技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種藍(lán)寶石襯底拋光的劃痕控制系統(tǒng)及控制方法，屬于拋光技術(shù)領(lǐng)域。其解決了現(xiàn)有CMP存在的生成效率低和質(zhì)量低等問(wèn)題。本發(fā)明的自動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置分別與拋光機(jī)、冷水機(jī)、溫度傳感器、阻力測(cè)量計(jì)和PH傳感器連接，拋光機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸下連接有拋頭，阻力測(cè)量計(jì)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)軸與拋頭連接處，拋頭的下方為拋光機(jī)的拋光盤，拋光墊粘貼于拋光盤上，拋光墊的上方設(shè)有溫度傳感器和拋光液流液管，溫度傳感器用于檢測(cè)拋光盤加工溫度，拋光液流液管與抽液泵連接，PH傳感器設(shè)置在拋光液灌內(nèi)并檢測(cè)拋光液的PH值；本發(fā)明設(shè)置好工藝條件后啟動(dòng)控制系統(tǒng)并自動(dòng)進(jìn)行藍(lán)寶石襯底片拋光和劃痕控制。本發(fā)明降低了成本，提高了藍(lán)寶石襯底片拋光質(zhì)量和效率。

技術(shù)研發(fā)人員：劉曉強(qiáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：青島鑫嘉星電子科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.28
技術(shù)公布日：2017.07.07