技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種氣相沉積設(shè)備及薄膜的制備方法。其中，氣相沉積設(shè)備包括：機(jī)臺、至少一個的加熱單元以及控制器；其中，所述控制器用于控制所述加熱單元對放置在所述機(jī)臺上的基板的待成膜區(qū)域進(jìn)行加熱，以使所述待成膜區(qū)域達(dá)到氣相沉積的成膜溫度。本發(fā)明的方案可以對基板上的待成膜區(qū)域進(jìn)行精確加熱，使得材料氣體能夠在待成膜區(qū)域處發(fā)生相關(guān)反應(yīng)，以形成薄膜，從而更有效率地使用反應(yīng)材料氣體，避免了不必要的資源浪費(fèi)。此外，由于本實(shí)施例直接對基板待成膜區(qū)進(jìn)行加熱，所以加熱效率以及加熱效果要明顯高于現(xiàn)有的對反應(yīng)材料氣體進(jìn)行加熱的方案，因此對產(chǎn)品的良品率也有一定的提高。

技術(shù)研發(fā)人員：張東徽;劉國冬;馬小葉;馬睿;王梓軒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.27
技術(shù)公布日：2017.07.14