調節(jié)開口的形狀可以調節(jié)掩膜區(qū)域的形變。掩膜條在放置在精細掩膜板支撐框架上之前會受到一個拉力，為了使得掩膜條被固定在支撐框架上后，仍可以受到與其被固定前一樣的拉力，會預先給支撐框架一個擠壓力，使得掩膜條固定前和固定后受到的拉力不變。在焊接掩膜條過程中，隨著精細掩膜板所受的擠壓力逐漸減小，精細掩膜板支撐框架將恢復形變，此時精細掩膜板支撐框架會對其上焊接的掩膜條施加拉力，當精細掩膜板支撐框架給掩膜條的拉力與掩膜條在被固定前受到的拉力不平衡時，通過改變調節(jié)開口的形狀可以調節(jié)掩膜區(qū)域的形變，進而可以調節(jié)固定在精細掩膜板支撐框架上的掩膜條所受到的拉力，使得掩膜條在被固定前和固定后所受的拉力相等，進而可以保證掩膜條上的開口的位置精度在焊接前和焊接后相同，提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而可以提高掩膜精度。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)件包括：螺桿和一個鎖緊螺母，所述螺桿的兩端分別與所述調節(jié)開口的第一側壁和第二側壁連接，所述鎖緊螺母位于所述調節(jié)開口內且套裝于所述螺桿，其中所述第一側壁上設有螺紋孔、所述第二側壁上設有孔，所述第一側壁的長度方向、所述第二側壁的長度方向均與所述調節(jié)開口的長度方向相同。通過旋轉螺母可以實現第一側壁和第二側壁中靠近掩膜區(qū)域的一側壁內凹或外張，以實現其上覆蓋的掩膜條所受的拉力，調節(jié)起來較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)件包括：螺桿和兩個鎖緊螺母，所述螺桿的兩端分別與所述調節(jié)開口的第一側壁和第二側壁連接，兩個所述鎖緊螺母位于所述調節(jié)開口內且套裝于所述螺桿，其中所述第一側壁和所述第二側壁上均設有孔，所述第一側壁的長度方向、所述第二側壁的長度方向均與所述調節(jié)開口的長度方向相同。通過旋轉兩個螺母可以實現第一側壁和第二側壁中靠近掩膜區(qū)域的一側壁內凹或外張，以實現其上覆蓋的掩膜條所受的拉力，調節(jié)起來較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)件包括：螺釘，所述螺釘穿過所述調節(jié)開口的第一側壁與所述調節(jié)開口的第二側壁相抵，其中所述第一側壁上設有與所述螺釘配合的螺紋孔，所述第一側壁的長度方向、所述第二側壁的長度方向均與所述調節(jié)開口的長度方向相同，所述第一側壁相對所述第二側壁遠離所述掩膜區(qū)域。通過旋轉螺釘可以實現第一側壁和第二側壁內凹或外張，調節(jié)較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)件包括：螺釘，所述螺釘穿過所述調節(jié)開口的第一側壁與所述調節(jié)開口的第二側壁插合連接，其中所述第一側壁上設有與所述螺釘配合的螺紋孔，所述第二側壁上設有盲孔，所述第一側壁的長度方向、所述第二側壁的長度方向均與所述調節(jié)開口的長度方向相同，所述第一側壁相對所述第二側壁遠離所述掩膜區(qū)域。通過旋轉螺釘可以實現第一側壁和第二側壁內凹或外張，調節(jié)較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)件包括：螺釘，所述螺釘穿過所述調節(jié)開口的第一側壁與所述調節(jié)開口的第二側壁螺紋連接，其中所述第一側壁上設有與所述螺釘配合的通孔，所述第二側壁上設有螺紋孔，所述第一側壁的長度方向、所述第二側壁的長度方向均與所述調節(jié)開口的長度方向相同，所述第一側壁相對所述第二側壁遠離所述掩膜區(qū)域。通過旋轉螺釘可以實現第一側壁和第二側壁內凹或外張，調節(jié)較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)開口的長度大于等于其所在的邊框的長度的二分之一且小于等于其所在的邊框的長度的九分之七。

本發(fā)明還提供了一種精細掩膜板，包括：上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架，以及覆蓋于所述精細掩膜板支撐框架的掩膜區(qū)域上的掩膜條，所述掩膜條與所述精細掩膜板支撐框架相對固定。由于上述精細掩膜板支撐框架可以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，故本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板具有較高的掩膜精度。

在一些可選的實施方式中，所述調節(jié)開口的長度方向與所述掩膜條的長度方向垂直。這樣調節(jié)起來效果較明顯，調節(jié)較方便。

在一些可選的實施方式中，每個所述調節(jié)開口上設有的所述調節(jié)件的個數與所述掩膜條的個數相同。

本發(fā)明還提供了一種精細掩膜板的制備方法，包括：

提供一如上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架；

對所述精細掩膜板支撐框架施加作用力；

將施加有第一拉力的掩膜條固定于所述精細掩膜板支撐框架；

調節(jié)所述調節(jié)件以調節(jié)對應的所述調節(jié)開口的形狀，以使所述掩膜條被固定前和固定后所受到的拉力相同。

在一些可選的實施方式中，在所述提供一上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架和所述對所述精細掩膜板支撐框架施加作用力之間還包括：

通過所述調節(jié)件對所述調節(jié)開口靠近所述掩膜區(qū)域的側壁施加擠壓力。

附圖說明

圖1為現有技術中的精細掩膜板的一種結構示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第一種結構示意圖；

圖3a為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第二種結構的一種狀態(tài)示意圖；

圖3b為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第二種結構的另一種狀態(tài)示意圖；

圖4a為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第三種結構的一種狀態(tài)示意圖；

圖4b為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第三種結構的另一種狀態(tài)示意圖；

圖5a為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第四種結構的一種狀態(tài)示意圖；

圖5b為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第四種結構的另一種狀態(tài)示意圖；

圖6a為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第五種結構的一種狀態(tài)示意圖；

圖6b為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板支撐框架的第五種結構的另一種狀態(tài)示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板的結構示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板的制備流程圖。

附圖標記：

01-掩膜板框架02-遮擋條

03-支撐條04-掩膜條

05-開口11-邊框

12-掩膜區(qū)域13-調節(jié)開口

14-調節(jié)件141-螺桿

142-螺母143-螺釘

2-遮擋條3-支撐條

4-掩膜條5-開口

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明專利保護的范圍。

如圖2所示，本發(fā)明實施例提供了一種精細掩膜板支撐框架，包括：多個邊框11，多個邊框11圍成掩膜區(qū)域12，至少一對相對設置的兩個邊框11上設有調節(jié)開口13，每個調節(jié)開口13上設有至少一個調節(jié)件14，調節(jié)件14用于調節(jié)對應的調節(jié)開口13的形狀以調節(jié)掩膜區(qū)域12的形變。

本發(fā)明提供的精細掩膜板支撐框架，通過設置的調節(jié)開口13和調節(jié)件14可以便于改變調節(jié)開口13的形變，通過改變調節(jié)開口13的形狀可以調節(jié)掩膜區(qū)域12的形變。掩膜條在放置在精細掩膜板支撐框架上之前會受到一個拉力，為了使得掩膜條被固定在支撐框架上后，仍可以受到與其被固定前一樣的拉力，會預先給精細掩膜板支撐框架一個擠壓力，使得掩膜條固定前和固定后受到的拉力不變。在焊接掩膜條過程中，隨著精細掩膜板所受的擠壓力逐漸減小，精細掩膜板支撐框架將恢復形變，此時精細掩膜板支撐框架會對其上焊接的掩膜條施加拉力，當精細掩膜板支撐框架給掩膜條的拉力與掩膜條在被固定前受到的拉力不平衡時，通過改變調節(jié)開口13的形狀可以調節(jié)掩膜區(qū)域12的形變，進而可以調節(jié)固定在精細掩膜板支撐框架上的掩膜條所受到的拉力，使得掩膜條在被固定前和固定后所受的拉力相等，進而可以保證掩膜條上的開口的位置精度在焊接前和焊接后相同，提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而可以提高掩膜精度。

上述調節(jié)件14的具體結構可以有多種：

一種可選的實施方式中，如圖3a和圖3b所示，每個調節(jié)件14包括：螺桿141和一個鎖緊螺母142，螺桿141的兩端分別與調節(jié)開口13的第一側壁和第二側壁連接，鎖緊螺母142位于調節(jié)開口13內且套裝于螺桿141，其中第一側壁上設有螺紋孔、第二側壁上設有孔，第一側壁的長度方向和第二側壁的長度方向均與調節(jié)開口13的長度方向相同。通過旋轉螺母142可以實現第一側壁和第二側壁中靠近掩膜區(qū)域12的一側壁內凹或外張，以實現其上覆蓋的掩膜條所受的拉力的改變，調節(jié)起來較方便。

另一種可選的實施方式中，如圖4a和圖4b所示，每個調節(jié)件14包括：螺桿141和兩個鎖緊螺母142，螺桿141的兩端分別與調節(jié)開口的第一側壁和第二側壁連接，兩個鎖緊螺母142位于調節(jié)開口內且套裝于螺桿141，其中第一側壁和第二側壁上均設有孔，第一側壁的長度方向和第二側壁的長度方向均與調節(jié)開口13的長度方向相同。當固定后的掩膜條處于收縮狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力大于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖4a所示，可以通過調節(jié)兩個鎖緊螺母142使得調節(jié)開口13寬度變窄，使得掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向外擴張(而上下兩側向內收縮)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向外拉的拉力(拉力的方向如圖4a中箭頭所示方向)，使得掩膜條被固定前所受到的拉力和被固定后所受的拉力相同。相反的，當固定后的掩膜條處于拉伸狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力小于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖4b所示，可以通過調節(jié)兩個鎖緊螺母142使得調節(jié)開口13寬度變寬，使得掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向內收縮(而上下兩側向外擴張)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向內的松弛力(松弛力的方向如圖3b中箭頭所示方向)，使得掩膜條的左右兩側收縮，掩膜條松弛，使得掩膜條被固定前所受到的拉力和被固定后所受的拉力相同。通過上述調節(jié)可以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而可以提高掩膜精度。

又一種可選的實施方式中，如圖5a和圖5b所示，每個調節(jié)件14包括：螺釘143，螺釘143穿過調節(jié)開口的第一側壁與調節(jié)開口的第二側壁相抵，其中第一側壁上設有與螺釘143配合的螺紋孔，第一側壁的長度方向和第二側壁的長度方向均與調節(jié)開口13的長度方向相同，第一側壁相對第二側壁遠離掩膜區(qū)域。當固定后的掩膜條處于收縮狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力大于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖5a所示，可以通過旋松螺釘143，螺釘143與第二側壁相抵的作用力減小，使得第二側壁向外擴張，使得掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向外擴張(而上下兩側向內收縮)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向外拉的拉力(拉力的方向如圖5a中箭頭所示方向)，使得掩膜條被固定前所受到的壓力和被固定后所受的壓力相同。相反的，當固定后的掩膜條處于拉伸狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力小于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖5b所示，可以通過旋緊螺釘143，使得螺釘143對第二側壁的作用力增大，第二側壁向內擴張，掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向內收縮(而上下兩側向外擴張)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向內的松弛力(松弛力的方向如圖5b中箭頭所示方向)，使得掩膜條收縮，掩膜條松弛，使得掩膜條被固定前所受到的拉力和被固定后所受的拉力相同。通過上述調節(jié)可以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而可以提高掩膜精度。

又一種可選的實施方式中，每個調節(jié)件14包括：螺釘143，螺釘143穿過調節(jié)開口的第一側壁與調節(jié)開口的第二側壁插合連接，其中第一側壁上設有與螺釘143配合的螺紋孔，第二側壁上設有盲孔，第一側壁的長度方向和第二側壁的長度方向均與調節(jié)開口13的長度方向相同，第一側壁相對第二側壁遠離掩膜區(qū)域。當固定后的掩膜條處于收縮狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力大于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖6a所示，可以通過旋松螺釘143，螺釘143會給第二側壁一個向外的拉力，使得第二側壁向外擴張，使得掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向外擴張(而上下兩側向內收縮)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向外拉的拉力(拉力的方向如圖6a中箭頭所示方向)，使得掩膜條被固定所受到的拉力和被固定后所受的拉力相同。相反的，當固定后的掩膜條處于拉伸狀態(tài)時，即掩膜條被固定前的拉力小于精細掩膜板支撐框架恢復形變時給其上焊接的掩膜條的拉力時，如圖6b所示，可以通過旋緊螺釘143，使得螺釘143擠壓第二側壁，使得調第二側壁向內擴張，使得掩膜區(qū)域12與調節(jié)開口13相鄰的兩側(即圖示方位的左右兩側)向內收縮(而上下兩側向外擴張)，此時精細掩膜板支撐框架會給其上固定的掩膜板一個向內的松弛力(松弛力的方向如圖6b中箭頭所示方向)，使得掩膜條收縮，使得掩膜條被固定前所受到的拉力和被固定后所受的拉力相同。通過上述調節(jié)可以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，進而可以提高掩膜精度。

再一種可選的實施方式中，每個調節(jié)件14包括：螺釘143，螺釘143穿過調節(jié)開口的第一側壁與調節(jié)開口的第二側壁螺紋連接，其中第一側壁上設有與螺釘143配合的通孔，第二側壁上設有螺紋孔，第一側壁的長度方向和第二側壁的長度方向均與調節(jié)開口13的長度方向相同，第一側壁相對第二側壁遠離掩膜區(qū)域。具體的調節(jié)過程如上，通過旋轉螺釘143可以實現第一側壁和第二側壁內凹或外張，調節(jié)較方便。

上述任一實施方式中，調節(jié)件14在調節(jié)時，也可以只讓第一側壁和第二側壁中靠近掩膜區(qū)域12的一側壁發(fā)生形變，而遠離掩膜區(qū)域12的一側壁不產生形變。

為可使得調節(jié)開口13實現更好的調節(jié)作用，可以預先給調節(jié)件14施加一定的作用力，這樣可以通過作用力的增加和減小來更好的達到效果。

為了使得調節(jié)時掩膜區(qū)域12形變明顯些，兩個調節(jié)開口13的長度方向與精細掩膜板支撐框架上固定的掩膜條的長度方向垂直。

為了便于調節(jié)，每個調節(jié)開口上設有的調節(jié)件14的個數與掩膜條的個數相同。

優(yōu)選的，每個調節(jié)開口的長度大于等于其所在的邊框的長度的二分之一且小于等于其所在的邊框11的長度的九分之七。可以在保證精細掩膜板支撐框架的支撐強度的同時，提高精細掩膜板支撐框架的調節(jié)方便性。

需要說明的是兩個調節(jié)開口沿其排列方向上的寬度可以根據需要設定，為了保證精細掩膜板支撐框架的支撐強度，該寬的設置的相對小一些較好，若調節(jié)件14包括螺母，調節(jié)開口的寬度設置可以容納螺母并預留一些螺母調節(jié)時需要的間隙即可。

如圖7所示，本發(fā)明還提供了一種精細掩膜板，包括：上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架，以及覆蓋于精細掩膜板支撐框架的掩膜區(qū)域12上的掩膜條4，掩膜條4與精細掩膜板支撐框架相對固定。由于上述精細掩膜板支撐框架可以提高掩膜板的開口區(qū)域的位置精度，故本發(fā)明實施例提供的精細掩膜板具有較高的掩膜精度。

上述精細掩膜板一般還包括：分別焊接在精細掩膜板支撐框架的橫向上的遮擋條2和豎向的支撐條3，掩膜條上設有多個開口5。

為了使得調節(jié)時掩膜區(qū)域12形變明顯些，兩個調節(jié)開口13的長度方向與掩膜條的長度方向垂直。

為了便于調節(jié)，每個調節(jié)開口上設有的調節(jié)件14的個數與掩膜條的個數相同。

如圖8所示，本發(fā)明還提供了一種精細掩膜板的制備方法，包括：

步驟s801：提供一精細掩膜板支撐框架，該精細掩膜板支撐框架采用上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架。

步驟s802：對精細掩膜板支撐框架施加作用力；

步驟s803：將施加有第一拉力的掩膜條固定于精細掩膜板支撐框架；

步驟s804：調節(jié)調節(jié)件14以調節(jié)對應的調節(jié)開口的形狀，以使掩膜條被固定前和固定后所受到的拉力相同。

上述作用力可以為擠壓力也可以為拉力，當為擠壓力時，外界施力裝置將力作用在調節(jié)開口遠離掩膜區(qū)域的側壁上，當為拉力時，外界施力裝置將力作用在調節(jié)開口靠近掩膜區(qū)域的側壁上。

上述調節(jié)件14在調節(jié)調節(jié)開口時，可以是在所用掩膜條均固定后再調節(jié)，也可以每固定一掩膜條便調節(jié)一次。

進一步的，在步驟s801提供一如上述任一項所述的精細掩膜板支撐框架和步驟s802對所述精細掩膜板支撐框架施加作用力之間還包括：

通過調節(jié)件14對調節(jié)開口靠近掩膜區(qū)域的側壁施加擠壓力。通過預先施加的擠壓力可以使得精細掩膜板支撐框架預先產生一個形變，使得當需要減小或增大掩膜板所受拉力時，便于調節(jié)精細掩膜板支撐框架的形變，提高調節(jié)方便性。

顯然，本領域的技術人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內。